[發(fā)明專利]正型感光性樹脂組合物、經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010770166.7 | 申請日: | 2020-08-03 |
| 公開(公告)號: | CN112346302A | 公開(公告)日: | 2021-02-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 松本直純 | 申請(專利權(quán))人: | 東京應(yīng)化工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/039 | 分類號: | G03F7/039;G03F7/004;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 楊宏軍;焦成美 |
| 地址: | 日本神*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 感光性 樹脂 組合 圖案 抗蝕劑膜 形成 方法 | ||
本發(fā)明涉及正型感光性樹脂組合物、經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜。本發(fā)明的課題在于提供能夠形成截面形狀良好的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜且敏感度高的正型感光性樹脂組合物、使用該正型感光性樹脂組合物的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、和由前述正型感光性樹脂組合物形成的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜。解決手段是在正型感光性樹脂組合物中包含:Novolac樹脂(A);含有醌二疊氮基的化合物(B);作為分子量1000以下的具有酚式羥基的化合物的敏化劑(C);和規(guī)定范圍內(nèi)的量的含有酚式羥基的樹脂(D),其為Novolac樹脂(A)以外的重均分子量超過1000的樹脂。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及正型感光性樹脂組合物、經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜。
背景技術(shù)
作為在基板上形成布線、端子的方法,已知將抗蝕劑圖案用作掩模圖案而進(jìn)行金屬層的蝕刻、或者將抗蝕劑圖案用作電鍍用的鑄模圖案而進(jìn)行電鍍的方法。
作為在基板上形成布線、端子時形成抗蝕劑圖案的方法,通常為下述方法:使用由負(fù)型感光性組合物形成的干式膜,在基板上形成感光性組合物層,并對該感光性組合物層進(jìn)行曝光及顯影。但是,使用負(fù)型感光性組合物時,存在下述問題:分辨率不充分;或者有時難以將抗蝕劑圖案從基板剝離;等等。
作為解決上述課題的方法,可舉出使用分辨率良好、較容易從基板剝離的正型感光性組合物來形成抗蝕劑圖案的方法。
作為能夠用于形成由金屬構(gòu)成的布線、端子等的正型感光性組合物,例如,包含甲酚Novolac樹脂等堿溶性Novolac樹脂、感光劑、和苯并三唑系化合物的感光性組合物是已知的(參見專利文獻(xiàn)1)。
現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)
專利文獻(xiàn)1:日本特開2010-176012號公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題
形成微細(xì)的布線、端子時,期求:能夠使用感光性組合物來形成截面形狀為接近矩形的形狀的抗蝕劑圖案;感光性組合物為高敏感度。但是,就專利文獻(xiàn)1記載的這樣的正型感光性組合物而言,難以同時實(shí)現(xiàn)抗蝕劑圖案的良好的截面形狀、和高敏感度。
本發(fā)明是鑒于上述課題而作出的,其目的在于提供能夠形成截面形狀良好的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜且敏感度高的正型感光性樹脂組合物、使用該正型感光性樹脂組合物的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、和由前述的正型感光性樹脂組合物形成的經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜。
用于解決課題的手段
本申請的發(fā)明人發(fā)現(xiàn),通過在正型感光性樹脂組合物中包含:Novolac樹脂(A);含有醌二疊氮基的化合物(B);作為分子量1000以下的具有酚式羥基的化合物的敏化劑(C);和規(guī)定范圍內(nèi)的量的含有酚式羥基的樹脂(D),所述樹脂(D)為Novolac樹脂(A)以外的重均分子量超過1000的樹脂,從而能夠解決上述課題,完成了本發(fā)明。具體而言,本發(fā)明提供以下的方案。
本發(fā)明的第一方式為正型感光性樹脂組合物,其包含Novolac樹脂(A)、含有醌二疊氮基的化合物(B)、敏化劑(C)、和含有酚式羥基的樹脂(D),
敏化劑(C)為分子量1000以下的具有酚式羥基的化合物,
含有酚式羥基的樹脂(D)為Novolac樹脂(A)以外的重均分子量超過1000的樹脂,
相對于上述Novolac樹脂(A)100質(zhì)量份而言,含有酚式羥基的樹脂(D)的含量為0.5質(zhì)量份以上且10質(zhì)量份以下。
本發(fā)明的第二方式為經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法,其包括下述工序:
將第一方式涉及的正型感光性樹脂組合物涂布于基板而形成涂布膜的工序;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于東京應(yīng)化工業(yè)株式會社,未經(jīng)東京應(yīng)化工業(yè)株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010770166.7/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:電感器
- 下一篇:顯示控制裝置、顯示控制方法及存儲介質(zhì)
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備





