[發明專利]雜芳基胺類化合物的光化學合成方法有效
| 申請號： | 202010793052.4 | 申請日： | 2020-08-10 |
| 公開（公告）號： | CN111732535B | 公開（公告）日： | 2021-03-12 |
| 發明（設計）人： | 張恩選;劉志清;肖毅;盧江平;侯慶龍 | 申請（專利權）人： | 天津凱萊英制藥有限公司 |
| 主分類號： | C07D213/73 | 分類號： | C07D213/73;C07D231/38;C07D239/42;C07D333/36;C07D239/47;C07D239/48 |
| 代理公司： | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人： | 梁文惠 |
| 地址： | 300457 天津市濱海*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 雜芳基胺類 化合物 光化學 合成 方法 | ||
1.一種雜芳基胺類化合物的光化學合成方法，其特征在于，所述光化學合成方法包括：
步驟S1，將包括雜芳基硝基類化合物、溶劑、光催化劑的原料進行混合，得到混合物；
步驟S2，將所述混合物在光照條件下進行光催化還原反應，得到含所述雜芳基胺類化合物的產物體系。
2.根據權利要求1所述的光化學合成方法，其特征在于，所述雜芳基硝基類化合物的結構通式為I或II：
結構通式I 結構通式II
其中，n與m各自獨立地為0或1，Y、Z各自獨立地選自化學上可接受的CR7、N、NR8、O、S中的任意一種，且Y、Z中至少有一個為N、NR8、O、S中的任意一種，R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8各自獨立地選自H、取代或非取代的C1~C20的烷基、取代或非取代的C1~C20的烷氧基、取代或非取代的C6~C20的芳基、鹵素、酯基、羥基、酰胺基、硝基、-CF3、-CHF2中的一種。
3.根據權利要求2所述的光化學合成方法，其特征在于，所述R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8各自獨立地選自取代或非取代的C1~C10的直鏈烷基、取代或非取代的C3~C10的支鏈烷基、取代或非取代的C1~C10的烷氧基、取代或非取代的C6~C10的芳基中的任意一種。
4.根據權利要求3中任一項所述的光化學合成方法，其特征在于，所述R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8各自獨立地選自甲氧基、-Cl、-CHF2中的任意一種。
5.根據權利要求1所述的光化學合成方法，其特征在于，所述溶劑選自C1~C6的醇或C1~C6的醇的水溶液。
6.根據權利要求5所述的光化學合成方法，其特征在于，所述C1~C6的醇選自甲醇、乙醇、乙二醇、異丙醇、正丁醇、叔丁醇、環己醇中的一種或多種。
7.根據權利要求5所述的光化學合成方法，其特征在于，所述C1~C6的醇的水溶液中醇與水的體積比為10: 1~50: 1。
8.根據權利要求1所述的光化學合成方法，其特征在于，所述光催化劑的活性成分為納米二氧化鈦。
9.根據權利要求8所述的光化學合成方法，其特征在于，所述雜芳基硝基類化合物與所述納米二氧化鈦的質量比為1:1~1:5。
10.根據權利要求8所述的光化學合成方法，其特征在于，所述納米二氧化鈦的粒徑為15~200nm。
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