[發明專利]堿性蝕刻液及其原位電解提銅再生利用裝置和方法

在審

• 申請號: 202010779025.1
• 申請日: 2020-08-05
• 公開（公告）號: CN111926331A
• 公開（公告）日: 2020-11-13
• 發明（設計）人: 徐麟;楊代軍;黃勇
• 申請（專利權）人: 上海毅藍電子科技有限公司
• 主分類號: C23F1/34
• 分類號: C23F1/34;C23F1/46;C25C1/12;C25C7/00;C25C7/06
• 代理公司: 上海新隆知識產權代理事務所(普通合伙) 31366
• 代理人: 劉蘭英

本發明提供一種堿性蝕刻液及其原位電解提銅再生利用裝置和方法，具備出色的蝕刻穩定性、蝕刻速度、精細度和高銅離子濃度180?200g/L，節省蝕刻藥水用量；具備簡單的可控的蝕刻液原位電解循環利用方式，獲得平整光亮的高純度銅板，無電解尾液需要深度環保處理，無需調配缸進行人為干預再生液調配，可直接回到蝕刻機蝕刻線路板生產。

技術領域

本發明屬于線路板堿性蝕刻領域，尤其涉及到一種堿性蝕刻液及其原位電解提銅再生利用裝置和方法。

背景技術

電路板的線路堿性蝕刻制造過程是采用一種富含氯化銨和氨離子的堿性蝕刻子液對覆銅板上的銅箔進行蝕刻(銅氨絡合反應)形成線路，同時產生是一種富含銅氯化銅、氯化銨、氨離子的成分復雜的含銅堿性蝕刻廢液。傳統的堿性蝕刻工藝用由250-280g/L氯化銨，100-120g/L氨，600-650g/L水組成的堿性蝕刻子液對覆銅板蝕刻形成含140-160g/L銅離子，250-280g/L氯化銨，100-120g/L氨，440-460g/L水的堿性蝕刻廢液。

該含銅堿性蝕刻廢液可通過酸性中和沉淀法，置換還原法、蒸餾等化學或物理反應的方法脫除獲得含銅堿性蝕刻廢液里面的銅，蝕刻液的組分遭到破環，脫銅后的尾液需要進一步環保物理或化學處理，無法進行循環利用，造成很大的環保處置成本和資源浪費。如昆山智祥隆電子有限公司CN201920750262.8，惠州大亞灣億田環保技術有限公司CN201811002592.5，魯銘；李曉清；劉琨CN201710665696.3，昆山聯鼎環保科技有限公司CN201110385711.1，CN201010269561.3，江德馨、CN201010505221.6，重慶瀚渝再生資源有限公司CN201721178953.2，深圳市萬山紅環保實業有限公司CN200720121065.7，廣東省博羅縣湘澧精細化工有限公司CN201710321291.8等專利中提到了采用酸堿中和處理堿性蝕刻液獲得含銅化合物的方法，如獲取氫氧化銅、氯化亞銅等。昆山市潔馳環保科技發展有限公司CN201210023824.1，福建師范大學福清分校CN200910112525.3專利中提到用化學還原或置換方法從堿性蝕刻廢液獲取銅粉的工藝。中國科學院過程工程研究所CN201310528684.8一種PCB線路板蝕刻廢液的資源化處理及循環利用方法，采用蒸發獲得氫氧化銅和氨水、氯化銨。