[發(fā)明專利]一種多菌靈虛擬模板分子印跡聚合物及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010795923.6 | 申請日: | 2020-08-10 |
| 公開(公告)號: | CN112110861B | 公開(公告)日: | 2023-03-28 |
| 發(fā)明(設計)人: | 賈栩超;張名位;張瑞芬;劉磊;池建偉;黃菲;董麗紅;馬勤;趙東 | 申請(專利權(quán))人: | 廣東省農(nóng)業(yè)科學院蠶業(yè)與農(nóng)產(chǎn)品加工研究所 |
| 主分類號: | C07D235/30 | 分類號: | C07D235/30;C08F222/14;C08F220/06;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;C08L35/02 |
| 代理公司: | 廣州科粵專利商標代理有限公司 44001 | 代理人: | 劉明星;朱聰聰 |
| 地址: | 510610 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 靈虛 模板 分子 印跡 聚合物 及其 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種多菌靈虛擬模板分子印跡聚合物及其制備方法。多菌靈虛擬模板分子,化學結(jié)構(gòu)如通式(Ⅲ)所示。本發(fā)明通過化學計算篩選最優(yōu)虛擬模板分子,采用原位聚合法合成多菌靈虛擬模板分子印跡聚合物,得到的聚合物吸附能力明顯優(yōu)于現(xiàn)有的填料,且模板分子廉價易得,易于工業(yè)化放大生產(chǎn)。本發(fā)明提供的方法能夠為植物提取物中多菌靈的脫除提供快捷高效的吸附材料。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于分子印跡聚合物制備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種多菌靈虛擬模板分子印跡聚合物及其制備方法。
背景技術(shù)
植物提取物是以植物為原料,采用適當?shù)娜軇┨崛』蛭锢矸椒ǎㄏ颢@取和富集植物中的有效成分而形成的產(chǎn)品。近年來隨著“回歸自然”的呼聲不斷升溫,植物提取物不斷受到醫(yī)藥、保健品、食品和日化等行業(yè)的廣泛關(guān)注。植物提取物市場規(guī)模呈跳躍式發(fā)展,顯示出巨大的市場發(fā)展?jié)摿ΓA計2022年市場規(guī)模將突破340億元。然而植物提取物的安全問題(農(nóng)藥殘留、重金屬等)日趨嚴重,已然成為行業(yè)發(fā)展亟待解決的重大問題。植提原材料種植過程中農(nóng)藥的濫用以及提取過程中農(nóng)藥的富集導致了最終提取物產(chǎn)品中的農(nóng)藥殘留超標問題,植物提取物中的農(nóng)藥殘留嚴重危害廣大消費者的身體健康,也制約了植提行業(yè)的良性發(fā)展。
多菌靈是苯并咪唑類廣譜高效抗菌劑,可以有效防治真菌引起的多種作物病害,在種植過程中被廣泛使用。然而由于多菌靈的不合理使用加上其殘留期長,致使多菌靈殘留超標現(xiàn)象在多品類多批次的植物提取物中出現(xiàn)。多菌靈會引起肝臟疾病和染色體畸變,嚴重危害人類健康,因此植物提取物中的多菌靈脫除亟待解決。
分子印跡聚合物(molecularly imprinted polymers,MIPs)是采用分子印跡技術(shù)制備的對目標分子具有特異選擇性的聚合物,其具有可預知性、特異選擇性和應用的廣泛性等優(yōu)點。目前分子印跡材料作為固相萃取填料已經(jīng)廣泛應用于農(nóng)藥殘留的分析與脫除。然而MIPs制備仍存在一些問題,傳統(tǒng)的采用目標物作為模板分子制備分子印跡聚合物不可避免的存在模板滲漏現(xiàn)象,對后續(xù)定量分析和檢測造成干擾。采用與目標分子結(jié)構(gòu)相近的化學分子作為虛擬模板進行分子印跡可以有效避免模板滲漏,又可以實現(xiàn)目標物的高效特異性吸附。
發(fā)明內(nèi)容:
本發(fā)明的目的是填補現(xiàn)有多菌靈農(nóng)殘脫除材料的不足,提供一種吸附能力明顯優(yōu)于現(xiàn)有的填料,且模板分子廉價易得,易于工業(yè)化放大生產(chǎn)的多菌靈虛擬模板分子印跡聚合物及其制備方法。
本發(fā)明的第一個目的是提供多菌靈虛擬模板分子化合物,其化學結(jié)構(gòu)如通式(Ⅲ)所示
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其中R1為氫或碳數(shù)小于等于2的烷基;R2為氫或碳數(shù)小于等于2的烷基。
本發(fā)明的第二個目的是提供上述多菌靈虛擬模板分子化合物的制備方法,是將化合物Ⅰ和化合物Ⅱ通過酰化反應制備的得到多菌靈虛擬模板分子化合物;
其化學反應方程式如下:
其中R1為氫或碳數(shù)小于等于2的烷基;R2為氫或碳數(shù)小于等于2的烷基。
本發(fā)明的第三個目的是提供多菌靈虛擬模板分子印跡聚合物的制備方法:
1)將上述多菌靈虛擬模板分子化合物用氯仿溶解,加入功能單體,超聲得到模板-單體復合物;
2)在模板-單體復合物中加入交聯(lián)劑和引發(fā)劑,混合物超聲后氮吹除氧,然后反應,反應停止后濃縮除去溶劑得到聚合物顆粒;
3)將聚合物顆粒用甲醇/乙酸的混合溶劑洗脫,洗脫后的不溶物干燥后得到多菌靈虛擬模板分子印跡聚合物。
優(yōu)選地,步驟1)中的功能單體為甲基丙烯酸;進一步優(yōu)選地,甲基丙烯酸與多菌靈虛擬模板分子化合物的物質(zhì)的量比例為2:1-10:1。所述的超聲為超聲30min。
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