[發(fā)明專利]工藝腔室壓力控制裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010778501.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-08-05 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111883465A | 公開(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳正堂;趙迪;鄭文寧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京七星華創(chuàng)流量計(jì)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/67 | 分類號(hào): | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址: | 100176 北京市北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 工藝 壓力 控制 裝置 | ||
本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種工藝腔室壓力控制裝置。該壓力控制裝置與半導(dǎo)體工藝設(shè)備的工藝腔室連接,其包括:流體通道具有進(jìn)氣口及出氣口;流量傳感器與流體通道連通,并且靠近進(jìn)氣口設(shè)置,用于檢測(cè)流體通道內(nèi)的氣流量;壓力傳感器與流體通道連通,并且靠近出氣口設(shè)置,用于檢測(cè)流體通道內(nèi)的氣壓值;流量調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)與流體通道連接,并且位于流量傳感器及壓力傳感器之間,用于調(diào)節(jié)流體通道的開合度;控制器與用于根據(jù)流量傳感器檢測(cè)到的氣流量和/或壓力傳感器檢測(cè)到的氣壓值,控制流量調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)流體通道的開合度,以調(diào)節(jié)工藝腔室內(nèi)的壓力。本申請(qǐng)實(shí)施例大幅縮小了體積及降低應(yīng)用維護(hù)成本,并且大幅減少外漏漏點(diǎn)數(shù)量。
技術(shù)領(lǐng)域
本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體加工技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,本申請(qǐng)涉及一種工藝腔室壓力控制裝置。
背景技術(shù)
目前,在半導(dǎo)體及光伏等領(lǐng)域,需要用到擴(kuò)散爐、氧化爐等不同用途的半導(dǎo)體工藝設(shè)備。半導(dǎo)體工藝設(shè)備的工藝腔室內(nèi)的壓力控制是保證工藝正常進(jìn)行的前提,工藝腔室內(nèi)的壓力大于或小于設(shè)定的壓力都會(huì)影響工藝的質(zhì)量,因此必須確保工藝腔室內(nèi)的壓力穩(wěn)定。另外當(dāng)工藝腔室內(nèi)的壓力突變時(shí),壓力控制系統(tǒng)的響應(yīng)時(shí)間同樣影響工藝的質(zhì)量,因此必須確保工藝腔室內(nèi)的壓力控制精度和壓力控制響應(yīng)時(shí)間。
現(xiàn)有技術(shù)中的壓力控制系統(tǒng)主要包括:設(shè)置于工藝腔室前端的流量控制器、設(shè)置于工藝腔室后端的壓力控制器以及配套的氣體管路等。現(xiàn)有技術(shù)的壓力控系統(tǒng)包括流量控制器和壓力控制器以及相應(yīng)的氣體管路,這樣的布局需要一定的安裝空間,限制了半導(dǎo)體工藝設(shè)備的體積小型化,不僅增加裝配時(shí)間,而且增加外漏漏點(diǎn)的個(gè)數(shù),并且無法降低成本。另外壓力控制系統(tǒng)的電氣控制部分和軟件部分需要融合流量控制器和壓力控制器,限制了整個(gè)壓力控制系統(tǒng)響應(yīng)時(shí)間的優(yōu)化。
發(fā)明內(nèi)容
本申請(qǐng)針對(duì)現(xiàn)有方式的缺點(diǎn),提出一種工藝腔室壓力控制裝置,用以解決現(xiàn)有技術(shù)存在壓力控制系統(tǒng)占用空間較大、外漏漏點(diǎn)較多或壓力控制響應(yīng)時(shí)間較長(zhǎng)的技術(shù)問題。
本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種工藝腔室壓力控制裝置,與半導(dǎo)體工藝設(shè)備的工藝腔室連接,用于對(duì)所述工藝腔室的壓力進(jìn)行調(diào)節(jié),包括:流體通道、流量傳感器、壓力傳感器、流量調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)、控制器;所述流體通道具有進(jìn)氣口及出氣口;所述流量傳感器與所述流體通道連通,并且靠近所述進(jìn)氣口設(shè)置,用于檢測(cè)所述流體通道內(nèi)的氣流量;所述壓力傳感器與所述流體通道連通,并且靠近所述出氣口設(shè)置,用于檢測(cè)所述流體通道內(nèi)的氣壓值;所述流量調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)與所述流體通道連接,并且位于所述流量傳感器及所述壓力傳感器之間,用于調(diào)節(jié)所述流體通道的開合度;所述控制器與所述流量傳感器、所述壓力傳感器、所述流量調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)通信連接,用于根據(jù)所述流量傳感器檢測(cè)到的氣流量和/或所述壓力傳感器檢測(cè)到的氣壓值,控制所述流量調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)調(diào)節(jié)所述流體通道的開合度,以調(diào)節(jié)所述工藝腔室內(nèi)的壓力。
于本申請(qǐng)的一實(shí)施例中,所述流量調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括活塞組件及驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu),所述活塞組件設(shè)置于所述流體通道上,并且所述活塞組件伸入所述流體通道內(nèi);所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述流體通道上,并且與所述活塞組件連接,用于驅(qū)動(dòng)所述活塞組件作伸縮運(yùn)動(dòng),以調(diào)節(jié)所述流體通道的開合度。
于本申請(qǐng)的一實(shí)施例中,所述活塞組件包括活塞及波紋管,所述活塞能沿所述流體通道的徑向伸縮,用于調(diào)節(jié)所述流體通道的開合度;所述波紋管套設(shè)于所述活塞外側(cè),并且所述波紋管的頂端與所述活塞頂端的凸緣密封連接,所述波紋管的底端與所述流體通道密封連接,所述波紋管能跟隨所述活塞伸縮。
于本申請(qǐng)的一實(shí)施例中,所述活塞內(nèi)開設(shè)有容置腔,所述活塞組件還包括設(shè)置于所述容置腔內(nèi)的彈性件,所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)通過所述彈性件與所述活塞連接,所述彈性件用于在所述活塞關(guān)閉所述流體通道時(shí)提供預(yù)緊力。
于本申請(qǐng)的一實(shí)施例中,所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)包括支架、電機(jī)及聯(lián)軸器,所述支架設(shè)置于所述流體通道上,所述電機(jī)設(shè)置于所述支架上,所述電機(jī)的驅(qū)動(dòng)桿通過所述聯(lián)軸器與所述彈性件連接,所述電機(jī)通過驅(qū)動(dòng)所述驅(qū)動(dòng)桿移動(dòng)帶動(dòng)所述彈性件進(jìn)而驅(qū)動(dòng)所述活塞伸縮。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





