[發(fā)明專利]一種檢測待測物濃度的方法、熒光免疫分析儀及存儲介質

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• 申請日: 2020-08-06
• 公開（公告）號: CN111879744A
• 公開（公告）日: 2020-11-03
• 發(fā)明（設計）人: 林貴文;伍海軍;吳華強
• 申請（專利權）人: 深圳市錦瑞生物科技有限公司
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64;G01N33/558;G06T5/00;G06T7/00
• 代理公司: 深圳市六加知識產權代理有限公司 44372
• 代理人: 孟麗平

本發(fā)明實施例涉及免疫層析檢測領域，公開了一種檢測待測物濃度的方法、熒光免疫分析儀及存儲介質，首先對所述熒光圖像進行第一圖像處理，以去除所述熒光圖像層析方向兩側的非熒光區(qū)域，得到第一熒光圖像。在所述第一熒光圖像的基礎上，去除其垂直層析方向兩側的非熒光區(qū)域，得到第二熒光圖像，可以避免垂直層析方向兩側的非熒光區(qū)域對后續(xù)圖像分析計算的干擾，即減少對后續(xù)濃度計算的干擾。也即，通過兩次分步去除非熒光區(qū)域，可準確定位出所述熒光區(qū)域，濃度檢測的準確性高。

技術領域

本發(fā)明實施例涉及免疫層析檢測領域，尤其涉及一種檢測待測物濃度的方法、熒光免疫分析儀及存儲介質。

背景技術

免疫層析技術是建立在層析技術和抗原-抗體特異性免疫反應基礎上的一項新興免疫檢測技術。免疫層析技術以固定有檢測線(T線)和控制線(C線)的條狀纖維層析材料為層析試紙。檢測樣本通過毛細作用在層析試紙上移動，并且在移動的過程中，檢測樣本中的待測物與熒光標記第一抗體結合，形成待測物-第一抗體-熒光素結構，繼續(xù)前行，經過NC膜的T線時，該待測物-第一抗體-熒光素結構中的待測物與設置于T線上的第二抗體發(fā)生特異性結合，被截留、聚集于T線區(qū)域，未與第二抗體發(fā)生結合的第一抗體-熒光素結構隨著游離物繼續(xù)前行至C線區(qū)域，與設置于C線的第三抗體特異性結合，被截留、聚集于C線區(qū)域。由于熒光發(fā)射強度與待測物濃度成正比，通過測量T線處和C線處熒光強度，結合熒光強度與濃度形成的函數預設關系，即可計算出檢測樣本中待測物的濃度。

目前，市場上通常采用圖像傳感器對層析試紙進行圖像采集，并對圖像信號進行分析處理，以獲取T線處熒光強度和C線處熒光強度。然而，針對層析試紙的圖像分析算法，存在熒光區(qū)域定位不準確、去基線處理粗糙等問題，因此，檢測精度低、誤差大。

發(fā)明內容

本發(fā)明實施例主要解決的技術問題是提供一種檢測待測物濃度的方法、熒光免疫分析儀及存儲介質，能夠準確檢測待測物的濃度，檢測誤差小、精確度高。

為解決上述技術問題，第一方面，本發(fā)明實施例中提供給了一種檢測待測物濃度的方法，包括：

獲取熒光免疫層析試紙的熒光圖像；

對所述熒光圖像進行第一圖像處理，獲取第一熒光圖像，其中，所述第一熒光圖像為所述熒光圖像去除其層析方向兩側的非熒光區(qū)域后的熒光圖像；

對所述第一熒光圖像進行第二圖像處理，獲取第二熒光圖像，其中，所述第二熒光圖像為所述第一熒光圖像去除其垂直層析方向兩側的非熒光區(qū)域后的第一熒光圖像；

根據所述第二熒光圖像，獲取所述熒光免疫層析試紙的T線處熒光強度和所述熒光免疫層析試紙的C線處熒光強度；

根據所述T線處熒光強度、所述C線處熒光強度和預設映射關系，確定所述待測物的濃度；

其中，所述預設映射關系包括T線處熒光強度、C線處熒光強度、與濃度的對應關系。

在一些實施例中，所述對所述熒光圖像進行第一圖像處理，獲取第一熒光圖像，包括：

對所述熒光圖像進行降噪處理，所述降噪處理包括第一濾波處理和灰度歸一化處理；

計算降噪處理后的所述熒光圖像中沿層析方向每一行的像素值總和，生成行像素曲線，其中，所述行像素曲線的橫坐標為行序數，所述行像素曲線的縱坐標為所述熒光圖像中每行像素值總和；

獲取所述行像素曲線的峰值；

根據所述行像素曲線的峰值，分別確定行上限和行下限；

確定所述第一熒光圖像為降噪處理后的所述熒光圖像中行上限與行下限之間的區(qū)域。

在一些實施例中，所述根據所述行像素曲線的峰值，分別確定行上限和行下限，包括：

獲取所述行像素曲線的峰值的預設百分比；