[發明專利]一種真空蒸鍍系統及真空蒸鍍防爆膜的制作方法在審
| 申請號： | 202010787005.9 | 申請日： | 2020-08-07 |
| 公開（公告）號： | CN111876090A | 公開（公告）日： | 2020-11-03 |
| 發明（設計）人： | 洪立志;盧文輝;豐秀琴;劉浪 | 申請（專利權）人： | 東莞市航達電子有限公司 |
| 主分類號： | C09J7/29 | 分類號： | C09J7/29;C09J7/30;C09J4/02;C09J11/00;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 連云港聯創專利代理事務所(特殊普通合伙) 32330 | 代理人： | 劉剛 |
| 地址： | 523000 廣東省東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 真空 系統 防爆膜 制作方法 | ||
1.一種真空蒸鍍系統及真空蒸鍍防爆膜的制作方法，真空蒸鍍防爆膜包括基材層(1)，其特征在于，于所述的基材層(1)的下表面依次附著阻隔UV的OCA光學膠層(2)和離型膜(3)，于所述的基材層(1)上表面依次附著有電鍍層(4)和PE保護層(5)；
所述的光學膠層(2)采用熱固化光學膠涂層，并且于該光學膠層(2)中加入有抗UV阻隔劑。
2.根據權利要求1所述的一種真空蒸鍍系統及真空蒸鍍防爆膜的制作方法，其特征在于：所述的基材層(1)采用PET光學基材膜，或者TPU光學基材膜。
3.根據權利要求1所述的一種真空蒸鍍系統及真空蒸鍍防爆膜的制作方法，其特征在于：所述的OCA光學膠層(2)中抗紫外線阻隔劑的含量為：5-10％。
4.根據權利要求1所述的一種真空蒸鍍系統及真空蒸鍍防爆膜的制作方法，其特征在于：所述的OCA光學膠層(2)中抗的組分及各組分的重量配比為：
丙烯酸酯86-92％；
抗紫外線阻隔劑5-10％；
改性劑2-8％；
固化劑0.4-0.8％。
5.根據權利要求1所述的一種真空蒸鍍系統及真空蒸鍍防爆膜的制作方法，其特征在于：所述OCA光學膠層(2)能阻隔鐳射激光，阻隔率約為65％，本光學膠層2在貼覆玻璃板4小時后，趨于穩定。
6.根據權利要求1所述的一種真空蒸鍍系統及真空蒸鍍防爆膜的制作方法，其特征在于：與所述產品對應的鐳射雕刻機參數如下：
功率：＜1250W；
脈沖：50/60HZ；
速度：0-400mm/s；
波長：355NM。
7.根據權利要求1所述的一種真空蒸鍍系統及真空蒸鍍防爆膜的制作方法，其特征在于：真空蒸鍍防爆膜的總厚度：250um±5um、基材厚度：50±5um、涂膠厚度：25±5um、離型膜厚度：125±5um、保護膜厚度：50um±5um、粘性：＞17N/inch。
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