[發明專利]硫化物固態電解質材料及其原料的氣相合成方法及應用有效
| 申請號: | 202010792068.3 | 申請日: | 2020-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN111977681B | 公開(公告)日: | 2023-10-10 |
| 發明(設計)人: | 吳凡;盧普順;李泓 | 申請(專利權)人: | 天目湖先進儲能技術研究院有限公司;長三角物理研究中心有限公司;中國科學院物理研究所 |
| 主分類號: | C01G1/12 | 分類號: | C01G1/12;C01B17/22;C01B25/14;C01B33/00;C01G19/00;C01G28/00;C01G30/00;H01M10/0562;H01M10/052 |
| 代理公司: | 北京慧誠智道知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11539 | 代理人: | 李楠 |
| 地址: | 213300 江蘇省常州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 硫化物 固態 電解質 材料 及其 原料 相合 成方 應用 | ||
1.一種硫化物固態電解質材料的氣相合成方法,其特征在于,所述方法包括:
將Li源,M源按所需比例稱量后進行混合,并將混合后的原料放入加熱爐中;所述Li源包括Li2CO3、Li2O、Li2S、LiOH、LiCl、醋酸鋰、硫酸鋰、硝酸鋰或金屬鋰中的至少一種;所述M源為M元素的單質、氧化物、硫化物中的至少一種,其中,M元素選自元素周期表中的第3周期至第6周期中的第4、5、6、13、14、15族元素中的至少一種;
將S源加入硫源氣體發生裝置中;所述S源包括含S的氣體、含硫有機化合物、多硫化物、硫酸鹽或金屬硫化物中的一種或幾種;
按照載氣發生裝置、氣體流量計、硫源氣體發生裝置、加熱爐、尾氣處理裝置順序連接,組成氣相合成裝置;
利用載氣攜帶含S源的氣體,以設定通氣速率對加熱爐進行一定時長的洗氣;
洗氣結束后,在以設定通氣速率通入含S源的氣體的環境下,將加熱爐以設定的升溫速率升溫至200℃-800℃,保溫設定時長后,再降溫至室溫;
降溫后取出加熱爐中的物質即為硫化物固態電解質。
2.根據權利要求1所述的硫化物固態電解質材料的氣相合成方法,其特征在于,所述M元素具體包括:Sn、Sb、As、P、Si、Ge、Bi中的至少一種;所述M源具體包括:Sn源、Sb源、As源、P源中的至少一種;所述Sn源包括:Sn單質、SnO2、SnS2、SnCl4及其水合物中的至少一種;所述Sb源包括:Sb單質、Sb2O5、Sb2O3、Sb2S5、Sb2S3中的至少一種;所述As源包括:As單質、As2O5、As2O3、As2S5、As2S3中的至少一種;所述P源包括:P單質、P2S3、P2S5、P2O5中的至少一種;Si源包括Si單質、SiO、SiO2、SiS2、SiCl4及其水合物中的至少一種;Ge源包括Ge單質、GeO2、GeS、GeS2、GeCl4及其水合物中的至少一種;Bi源包括Bi單質、Bi2O3、Bi2S3、Bi(OH)3中的至少一種;
所述含S的氣體包括:硫化氫、二氧化硫、三氧化硫、含硫天然氣、硫蒸氣、二硫化碳蒸汽中的至少一種;
所述含硫有機化合物包括:甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫醚、噻吩、乙硫醇、乙硫醚、甲乙硫醚、硫脲中的至少一種;
所述載氣包括N2、CO2、Ar氣中的任一種。
3.根據權利要求1所述的硫化物固態電解質材料的氣相合成方法,其特征在于,所述混合的方式具體包括研缽研磨或機械混合;
所述研缽研磨的研磨時間為10min-120min;
所述機械混合包括采用輥磨機、球磨機、噴磨機進行機械混合,混合時間1小時-8小時。
4.根據權利要求1所述的硫化物固態電解質材料的氣相合成方法,其特征在于,所述一定時長為10min-120min;所述設定時長為10小時-72小時;
所述設定的升溫速率為1℃/min-10℃/min;所述降溫具體為以設定的降溫速率降溫,或者,自然冷卻降溫;其中所述設定的降溫速率為1℃/min-10℃/min;
所述設定通氣速率為1ml/min-30ml/min。
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