[發明專利]一種IC塔厭氧沉淀池及其運行工藝

在審

• 申請號: 202010797734.2
• 申請日: 2020-08-10
• 公開（公告）號: CN112358040A
• 公開（公告）日: 2021-02-12
• 發明（設計）人: 閔根平;張作霖;袁牧英
• 申請（專利權）人: 江西閔源環保有限公司
• 主分類號: C02F3/28
• 分類號: C02F3/28
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種IC塔厭氧沉淀池，其特征在于，包括池體、進水孔、導流筒、擋板、泥斗、污泥泵、溢流堰和出水孔。

2.根據權利要求1所述的IC塔厭氧沉淀池運行工藝，其特征在于，包括以下步驟：

步驟一、首先IC塔出水將從進水孔流入，然后進入導流筒：

步驟二、在導流筒底部設置一個擋板，將排出污水截住，使其橫向散發，均勻布水：

步驟三、而后產生泥水分離的現象，厭氧死泥緩慢沉淀到底部，因為存在一定角度的滑坡，厭氧死泥通過滑坡流向泥斗中完成收集，并積累約3個小時左右后再開啟污泥泵，由污泥泵將沉淀到泥斗中的厭氧死泥抽走：

步驟四、隨后污水則向上升，匯集到溢流堰，通過溢流堰均勻過水，然后流向出水孔后至下一個工藝。

3.根據權利要求2所述的IC塔厭氧沉淀池運行工藝，其特征在于，所述污水是從下往上以流速v做豎向流動，污水中的懸浮顆粒死泥有以下三種運動狀態：

S1、當顆粒沉速uv時，則顆粒將以u-v的差值向下沉淀，顆粒得以去除；

S2、當u=v時，顆粒處于隨機狀態，不下沉亦不上升；

S3、當uv時，顆粒將不能沉淀下來，而會被上升水流帶走。

4.根據權利要求2所述的IC塔厭氧沉淀池運行工藝，其特征在于，所述厭氧沉淀池可為圓形或者方形，厭氧沉淀池的直徑或邊長不大于8m，多為4-7m。

5.根據權利要求2所述的IC塔厭氧沉淀池運行工藝，其特征在于，步驟一

中所述當導流筒底部不設反射板時，其流速不應大于30mm/s， 如設置反射板，流速可取100mm/s。

6.根據權利要求2所述的IC塔厭氧沉淀池運行工藝，其特征在于，步驟三中所述泥斗角度不小于60°，圓形泥斗角度不小于55°。

7.根據權利要求1所述的IC塔厭氧沉淀池，其特征在于，所述導流筒直徑尺寸大于200mm及以上。