[發明專利]一種氫分子緩釋復合敷料及其制備方法

有效

• 申請號: 202010770528.2
• 申請日: 2020-08-04
• 公開（公告）號: CN112263777B
• 公開（公告）日: 2023-05-05
• 發明（設計）人: 趙鵬翔;馬雪梅;郭博遠;王振;劉夢昱;謝飛
• 申請（專利權）人: 北京工業大學
• 主分類號: A61F13/00
• 分類號: A61F13/00;A61M35/00;A61F13/02;A61L15/26;A61L15/18;A61L15/44;A61L15/42
• 代理公司: 北京動力號知識產權代理有限公司 11775
• 代理人: 梁艷;白婉露

1.一種氫分子緩釋復合敷料，其特征在于，所述復合敷料依次包括：不透氣層、氫分子反應層、防水透氣層、以及透氣親膚層；其中，所述氫分子反應層包含氫分子緩釋材料，滅菌的反應液以外加方式進入所述氫分子反應層，或被易破碎材料包覆并置于氫分子反應層中；上述氫分子緩釋復合敷料通過方法Ⅰ或方法Ⅱ制備，

所述方法Ⅰ步驟為：

將不透氣層和氫分子反應層制成A貼劑，防水透氣層和透氣親膚層制成B貼劑，所述A貼劑與B貼劑在使用前分別封好；

其中，所述A貼劑中氫分子反應層包含氫分子緩釋材料；使用時，將滅菌的反應液以外加方式注入所述氫分子反應層內，混勻，使所述A貼劑與所述B貼劑粘合牢固后，敷于創傷面；

所述方法Ⅱ步驟為：

將不透氣層、氫分子反應層，防水透氣層、以及透氣親膚層依次粘貼制成貼劑；

其中，所述氫分子反應層包含氫分子緩釋材料和被易破碎材料包覆的滅菌的反應液；使用時，通過壓力使包覆有滅菌的反應液的易破碎材料破碎，使得所述氫分子緩釋材料與所述滅菌的反應液混勻后，敷于創傷面；

所述氫分子緩釋材料為Mg@PLGA、AB@MSN、Mg@MSN、或MBN，所述反應液為去離子水或緩沖液，而且所述反應液為弱酸性溶液；以質量體積比計，所述Mg@PLGA?:?H₂O為5~9?:?1；所述Mg@MSN?:?H₂O為0.4~1?:?1；所述AB@MSN?:?H₂O為1~1.5?:?1；所述MBN:?H₂O為0.6~1.2?:1。

2.如權利要求1所述的氫分子緩釋復合敷料，其特征在于，所述氫分子反應層為中空結構，所述氫分子緩釋材料與反應液在所述中空結構中反應，持續釋放氫氣。

3.如權利要求2所述的氫分子緩釋復合敷料，其特征在于，所述中空結構的中空部分為反應池，用于容納從外部加入的反應液或放置被易破碎材料包覆的反應液。

4.如權利要求1中所述的氫分子緩釋復合敷料，其特征在于，所述氫分子緩釋材料為能夠持續釋放氫的微米或納米材料。

5.如權利要求4中所述的氫分子緩釋復合敷料，其特征在于，所述氫分子緩釋材料為能夠持續釋放氫的納米材料。

6.如權利要求4中所述的氫分子緩釋復合敷料，其特征在于，所述氫分子緩釋材料由能夠產生氫氣的儲氫材料與其上包覆的殼體材料組成，在常溫常壓下緩慢釋放氫氣。