[發明專利]成膜系統、成膜系統的異常部位判別方法及計算機可讀取的存儲介質

有效

• 申請號: 202010789576.6
• 申請日: 2020-08-07
• 公開（公告）號: CN112342519B
• 公開（公告）日: 2023-09-22
• 發明（設計）人: 鳥瀉光太郎
• 申請（專利權）人: 佳能特機株式會社
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/24;C23C14/04;C23C14/34;C23C14/54;H10K71/10;H10K71/60
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 劉楊

1.一種成膜系統，其具有用于隔著掩模對基板進行成膜的成膜裝置和用于向所述成膜裝置搬送基板或掩模的搬送裝置，其特征在于，

該成膜系統包括：

存儲部件，用于存儲與所述成膜裝置的動作以及所述搬送裝置的動作中的至少一個相關聯的至少一個動作參數；以及

判別部件，基于存儲在所述存儲部件中的所述至少一個動作參數，判別所述搬送裝置和/或所述成膜裝置的異常部位，

所述成膜裝置包括真空容器和設置在所述真空容器內且用于保持基板的基板保持部件，

所述至少一個動作參數包括基板初始位置偏離量，該基板初始位置偏離量表示由所述搬送裝置搬入到所述成膜裝置的所述真空容器內的基板載置于所述基板保持部件的時刻的初始位置偏離目標位置的程度，

所述成膜裝置包括：第1拍攝部件，用于對支承于所述基板保持部件的基板的第1位置進行拍攝；第2拍攝部件，用于對支承于所述基板保持部件的基板的第2位置進行拍攝；以及載置臺，設置于所述真空容器的大氣側，與基板保持部件連結，

將由所述第1拍攝部件測定出的基板初始位置偏離量和根據使用了所述第2拍攝部件的基板對準工序完成后的所述載置臺的最終位置換算出的基板初始位置偏離量作為第1動作參數以及第2動作參數，存儲在所述存儲部件，

對比基于所述第1動作參數而制作的初始位置偏離量曲線圖和基于所述第2動作參數而制作的初始位置偏離量曲線圖，算出其關聯度，

作為關聯度的算出結果，在判定為兩個曲線圖關聯的情況下，所述判別部件判別為，不是所述成膜裝置存在問題，而是所述搬送裝置存在問題，在判定為兩個曲線圖沒有關聯的情況下，所述判別部件判別為，在成膜裝置存在異常。

2.根據權利要求1所述的成膜系統，其特征在于，

所述基板初始位置偏離量是基板的中心的初始位置偏離量。

3.一種成膜系統，其具有用于隔著掩模對基板進行成膜的成膜裝置和用于向所述成膜裝置搬送基板或掩模的搬送裝置，其特征在于，

該成膜系統包括：

存儲部件，用于存儲與所述成膜裝置的動作以及所述搬送裝置的動作中的至少一個相關聯的至少一個動作參數；以及

判別部件，基于存儲在所述存儲部件中的所述至少一個動作參數，判別所述搬送裝置和/或所述成膜裝置的異常部位，

所述至少一個動作參數包括調整基板相對于掩模的相對位置的相對位置調整的動作后的所述基板的位置，

所述判別部件基于隨著多次進行所述相對位置調整的動作，所述基板的位置收斂于目標位置的程度，判別所述成膜裝置的異常部位，

若判定為收斂，則判別為所述成膜裝置的基板保持部件、平衡缸、冷卻板/磁鐵板沒有異常，

若判定為不收斂，則判定在第幾次的相對位置調整的動作后每個基板的偏差變大，

如果在成膜前測量時每個基板的偏差變大，則判定為冷卻板或磁鐵板存在問題，

不僅在成膜前測量時，而且在其之前的相對位置調整的動作中，在基板的位置的每個基板的偏差大的情況下，判定每個基板的偏差大的方向是X方向還是Y方向，

在Y方向上的偏差較大的情況下，判定為基板保持部件的支承件的高度存在偏差，在X方向上的偏差較大的情況下，判定為基板保持部件的加壓件、平衡缸存在問題。

4.一種成膜系統，其具有用于隔著掩模對基板進行成膜的成膜裝置和用于向所述成膜裝置搬送基板或掩模的搬送裝置，其特征在于，

該成膜系統包括：

存儲部件，用于存儲與所述成膜裝置的動作以及所述搬送裝置的動作中的至少一個相關聯的至少一個動作參數；以及

判別部件，基于存儲在所述存儲部件中的所述至少一個動作參數，判別所述搬送裝置和/或所述成膜裝置的異常部位，

所述至少一個動作參數包括形成于掩模的對準標記間的距離與基準值之差，

將在第2對準期間，由第2拍攝部件測量出的、掩模的對角上的第2掩模對準標記間的實測距離與基準值之差作為動作參數存儲于所述存儲部件，

在每當進行第2對準中的基板與掩模的相對位置測量時，在對角上的第2掩模對準標記間的實測距離與基準值之差產生偏差的情況下，判別為所述第2拍攝部件存在異常。