[發明專利]一種顯示模組的制作方法、顯示模組及顯示裝置

在審

• 申請號: 202010790902.5
• 申請日: 2020-08-07
• 公開（公告）號: CN111796450A
• 公開（公告）日: 2020-10-20
• 發明（設計）人: 田雪雁;劉明;李良堅;劉政;陳登云;王純陽
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1335;G02B5/28;G02B5/08;G02B1/11;H01L27/32
• 代理公司: 北京潤澤恒知識產權代理有限公司 11319
• 代理人: 李娜

1.一種顯示模組的制作方法，其特征在于，包括：

提供一顯示面板；

在所述顯示面板的出光面上形成反射層；

在所述反射層遠離所述顯示面板的一側形成光學結構；

其中，所述光學結構包括至少一層光學膜層，所述光學膜層被配置為增強藍光的反射率和/或減小黃綠光的反射率；所述光學結構是通過沉積工藝或者一次貼附工藝形成在所述反射層遠離所述顯示面板的一側。

2.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述在所述反射層遠離所述顯示面板的一側形成光學結構的步驟之前，還包括：

形成覆蓋所述反射層的蓋板；

其中，所述光學結構位于所述蓋板上。

3.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述在所述反射層遠離所述顯示面板的一側形成光學結構的步驟之后，還包括：

形成覆蓋所述光學結構的蓋板；

其中，所述光學結構位于所述反射層上。

4.根據權利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述光學膜層為干涉截止濾光膜層、增反膜層或減反膜層中的任意一種。

5.根據權利要求4所述的制作方法，其特征在于，當所述光學膜層為干涉截止濾光膜層時，所述干涉截止濾光膜層包括層疊設置的第一高折射率層、第一低折射率層和第二高折射率層，所述第二高折射率層位于所述第一高折射率層遠離所述顯示面板的一側；

其中，所述第一高折射率層的光學膜厚為λ/8，所述第一低折射率層的光學膜厚為λ4，所述第二高折射率層的光學膜厚為λ/8；λ為入射至所述干涉截止濾光膜層的入射光的波長；

所述第一高折射率層和所述第二高折射率層的厚度均為30nm～60nm，所述第一低折射率層的厚度為90nm～120nm。

6.根據權利要求4所述的制作方法，其特征在于，當所述光學膜層為增反膜層時，所述增反膜層包括層疊設置的第三高折射率層、第二低折射率層和第四高折射率層，所述第四高折射率層位于所述第三高折射率層遠離所述顯示面板的一側；

其中，所述第三高折射率層的光學膜厚為λ/4，所述第二低折射率層的光學膜厚為λ/4，所述第四高折射率層的光學膜厚為λ/4；λ為入射至所述增反膜層的入射光的波長；

所述第三高折射率層和所述第四高折射率層的厚度均為50nm～100nm，所述第二低折射率層的厚度為90nm～120nm。

7.根據權利要求4所述的制作方法，其特征在于，當所述光學膜層為減反膜層時，所述減反膜層包括第五高折射率層；或者，所述減反膜層包括第五高折射率層和第三低折射率層，所述第三低折射率層位于所述第五高折射率層遠離所述顯示面板的一側；

其中，所述第五高折射率層的光學膜厚為λ/4，所述第三低折射率層的光學膜厚為λ/4；λ為入射至所述減反膜層的入射光的波長；

所述第五高折射率層的厚度為50nm～100nm，所述第三低折射率層的厚度為70nm～200nm。

8.一種顯示模組，其特征在于，包括：

顯示面板；

位于所述顯示面板的出光面上的反射層；

位于所述反射層遠離所述顯示面板的一側的光學結構；

其中，所述光學結構包括至少一層光學膜層，所述光學膜層被配置為增強藍光的反射率和/或減小黃綠光的反射率；所述光學結構是通過沉積工藝或者一次貼附工藝形成在所述反射層遠離所述顯示面板的一側。

9.根據權利要求8所述的顯示模組，其特征在于，所述顯示模組還包括蓋板；所述蓋板覆蓋所述反射層，所述光學結構位于所述蓋板上。

10.根據權利要求8所述的顯示模組，其特征在于，所述顯示模組還包括蓋板；所述光學結構位于所述反射層上，所述蓋板覆蓋所述光學結構。

11.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求8至10中任一項所述的顯示模組。