[發明專利]一種檢測待測物濃度的方法、熒光免疫分析儀及存儲介質在審
| 申請號: | 202010784791.7 | 申請日: | 2020-08-06 |
| 公開(公告)號: | CN111879744A | 公開(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發明(設計)人: | 林貴文;伍海軍;吳華強 | 申請(專利權)人: | 深圳市錦瑞生物科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/64 | 分類號: | G01N21/64;G01N33/558;G06T5/00;G06T7/00 |
| 代理公司: | 深圳市六加知識產權代理有限公司 44372 | 代理人: | 孟麗平 |
| 地址: | 518106 廣東省深圳市光明新區馬*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 檢測 待測物 濃度 方法 熒光 免疫 分析 存儲 介質 | ||
1.一種檢測待測物濃度的方法,其特征在于,包括:
獲取熒光免疫層析試紙的熒光圖像;
對所述熒光圖像進行第一圖像處理,獲取第一熒光圖像,其中,所述第一熒光圖像為所述熒光圖像去除其層析方向兩側的非熒光區域后的熒光圖像;
對所述第一熒光圖像進行第二圖像處理,獲取第二熒光圖像,其中,所述第二熒光圖像為所述第一熒光圖像去除其垂直層析方向兩側的非熒光區域后的第一熒光圖像;
根據所述第二熒光圖像,獲取所述熒光免疫層析試紙的T線處熒光強度和所述熒光免疫層析試紙的C線處熒光強度;
根據所述T線處熒光強度、所述C線處熒光強度和預設映射關系,確定所述待測物的濃度;
其中,所述預設映射關系包括T線處熒光強度、C線處熒光強度、與濃度的對應關系。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述熒光圖像進行第一圖像處理,獲取第一熒光圖像,包括:
對所述熒光圖像進行降噪處理,所述降噪處理包括第一濾波處理和灰度歸一化處理;
計算降噪處理后的所述熒光圖像中沿層析方向每一行的像素值總和,生成行像素曲線,其中,所述行像素曲線的橫坐標為行序數,所述行像素曲線的縱坐標為所述熒光圖像中每行像素值總和;
獲取所述行像素曲線的峰值;
根據所述行像素曲線的峰值,分別確定行上限和行下限;
確定所述第一熒光圖像為降噪處理后的所述熒光圖像中行上限與行下限之間的區域。
3.根據權利要求2所述的方法,其特征在于,所述根據所述行像素曲線的峰值,分別確定行上限和行下限,包括:
獲取所述行像素曲線的峰值的預設百分比;
根據所述行像素曲線的峰值的預設百分比,在所述行像素曲線中查找出第一下限點,確定所述第一下限點的橫坐標為所述行下限;
其中,所述第一下限點為所述行像素曲線上沿橫坐標的負方向、自波峰首次下降至第一縱坐標值的坐標點,所述第一縱坐標值為所述峰值的所述預設百分比;
根據所述行像素曲線的峰值的預設百分比,在所述行像素曲線中查找出第一上限點,確定所述第一上限點的橫坐標為所述行上限,其中,所述第一上限點為所述行像素曲線上沿橫坐標的正方向、自波峰首次下降至所述第一縱坐標值的坐標點。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述第一熒光圖像進行第二圖像處理,獲取第二熒光圖像,包括:
計算所述第一熒光圖像中沿垂直層析方向每一列的像素值總和,生成列像素曲線,其中,所述列像素曲線的橫坐標為列序數,所述列像素曲線的縱坐標為所述第一熒光圖像中每列像素值總和;
分別獲取所述列像素曲線的第一波峰和第二波峰,其中,所述第一波峰為所述T線在所述列像素曲線中對應的波峰,所述第二波峰為所述C線在所述列像素曲線中對應的波峰;
根據所述第一波峰的峰值,確定列下限;
根據所述第二波峰的峰值,確定列上限;
確定所述第二熒光圖像為所述第一熒光圖像中列下限與列上限之間的區域。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述根據所述第一波峰的峰值,確定列下限,包括:
獲取所述第一波峰的峰值的預設百分比;
根據所述第一波峰的峰值的預設百分比,在所述列像素曲線中查找出第二下限點,確定所述列下限為所述第二下限點的橫坐標與第一預設偏移閾值的差;
其中,所述第二下限點為所述列像素曲線上沿橫坐標的負方向、自所述第一波峰首次下降至第二縱坐標值的坐標點,所述第二縱坐標值為所述第一波峰的峰值的所述預設百分比。
6.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述根據所述第二波峰的峰值,確定列上限,包括:
獲取所述第二波峰的峰值的預設百分比;
根據所述第二波峰的峰值的預設百分比,在所述列像素曲線中查找出第二上限點,確定所述列上限為所述第二上限點的橫坐標與所述第一預設偏移閾值的和;
其中,所述第二上限點為所述列像素曲線上沿著橫坐標的正方向、自所述第二波峰首次下降至第三縱坐標值的坐標點,所述第三縱坐標值為所述第二波峰的峰值的所述預設百分比。
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