[發明專利]基板的偏心降低方法及示教裝置

在審

• 申請號: 202010771262.3
• 申請日: 2020-08-04
• 公開（公告）號: CN112397407A
• 公開（公告）日: 2021-02-23
• 發明（設計）人: 猶原英司;增井達哉
• 申請（專利權）人: 株式會社斯庫林集團
• 主分類號: H01L21/66
• 分類號: H01L21/66;H01L21/67;G01B11/27
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 金輝;崔炳哲

1.一種基板的偏心降低方法，包括：

第一工序，將周邊具有缺口的基板保持為水平，并使所述基板圍繞沿鉛垂方向的旋轉軸旋轉；

第二工序，攝像頭在所述基板的旋轉過程中依次拍攝所述基板的所述周邊，獲取多個包括相互垂直的第一軸和第二軸的二維圖像，所述攝像頭在鉛垂方向上與所述基板的所述周邊相向；

第三工序，在多個所述圖像的每一個中執行用于檢測所述基板的所述缺口的缺口檢測處理；

第四工序，將在多個所述圖像內沿著所述第一軸延伸的測量區域在所述第二軸上的位置設定為，所述測量區域在多個所述圖像的任一個中均不包含所述缺口而包含所述基板的所述周邊；

第五工序，針對繪圖點進行曲線插值處理并求出正弦波，所述繪圖點包括獲取到多個所述圖像中的每一個圖像時的所述基板的各旋轉位置、以及多個所述圖像中的每一個圖像的所述測量區域中的所述基板的所述周邊在所述第一軸上的位置；

第六工序，根據通過所述第五工序求出的所述正弦波，求出以所述缺口的位置為基準的所述基板的偏心；以及

第七工序，以所述缺口的所述位置為基準使所述基板移動，以降低通過所述第六工序求出的所述基板的偏心。

2.根據權利要求1所述的基板的偏心降低方法，其中，

在所述第二工序中，所述攝像頭針對每個第一旋轉角度拍攝所述基板的所述周邊，

在所述第四工序中，在包含從所述缺口偏離第二旋轉角度的區域的位置上設定所述測量區域，所述缺口包含于所述多個圖像的一個中，

所述第二旋轉角度比所述第一旋轉角度小。

3.根據權利要求1或2所述的基板的偏心降低方法，其中，

所述測量區域的在所述第二軸上的像素數為兩個以上，

若將在所述測量區域中沿所述第一軸排列的多個像素稱作像素行，則

在所述第三工序中，將所述測量區域內的多個像素行中的所述基板的所述周邊的位置平均，求出所述測量區域內的所述基板的所述周邊的位置。

4.根據權利要求1或2所述的基板的偏心降低方法，其中，

所述曲線插值處理包括樣條插值。

5.根據權利要求1或2所述的基板的偏心降低方法，其中，

還包括：

在所述第一工序之前執行的將所述攝像頭設定在用于拍攝所述基板的所述周邊的位置的工序；

在所述第二工序之后執行的卸下所述攝像頭的工序。

6.一種示教裝置，在包括基板保持部的基板處理裝置中降低所述基板的偏心，所述基板保持部將周邊具有缺口的基板保持為水平，并使所述基板圍繞沿鉛垂方向的旋轉軸旋轉，

所述示教裝置具有：

攝像頭，在鉛垂方向上與所述基板的所述周邊相向，在所述基板的旋轉過程中依次拍攝所述基板的所述周邊，獲取多個包括相互垂直的第一軸和第二軸的二維圖像；以及

控制部，

所述控制部執行下述工序：

第一工序，在從所述攝像頭輸入的多個所述圖像中的每一個圖像中執行用于檢測所述基板的所述缺口的缺口檢測處理；

第二工序，將在多個所述圖像內沿著所述第一軸延伸的測量區域在所述第二軸上的位置設定為，所述測量區域在多個所述圖像的任一個中均不包含所述缺口而包含所述基板的所述周邊；

第三工序，針對繪圖點進行曲線插值處理并求出正弦波，所述繪圖點包括獲取到多個所述圖像中的每一個圖像時的所述基板的各旋轉位置、以及多個所述圖像中的每一個圖像的所述測量區域中的所述基板的所述周邊在所述第一軸上的位置；

第四工序，根據通過所述第三工序求出的所述正弦波，求出以所述缺口的位置為基準的所述基板的偏心；以及

第五工序，以所述缺口的所述位置為基準來計算所述基板的位置，以降低通過所述第四工序求出的所述基板的偏心。

7.根據權利要求6所述的示教裝置，

所述攝像頭相對于所述基板處理裝置能夠裝卸。