[發(fā)明專利]一種IC塔厭氧沉淀池及其運行工藝在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010797734.2 | 申請日: | 2020-08-10 |
| 公開(公告)號: | CN112358040A | 公開(公告)日: | 2021-02-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 閔根平;張作霖;袁牧英 | 申請(專利權(quán))人: | 江西閔源環(huán)保有限公司 |
| 主分類號: | C02F3/28 | 分類號: | C02F3/28 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 330100 江*** | 國省代碼: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 ic 塔厭氧 沉淀 及其 運行 工藝 | ||
本發(fā)明提供了一種IC塔厭氧沉淀池及其運行工藝,包括主池體、進水孔、導流筒、擋板、泥斗、污泥泵、溢流堰和出水孔,其運行工藝包括以下步驟:步驟一、首先IC塔出水將從進水孔流入,再進入導流筒:步驟二、在導流筒底部設(shè)置一個擋板,將排出污水截住,使其橫向散發(fā),均勻布水:步驟三、而后產(chǎn)生泥水分離的現(xiàn)象,厭氧死泥緩慢沉淀到底部,厭氧死泥通過滑坡流向泥斗中完成收集,約3個小時左右后再開啟污泥泵,由污泥泵將沉淀到泥斗中的厭氧死泥抽走:步驟四、隨后污水則向上升,匯集到溢流堰,通過溢流堰均勻過水,本發(fā)明解決了在IC塔在運行過程中造成的跑泥現(xiàn)象而厭氧死泥會對后續(xù)的工藝中好氧池處理能力造成的影響的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于環(huán)保技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及以一種IC塔厭氧沉淀池及其運行工藝。
背景技術(shù)
IC厭氧塔即內(nèi)循環(huán)厭氧反應器,用于有機廢水的處理,有機廢水在IC厭氧塔內(nèi)循環(huán)流動,IC厭氧塔內(nèi)投放有厭氧微生物,厭氧微生物將有機廢水中的有機物降解成沼氣和無機物,以實現(xiàn)廢水的達標排放,IC厭氧塔廣泛應用于造紙行業(yè),但是現(xiàn)有的IC厭氧塔在運行過程中造成的跑泥現(xiàn)象而厭氧死泥會對后續(xù)的工藝中好氧池處理能力造成的影響。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明旨在提出一種IC塔厭氧沉淀池及其運行工藝,解決IC厭氧塔在運行過程中造成的跑泥現(xiàn)象而厭氧死泥會對后續(xù)的工藝中好氧池處理能力造成的影響的問題。
為達到上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實現(xiàn)的:
一種IC塔厭氧沉淀池,其特征在于,包括池體、進水孔、導流筒、擋板、泥斗、污泥泵、溢流堰和出水孔。
所述的IC塔厭氧沉淀池運行工藝,其中,包括以下步驟:
步驟一、首先IC塔出水將從進水孔流入,然后進入導流筒:
步驟二、在導流筒底部設(shè)置一個擋板,將排出污水截住,使其橫向散發(fā),均勻布水:
步驟三、而后產(chǎn)生泥水分離的現(xiàn)象,厭氧死泥緩慢沉淀到底部,因為存在一定角度的滑坡,厭氧死泥通過滑坡流向泥斗中完成收集,并積累約3個小時左右后再開啟污泥泵,由污泥泵將沉淀到泥斗中的厭氧死泥抽走:
步驟四、隨后污水則向上升,匯集到溢流堰,通過溢流堰均勻過水,然后流向出水孔后至下一個工藝。
所述的IC塔厭氧沉淀池運行工藝,其中,所述污水是從下往上以流速v做豎向流動,污水中的懸浮顆粒死泥有以下三種運動狀態(tài):
S1、當顆粒沉速uv時,則顆粒將以u-v的差值向下沉淀,顆粒得以去除;
S2、當u=v時,顆粒處于隨機狀態(tài),不下沉亦不上升;
S3、當uv時,顆粒將不能沉淀下來,而會被上升水流帶走。
所述的IC塔厭氧沉淀池運行工藝,其中,所述厭氧沉淀池可為圓形或者方形,厭氧沉淀池的直徑或邊長不大于8m,多為4-7m。
所述的IC塔厭氧沉淀池運行工藝,其中,步驟一中所述當導流筒底部不設(shè)
反射板時,其流速不應大于30mm/s, 如設(shè)置反射板,流速可取100mm/s。
所述的IC塔厭氧沉淀池運行工藝,其中,步驟三中所述泥斗角度不小于60°,圓形泥斗角度不小于55°。
所述的IC塔厭氧沉淀池,其中,所述導流筒直徑尺寸大于200mm及以上。
相對于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明所述的IC塔厭氧沉淀池具有以下優(yōu)勢:
(1)解決了在IC塔在運行過程中造成的跑泥現(xiàn)象,避免了厭氧死泥會對后續(xù)的工藝中好氧池處理能力造成的影響,增加了后續(xù)工藝中好氧池的處理效果。
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