[發(fā)明專利]正型感光性樹脂組合物、經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法、及經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010770166.7
• 申請日: 2020-08-03
• 公開（公告）號: CN112346302A
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 松本直純
• 申請（專利權(quán)）人: 東京應(yīng)化工業(yè)株式會社
• 主分類號: G03F7/039
• 分類號: G03F7/039;G03F7/004;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/30
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 楊宏軍;焦成美

1.正型感光性樹脂組合物，其包含Novolac樹脂(A)、含有醌二疊氮基的化合物(B)、敏化劑(C)、和含有酚式羥基的樹脂(D)，

所述敏化劑(C)為分子量1000以下的具有酚式羥基的化合物，

所述含有酚式羥基的樹脂(D)為Novolac樹脂(A)以外的重均分子量超過1000的樹脂，

相對于所述Novolac樹脂(A)100質(zhì)量份而言，所述含有酚式羥基的樹脂(D)的含量為0.5質(zhì)量份以上且10質(zhì)量份以下。

2.如權(quán)利要求1所述的正型感光性樹脂組合物，其中，所述含有酚式羥基的樹脂(D)包含來自可具有取代基的羥基苯乙烯的結(jié)構(gòu)單元、及/或來自具有可具有取代基的羥基苯基的(甲基)丙烯酸酯的結(jié)構(gòu)單元。

3.如權(quán)利要求2所述的正型感光性樹脂組合物，其中，所述含有酚式羥基的樹脂(D)為羥基苯乙烯的均聚物。

4.如權(quán)利要求1～3中任一項所述的正型感光性樹脂組合物，其中，所述含有酚式羥基的樹脂(D)的重均分子量為3000以上且15000以下。

5.如權(quán)利要求1～3中任一項所述的正型感光性樹脂組合物，其中，相對于所述Novolac樹脂(A)100質(zhì)量份而言，所述敏化劑(C)的含量為10質(zhì)量份以上且30質(zhì)量份以下。

6.如權(quán)利要求1～3中任一項所述的正型感光性樹脂組合物，其中，所述含有醌二疊氮基的化合物(B)組合包含下式(B1)表示的化合物、下式(B2)表示的化合物和下式(B3)表示的化合物，

[化學(xué)式1]

式(B1)中，R^b1各自獨(dú)立地為碳原子數(shù)1以上且5以下的烷基，D各自獨(dú)立地為氫原子、或1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基，2+m個D中的至少一個為1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基，l及m各自獨(dú)立地為1或2，

[化學(xué)式2]

式(B2)中，D各自獨(dú)立地為氫原子、或1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基，3個D中的至少一個為1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基，

[化學(xué)式3]

式(B3)中，R^b3各自獨(dú)立地為氫原子、或碳原子數(shù)1以上且6以下的烷基，R^b4各自獨(dú)立地為氫原子、鹵素原子、碳原子數(shù)1以上且6以下的烷基、碳原子數(shù)1以上且6以下的烷氧基、或碳原子數(shù)3以上且6以下的環(huán)烷基，D各自獨(dú)立地為氫原子、或1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基，4個D中的至少一個為1,2-二疊氮基萘醌-5-磺酰基。

7.經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜的形成方法，其包括下述工序：

將權(quán)利要求1～6中任一項所述的正型感光性樹脂組合物涂布于基板而形成涂布膜的工序；

以位置選擇性的方式對所述涂布膜進(jìn)行曝光的工序；和，

利用顯影液對經(jīng)曝光的涂布膜進(jìn)行顯影的工序。

8.經(jīng)圖案化的抗蝕劑膜，其是由權(quán)利要求1～6中任一項所述的正型感光性樹脂組合物形成的。