[發明專利]柔性基板及其制作方法、顯示面板以及電子設備在審
| 申請號: | 202010797696.0 | 申請日: | 2020-08-10 |
| 公開(公告)號: | CN112002707A | 公開(公告)日: | 2020-11-27 |
| 發明(設計)人: | 李林霜 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L51/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人: | 何輝 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 柔性 及其 制作方法 顯示 面板 以及 電子設備 | ||
1.一種柔性基板,其特征在于,包括:
第一柔性襯底;
多孔膜層,設于所述第一柔性襯底上;
第二柔性襯底,設于所述多孔膜層上;其中所述多孔膜層用于提高所述第一柔性襯底和所述第二柔性襯底之間的黏結力。
2.根據權利要求1所述的柔性基板,其特征在于,所述多孔膜層的材料包括聚酰亞胺/無機物納米雜化材料。
3.根據權利要求2所述的柔性基板,其特征在于,
所述無機物納米雜化材料包括二氧化鈦和二氧化硅中的至少一種。
4.根據權利要求1所述的柔性基板,其特征在于,
所述多孔膜層的分子鏈結構中包括醚鍵和硅氧烷鏈段。
5.根據權利要求1所述的柔性基板,其特征在于,
所述多孔膜層的厚度小于5um。
6.根據權利要求1所述的柔性基板,其特征在于,
所述多孔膜層的耐熱溫度大于500℃。
7.根據權利要求1所述的柔性基板,其特征在于,
所述多孔膜層的孔隙率大于50%。
8.根據權利要求1所述的柔性基板,其特征在于,所述第一柔性襯底的厚度小于所述第二柔性襯底的厚度。
9.一種顯示面板,其特征在于,包括如權利要求1至8任意一項所述的柔性基板。
10.一種電子設備,其特征在于,包括如權利要求9所述的顯示面板。
11.一種柔性基板的制作方法,其特征在于,包括:
在玻璃基板上制作第一柔性襯底;
在所述第一柔性襯底上制作多孔膜層;
在所述多孔膜層上制作第二柔性襯底;其中所述多孔膜層用于提高所述第一柔性襯底和所述第二柔性襯底之間的黏結力;
將所述第一柔性襯底與所述玻璃基板分離。
12.根據權利要求11所述的柔性基板的制作方法,其特征在于,在對所述多孔膜層進行固化的同時,對所述第二柔性襯底也進行固化。
13.根據權利要求12所述的柔性基板的制作方法,其特征在于,所述固化的溫度大于400℃。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





