[發明專利]三維斷層攝影檢查裝置及方法

在審

• 申請號: 202010780516.8
• 申請日: 2020-08-05
• 公開（公告）號: CN112326600A
• 公開（公告）日: 2021-02-05
• 發明（設計）人: 甄秉友;金泰翰;金珉洙
• 申請（專利權）人: 株式會社湖碧馳
• 主分類號: G01N21/45
• 分類號: G01N21/45
• 代理公司: 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243
• 代理人: 金鮮英;張敬強

1.一種三維斷層攝影檢查裝置，其特征在于，包括：

兩個以上的光干涉斷層攝影部(20、30、40)，其對包括具有以彼此不同的角度設置的表面的兩個以上的攝影區域的檢查對象物(5)的兩個以上的攝影區域分別進行斷層攝影，其中，與檢查對象物(5)的各攝影區域的表面傾斜角度對應地，測量光(L)的入射角度各自不同；以及

運算部(50)，其合成由所述兩個以上的光干涉斷層攝影部(20、30、40)獲得的影像(6a、6b、6c)的數據來獲得檢查對象物(5)的整體斷層影像。

2.根據權利要求1所述的三維斷層攝影檢查裝置，其特征在于，

所述測量光(L)的入射角度(d)相對于檢查對象物(5)的各攝影區域表面為45至135度。

3.根據權利要求1所述的三維斷層攝影檢查裝置，其特征在于，

在所述兩個以上的光干涉斷層攝影部(20、30、40)，與檢查對象物(5)的各攝影區域表面的傾斜角度對應地，反射光(S)的檢測角度各自不同，以便能夠檢測由檢查對象物(5)的各攝影區域反射的反射光(S)。

4.根據權利要求1所述的三維斷層攝影檢查裝置，其特征在于，

所述檢查對象物(5)是具有與地面平行地設置的上部面(5a)、以及相對于所述上部面(5a)以規定的角度傾斜而從所述上部面(5a)延伸的左側面(5b)及右側面(5c)的板形態的物體，

所述兩個以上的光干涉斷層攝影部(20、30、40)包括：

上部面光干涉斷層攝影部(20)，其拍攝檢查對象物(5)的上部面(5a)；以及

左側面光干涉斷層攝影部(30)及右側面光干涉斷層攝影部(40)，其位于所述上部面光干涉斷層攝影部(20)的側面而分別拍攝檢查對象物(5)的左側面(5b)及右側面(5c)。

5.根據權利要求1所述的三維斷層攝影檢查裝置，其特征在于，

所述運算部(50)檢測由所述兩個以上的光干涉斷層攝影部(20、30、40)獲得的影像(6a、6b、6c)的數據邊界，所述影像(6a、6b、6c)包括測量光(L)入射的方向的檢查對象物(5)的表面影像(6af、6bf、6cf)和測量光(L)通過檢查對象物(5)時折射而被歪曲的檢查對象物(5)的后面影像(6ab’、6bb’、6cb’)，

所述運算部(50)利用測量光(L)的入射角度(d)及檢查對象物(5)的折射率將檢查對象物(5)的后面影像(6ab’、6bb’、6cb’)校正為未被歪曲的實際后面影像(6ab、6bb、6cb)之后，合成所述影像(6a、6b、6c)的數據來獲得檢查對象物(5)的整體斷層影像。

6.根據權利要求5所述的三維斷層攝影檢查裝置，其特征在于，

所述運算部(50)由檢測到的所述影像(6a、6b、6c)的表面影像(6af、6bf、6cf)的數據計算定義檢查對象物(5)的表面影像(6af、6bf、6cf)的表面函數，

并利用通過所述表面函數獲得的檢查對象物(5)的表面影像(6af、6bf、6cf)的位置上的測量光(L)的入射角度及檢查對象物(5)的折射率將與該位置對應的被歪曲的后面影像(6ab’、6bb’、6cb’)校正為未被歪曲的實際后面影像(6ab、6bb、6cb)。

7.一種三維斷層攝影檢查方法，其特征在于，包括：

對檢查對象物(5)的上部面(5a)進行光干涉斷層攝影來獲得上部面影像(6a)的步驟(S10)；

相對于所述上部面(5a)的光干涉斷層攝影方向以規定角度(e)對檢查對象物(5)的側面(5b、5c)進行光干涉斷層攝影來獲得側面影像(6b、6c)的步驟(S10)；以及

結合所述上部面影像(6a)及側面影像(6b、6c)的步驟(S34)。