[發(fā)明專利]一種在金屬噴砂表面制作鏡面LOGO的工藝有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010773440.6 | 申請日: | 2020-08-04 |
| 公開(公告)號: | CN111842594B | 公開(公告)日: | 2023-02-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 馮萬國;王棟;呂一休;董擎柱 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山愛米特激光科技有限公司 |
| 主分類號: | B21D22/00 | 分類號: | B21D22/00;B23K26/352;B24C1/00;C25D11/12;C25D11/16 |
| 代理公司: | 蘇州根號專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32276 | 代理人: | 朱華慶 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇州市昆山市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 金屬 噴砂 表面 制作 logo 工藝 | ||
本發(fā)明涉及一種在金屬噴砂表面制作鏡面LOGO的工藝,包括如下步驟:通過沖壓設(shè)備將平整金屬產(chǎn)品沖壓成設(shè)定的形狀;利用壓縮空氣動力將金屬砂噴射在產(chǎn)品表面,使得產(chǎn)品表面發(fā)生改性變化;使用激光設(shè)備通過掃描振鏡的擺動在金屬產(chǎn)品表面進行拋光、造型,形成鏡面LOGO;第一次陽極氧化,將金屬產(chǎn)品放入電解液中進行電解,電解形成的陽極氧化膜的膜厚為3~4微米,電解完成后進行水洗;將中得到的產(chǎn)品放入電解液中進行電解,電解形成的陽極氧化膜的膜厚為8~12微米,電解完成后進行水洗,得到最終的產(chǎn)品。本申請可直接在金屬產(chǎn)品的噴砂表面拋光形成高亮鏡面效果,減少了制作流程,節(jié)約了人員和成本、減少了場地、對環(huán)境沒有污染。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及金屬加工技術(shù)領(lǐng)域,特別是涉及一種在金屬噴砂表面制作鏡面LOGO的工藝。
背景技術(shù)
在金屬產(chǎn)品外殼的LOGO傳統(tǒng)制作流程有多種處理方式,主要有印刷和鑲嵌膠粘。
不同的處理工藝分好幾個工序,加工工序復(fù)雜,最重要的是油墨印刷工藝污染環(huán)境,難以滿足現(xiàn)今嚴格的環(huán)評標準,對環(huán)境以及工人安全確實存在危害。
鑲嵌膠粘工藝制作出的多是金屬鏡面標識,是采用鑲嵌膠粘制作完成,經(jīng)過藥水蝕刻和沖壓,最終用膠水來粘貼完成LOGO制作,但這樣制作出LOGO存在以下不足:
1、字體邊緣不齊,有鋸齒狀;
2、藥水蝕刻是有毒,腐蝕性的,容易造成環(huán)境污染;
3、在高溫和高濕環(huán)境下LOGO很容易從金屬表面脫落;
4、制作工藝多,造成不良率較高,生產(chǎn)周期較長。
因此,需要一種加工工藝以解決上述技術(shù)問題,安全、可靠地在金屬表面設(shè)置金屬鏡面標識。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是要提供一種在金屬噴砂表面制作鏡面LOGO的工藝,可直接在金屬產(chǎn)品的噴砂表面拋光形成高亮鏡面效果,減少了制作流程,節(jié)約了人員和成本、減少了場地、對環(huán)境沒有污染。
為達到上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
本發(fā)明提供了一種在金屬噴砂表面制作鏡面LOGO的工藝,包括如下步驟:
步驟S1:沖壓,通過沖壓設(shè)備將平整金屬產(chǎn)品沖壓成設(shè)定的形狀;
步驟S2:噴砂,利用壓縮空氣動力將金屬砂噴射在產(chǎn)品表面,使得產(chǎn)品表面發(fā)生改性變化;
步驟S3:激光拋光,使用激光設(shè)備通過掃描振鏡的擺動在金屬產(chǎn)品表面進行拋光、造型,形成鏡面LOGO;
步驟S4:第一次陽極氧化,將步驟S3中得到的產(chǎn)品放入電解液中進行電解,電解形成的陽極氧化膜的膜厚為3~4微米,電解完成后進行水洗;
步驟S5:第二次陽極氧化,將步驟S4中得到的產(chǎn)品放入電解液中進行電解,電解形成的陽極氧化膜的膜厚為8~12微米,電解完成后進行水洗,得到最終的產(chǎn)品。
對于上述技術(shù)方案,申請人還有進一步的優(yōu)化措施。
可選地,步驟S2中采用的金屬砂為鐵砂,噴砂壓力為1.6~1.8kg,輸送速度為10~11Hz,表面粗糙度為1.1~18。
可選地,步驟S2中噴砂采用的是兩次噴砂,第一次噴砂采用的是細砂,表面粗糙度為1.1~8;第二次噴砂采用的是粗砂,表面粗糙度為10~18。
可選地,步驟S3中采用激光設(shè)備對產(chǎn)品噴砂表面進行拋光時分為兩次處理,先采用大功率激光設(shè)備對噴砂表面進行去底紋的粗拋光處理,再采用低速的小功率激光設(shè)備對噴砂表面進行精拋光處理,最終得到光澤度為500~1000GU的鏡面LOGO。
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