[發(fā)明專利]成膜系統(tǒng)、成膜系統(tǒng)的異常部位判別方法及計(jì)算機(jī)可讀取的存儲介質(zhì)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010789576.6 | 申請日: | 2020-08-07 |
| 公開(公告)號: | CN112342519B | 公開(公告)日: | 2023-09-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鳥瀉光太郎 | 申請(專利權(quán))人: | 佳能特機(jī)株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C14/24;C23C14/04;C23C14/34;C23C14/54;H10K71/10;H10K71/60 |
| 代理公司: | 中國貿(mào)促會專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 11038 | 代理人: | 劉楊 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 系統(tǒng) 異常 部位 判別 方法 計(jì)算機(jī) 讀取 存儲 介質(zhì) | ||
本發(fā)明提供成膜系統(tǒng)、成膜系統(tǒng)的異常部位判別方法及計(jì)算機(jī)可讀取的存儲介質(zhì)。本發(fā)明的成膜系統(tǒng)具有用于隔著掩模對基板進(jìn)行成膜的成膜裝置和用于向所述成膜裝置搬送基板或掩模的搬送裝置,其特征在于,包括:存儲部件,用于存儲與所述成膜裝置的動作以及所述搬送裝置的動作中的至少一個(gè)相關(guān)聯(lián)的至少一個(gè)動作參數(shù);以及判別部件,基于存儲于所述存儲部件的所述至少一個(gè)動作參數(shù),判別所述搬送裝置和/或所述成膜裝置的異常部位。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及成膜系統(tǒng)、成膜系統(tǒng)的異常部位判別方法、計(jì)算機(jī)可讀取的存儲介質(zhì)及存儲于存儲介質(zhì)的計(jì)算機(jī)程序。
背景技術(shù)
最近,作為平板顯示裝置,有機(jī)EL顯示裝置備受關(guān)注。有機(jī)EL?顯示裝置是自發(fā)光顯示器,響應(yīng)速度、視場角、薄型化等特性優(yōu)于液晶面板顯示器,以監(jiān)視器、電視機(jī)、智能手機(jī)為代表的各種便攜終端等迅速地代替現(xiàn)有的液晶面板顯示器。另外,在汽車用顯示器等中,其應(yīng)用領(lǐng)域也正在擴(kuò)大。
構(gòu)成有機(jī)EL顯示裝置的有機(jī)發(fā)光元件(有機(jī)EL元件;OLED)?具有在兩個(gè)相向的電極(陰極電極、陽極電極)之間形成有引起發(fā)光的有機(jī)物層的基本構(gòu)造。有機(jī)EL元件的有機(jī)物層和電極金屬層是通過在成膜裝置的真空腔室內(nèi)隔著形成有像素圖案的掩模在基板上成膜成膜物質(zhì)而制造的。為了按照掩模的像素圖案在基板上高精度地成膜成膜物質(zhì),需要在對基板進(jìn)行成膜前使掩模與基板之間的相對的位置精密地排列。
作為調(diào)整這樣的基板與掩模之間的相對位置的對準(zhǔn)方法,已知有以下的方式,即,在基板和掩模上分別形成位置調(diào)整(對準(zhǔn))用的標(biāo)記,利用設(shè)置于成膜裝置的照相機(jī)對這些對準(zhǔn)標(biāo)記進(jìn)行拍攝,基于其拍攝圖像,調(diào)整基板與掩模的相對位置,以使基板和掩模的各對準(zhǔn)標(biāo)記具有預(yù)先確定的規(guī)定的位置關(guān)系。
而且,在這樣的對準(zhǔn)中,通常在使基板與掩模相互隔離而相向的狀態(tài)下,通過相對移動來調(diào)整基板與掩模之間的水平位置偏離。當(dāng)位置偏離的調(diào)整完成時(shí),使基板相對于掩模相對地下降(或者使掩模相對于基板相對上升),在掩模上加載(載置)位置調(diào)整了的基板。接著,根據(jù)需要使用磁鐵板等使基板與掩模進(jìn)一步貼緊,由此隔著掩模對基板進(jìn)行成膜。
在具有成膜裝置以及向成膜裝置搬送基板的搬送裝置的成膜系統(tǒng)的性能產(chǎn)生問題時(shí),使成膜系統(tǒng)停止并向大氣開放之后,尋找異常部位會花費(fèi)時(shí)間,使生產(chǎn)率降低。特別是在如成膜系統(tǒng)的成膜裝置那樣具有復(fù)雜的構(gòu)造的裝置中,各種要因可能會對性能降低造成影響,因此不容易確認(rèn)在成膜裝置的哪個(gè)部位存在問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種能夠高效地判別成膜系統(tǒng)的異常部位的成膜系統(tǒng)、成膜系統(tǒng)的異常部位判別方法、計(jì)算機(jī)可讀取的存儲介質(zhì)及存儲于存儲介質(zhì)的計(jì)算機(jī)程序。
用于解決課題的技術(shù)手段
本發(fā)明的第1方式的成膜系統(tǒng),其具有用于隔著掩模對基板進(jìn)行成膜的成膜裝置和用于向所述成膜裝置搬送基板或掩模的搬送裝置,其特征在于,該成膜系統(tǒng)包括:存儲部件,用于存儲與所述成膜裝置的動作以及所述搬送裝置的動作中的至少一個(gè)相關(guān)聯(lián)的至少一個(gè)動作參數(shù);以及判別部件,基于存儲在所述存儲部件中的所述至少一個(gè)動作參數(shù),判別所述搬送裝置和/或所述成膜裝置的異常部位。
本發(fā)明的第2方式的成膜系統(tǒng)的異常部位判別方法,該成膜系統(tǒng)具有用于隔著掩模對基板進(jìn)行成膜的成膜裝置和用于向所述成膜裝置搬送基板或掩模的搬送裝置,其特征在于,該成膜系統(tǒng)的異常部位判別方法包括:將與所述成膜裝置的動作以及所述搬送裝置的動作中的至少一個(gè)相關(guān)聯(lián)的至少一個(gè)動作參數(shù)存儲在存儲部件中的步驟;以及基于存儲在所述存儲部件中的所述至少一個(gè)動作參數(shù)的數(shù)據(jù),判別所述搬送裝置和/或所述成膜裝置的異常部位的步驟。
本發(fā)明的第3方式的計(jì)算機(jī)可讀取的存儲介質(zhì),其是存儲有用于使計(jì)算機(jī)執(zhí)行成膜系統(tǒng)的異常部位判別方法的程序的計(jì)算機(jī)可讀取的存儲介質(zhì),其特征在于,所述異常部位判別方法是本發(fā)明的第2方式的方法。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





