[發(fā)明專利]三維斷層攝影檢查裝置及方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010780516.8
• 申請(qǐng)日: 2020-08-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112326600A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-02-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 甄秉友;金泰翰;金珉洙
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社湖碧馳
• 主分類號(hào): G01N21/45
• 分類號(hào): G01N21/45
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 金鮮英;張敬強(qiáng)

本發(fā)明公開(kāi)一種能夠非破壞性地檢查諸如曲面玻璃板(curved glass panel)的三維檢查對(duì)象物的表面及內(nèi)部的三維斷層攝影檢查裝置及方法。所述三維斷層攝影檢查裝包括：兩個(gè)以上的光干涉斷層攝影部(20、30、40)，其對(duì)包括具有以彼此不同的角度設(shè)置的表面的兩個(gè)以上的攝影區(qū)域的檢查對(duì)象物(5)的兩個(gè)以上的攝影區(qū)域分別進(jìn)行斷層攝影，其中，與檢查對(duì)象物(5)的各攝影區(qū)域的表面傾斜角度對(duì)應(yīng)地，測(cè)量光(L)的入射角度各自不同；以及運(yùn)算部(50)，其合成由所述兩個(gè)以上的光干涉斷層攝影部(20、30、40)獲得的影像(6a、6b、6c)的數(shù)據(jù)來(lái)獲得檢查對(duì)象物(5)的整體斷層影像。

相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用

本申請(qǐng)主張2019年8月5日申請(qǐng)的申請(qǐng)?zhí)枮?0-2019-0095112的韓國(guó)專利的優(yōu)先權(quán)，其全部?jī)?nèi)容通過(guò)引用包含于本說(shuō)明書(shū)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種三維斷層攝影檢查裝置及方法，更詳細(xì)而言，涉及一種能夠非破壞性地檢查諸如曲面玻璃板(curved glass panel)的三維檢查對(duì)象物的表面及內(nèi)部的三維斷層攝影檢查裝置及方法。

背景技術(shù)

智能手機(jī)、平板電腦、顯示器等現(xiàn)代電子設(shè)備通過(guò)將合成樹(shù)脂膜、玻璃基板、金屬成分、顏料等各種物質(zhì)層疊為多層來(lái)制造。近來(lái)，隨著電子設(shè)備的高性能化，這種多層層疊產(chǎn)品的結(jié)構(gòu)也趨向超薄膜化、超微細(xì)圖案化、芯片封裝一體化及立體化。在多層層疊產(chǎn)品的各制造步驟中，為了檢查外部異物的流入、破損等產(chǎn)品的不良與否，通常使用提取產(chǎn)品樣品，并破壞樣品來(lái)用肉眼檢查產(chǎn)品有無(wú)異常的破壞性檢查方法。這種方法不但存在需要?dú)p價(jià)昂的半成品或成品的問(wèn)題，還存在不能夠進(jìn)行產(chǎn)品的全數(shù)調(diào)查，且無(wú)法有效地檢查超薄膜化及超微細(xì)圖案化的電子設(shè)備的內(nèi)部缺陷的問(wèn)題。

韓國(guó)專利公開(kāi)第10-2015-0056713號(hào)中公開(kāi)一種為了非破壞性地檢查檢查對(duì)象物而利用光干涉斷層攝影(Optical coherence tomography；OCT)的方法。在光干涉斷層攝影(OCT)中，為了使近紅外線光透射至檢查對(duì)象物，對(duì)由檢查對(duì)象物的內(nèi)部及各斷層反射的反射光(散射光)進(jìn)行檢測(cè)，并對(duì)檢查對(duì)象物的內(nèi)部進(jìn)行斷層攝影。為了通過(guò)光干涉斷層攝影(OCT)來(lái)對(duì)對(duì)象物進(jìn)行檢查，檢查對(duì)象物(樣品)應(yīng)由能夠使光透射及反射(散射)的物質(zhì)構(gòu)成。使用光干涉斷層攝影(OCT)，能夠以照射至檢查對(duì)象物的光的波長(zhǎng)程度的解像力獲得檢查對(duì)象物的斷層影像，因而能夠以亞微細(xì)粒單位的高分辨率獲得檢查對(duì)象物的表面及內(nèi)部影像。

圖1是用于說(shuō)明通過(guò)通常的光干涉斷層攝影(OCT)對(duì)三維檢查對(duì)象物進(jìn)行斷層攝影的情況的圖。如圖1所圖示，為了通過(guò)光干涉斷層攝影OCT對(duì)檢查對(duì)象物5進(jìn)行斷層攝影，需要將光干涉斷層攝影(OCT)裝置的光學(xué)系統(tǒng)，具體地，將作為測(cè)量光的入射光L(Lightsource，光源)照射至檢查對(duì)象物5的物鏡10與檢查對(duì)象物5的上部面5a應(yīng)大致平行地，即水平地設(shè)置。當(dāng)如同立體的檢查對(duì)象物5的左側(cè)面5b或右側(cè)面5c那樣檢查面相對(duì)于物鏡10的表面以規(guī)定角度歪斜地設(shè)置或垂直地設(shè)置時(shí)，入射光L無(wú)法相對(duì)于左側(cè)面5b或右側(cè)面5c垂直地入射，因而由左側(cè)面5b或右側(cè)面5c反射的反射光S(信號(hào)光)無(wú)法向物鏡10的方向反射或減弱，無(wú)法鮮明地獲得檢查對(duì)象物5的斷層攝影影像。圖2是示出通過(guò)這種通常的光干涉斷層攝影(OCT)對(duì)三維檢查對(duì)象物進(jìn)行斷層攝影的結(jié)果的圖(圖2的A)及照片(圖2的B)。如圖2所圖示，雖然入射光L大致垂直入射的檢查對(duì)象物5的上部面影像6a可以被鮮明地觀察到，但入射光L歪斜地入射的左側(cè)面影像6b或右側(cè)面影像6c受損而無(wú)法被鮮明地觀察到。