[發(fā)明專利]金屬鎵去除裝置及金屬鎵去除方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010780119.0 | 申請日: | 2020-08-05 |
| 公開(公告)號: | CN112967948B | 公開(公告)日: | 2022-05-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 汪慶;許時(shí)淵;范春林;王斌 | 申請(專利權(quán))人: | 重慶康佳光電技術(shù)研究院有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/683;H01L33/48;H01L27/15 |
| 代理公司: | 北京康信知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 白雪 |
| 地址: | 402760 重慶市璧*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金屬 去除 裝置 方法 | ||
本發(fā)明涉及一種金屬鎵去除裝置及金屬鎵去除方法。該金屬鎵去除裝置包括旋轉(zhuǎn)單元、吸附單元以及加熱單元;吸附單元與旋轉(zhuǎn)單元相連,并在旋轉(zhuǎn)單元帶動下進(jìn)行旋轉(zhuǎn),吸附單元用于吸附一暫態(tài)基板;其中,暫態(tài)基板背離吸附單元的一側(cè)表面粘附有發(fā)光器件;加熱單元用于對吸附單元進(jìn)行加熱;其中,加熱單元對吸附單元加熱后,發(fā)光器件表面的溫度大于或等于金屬鎵液化的溫度。利用上述裝置能夠在不腐蝕發(fā)光器件的基礎(chǔ)上有效去除激光剝離后發(fā)光器件表面的殘留鎵。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種金屬鎵去除裝置及金屬鎵去除方法。
背景技術(shù)
Micro LED(Micro Light Emitting Diode,微型發(fā)光二極管)作為新一代顯示技術(shù),相比于LCD(Liquid Crystal Display,液晶顯示器)、OLED(Organic Light EmittingDiode,有機(jī)發(fā)光二極管)技術(shù),其亮度更高、發(fā)光效率更好、同時(shí)具有低功耗和長壽命的性能。在微型發(fā)光二極管的制備工藝流程過程中,巨量轉(zhuǎn)移作為技術(shù)突破關(guān)鍵點(diǎn),其流程主要包含激光剝離、巨量轉(zhuǎn)移以及檢測修復(fù)過程,其中激光剝離技術(shù)是巨量轉(zhuǎn)移技術(shù)突破的關(guān)鍵點(diǎn)。
激光剝離技術(shù)主要是利用氮化鎵(GaN)外延層與藍(lán)寶石(Al2O3)襯底(又稱生長基板)的帶隙差異,采用光子能量大于氮化鎵帶隙、小于藍(lán)寶石帶隙的紫外激光輻射,使氮化鎵在900℃~1000℃熱分解形成金屬鎵和氮?dú)猓瑥亩鴮?shí)現(xiàn)Micro LED與藍(lán)寶石襯底的分離。分離后的Micro LED則會通過膠層粘附在暫態(tài)基板上,最終通過暫態(tài)基板將Micro LED轉(zhuǎn)移至目標(biāo)基板。然而,激光剝離后粘附在暫態(tài)基板上的Micro LED表面往往存在大量鎵(Ga)殘留。
對于鎵殘留,目前采用的最多的清除方式為酸洗,然而利用酸洗去除Micro LED表面的殘留鎵時(shí)對其存在腐蝕作用,同時(shí)清除殘留鎵的效果并不理想。基于該原因,如何在不腐蝕Micro LED的同時(shí)更有效地去除其表面的殘留鎵,成為激光剝離技術(shù)的關(guān)鍵一環(huán)。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的不足,本申請的目的在于提供一種金屬鎵去除裝置及金屬鎵去除方法,旨在解決現(xiàn)有技術(shù)中激光剝離后發(fā)光器件表面的殘留鎵無法有效去除的問題。
一種金屬鎵去除裝置,其包括旋轉(zhuǎn)單元、吸附單元以及加熱單元;吸附單元與旋轉(zhuǎn)單元相連,并在旋轉(zhuǎn)單元帶動下進(jìn)行旋轉(zhuǎn),吸附單元用于吸附一暫態(tài)基板;其中,暫態(tài)基板背離吸附單元的一側(cè)表面粘附有發(fā)光器件;加熱單元用于對吸附單元進(jìn)行加熱;其中,加熱單元對吸附單元加熱后,發(fā)光器件表面的溫度大于或等于金屬鎵液化的溫度。
采用該裝置處理激光剝離后粘附有發(fā)光器件的暫態(tài)基板時(shí),利用吸附單元可以將暫態(tài)基板進(jìn)行吸附,此時(shí)暫態(tài)基板與吸附單元接觸并固定,發(fā)光器件則背離吸附單元。因鎵的液化溫度較低,約30℃,通過加熱單元加熱吸附單元后,可很容易通過熱傳導(dǎo)和熱輻射的形式將發(fā)光器件表面的殘留金屬鎵加熱至液化溫度。再利用旋轉(zhuǎn)單元帶動吸附單元旋轉(zhuǎn),即可使液化后的殘留鎵在旋轉(zhuǎn)離心力的作用下從發(fā)光器件表面甩脫。
因此,通過本發(fā)明提供的上述金屬鎵去除裝置,可有效去除激光剝離后發(fā)光器件表面的殘留鎵,同時(shí)避免了對發(fā)光器件的腐蝕,是一種高效、綠色、安全的殘留鎵去除裝置。
可選地,吸附單元包括吸附基板和吸附部,吸附基板與旋轉(zhuǎn)單元固定連接;吸附部設(shè)置于吸附基板背離旋轉(zhuǎn)單元的一側(cè)表面,吸附部用于吸附暫態(tài)基板。在實(shí)際操作過程中,通過吸附部可將暫態(tài)基板穩(wěn)定地吸附固定,而吸附基板在旋轉(zhuǎn)單元的帶動下旋轉(zhuǎn),使液化后的鎵在離心力作用下脫離。
可選地,加熱單元的加熱方式包括電極加熱或水浴加熱。利用電極加熱單元和水浴加熱單元能夠方便、較為充分地加熱吸附單元,然后通過熱傳導(dǎo)和熱輻射作用使殘留鎵更充分地液化。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
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H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





