[發明專利]涂膠顯影設備

在審

• 申請號: 202010768884.0
• 申請日: 2020-08-03
• 公開（公告）號: CN111796492A
• 公開（公告）日: 2020-10-20
• 發明（設計）人: 洪旭東;陳興隆;張建
• 申請（專利權）人: 沈陽芯源微電子設備股份有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;G03F7/38;G03F7/40
• 代理公司: 上海恒銳佳知識產權代理事務所(普通合伙) 31286
• 代理人: 黃海霞

本發明提供了一種涂膠顯影設備，包括載體塊；接口塊；第一工藝模塊包括液體處理模塊以及設置于所述液體處理模塊相對兩側的第一熱處理模塊和第二熱處理模塊；其中，所述第一熱處理模塊包括兩層層疊設置的第一熱處理單元，所述液體處理模塊包括四層層疊設置的液體處理單元，所述第二熱處理模塊包括兩層層疊設置的第二熱處理單元，且每一層所述第一熱處理單元和每一層所述第二熱處理單元均具有兩個相適配的機械手；第二工藝模塊與所述第一工藝模塊的結構相同，且與所述第一工藝模塊對稱設置，大幅度減少了單個機械手的搬運行程，增加了相同時間內搬運晶圓的數量，提高了效率。

技術領域

本發明涉及涂膠顯影技術領域，尤其涉及一種涂膠顯影設備。

背景技術

現有技術中，涂膠顯影設備內的機械手行程較遠，花費的時間長，從而降低了工作效率。

授權號為CN100565343C的中國發明專利公開了一種涂敷、顯影裝置及其方法，

通過層疊二設置抗腐蝕劑膜形成用單位塊、和反射防止膜形成用單位塊，在抗腐蝕劑膜上下形成反射防止膜時，實現空間節省化。再者，不管是不是在形成反射防止膜的情況下，都可以應對，可以實現這時軟件的簡易化。在處理塊（S2）上，相互層疊而設置作為涂敷膜形成用單位塊的TCT層（B3）、COT層（B4）、BCT層（B5）和作為顯影處理用的單位塊的DEV層（B1、B2）。不管是不是在形成反射防止膜的情況下，通過在TCT層（B3）、COT層（B4）、BCT層（B5）內選擇使用的單位塊都可以應對，可以抑制這時的運送程序的復雜化，并實現軟件的簡易化。但其機械手的行程較遠，同一機械手在一定時間內搬運的晶圓數量少，導致效率較低。

公開號為CN103199032A的中國發明專利公開了一種集束式結構的涂膠顯影設備，用以在半導體晶片上獲得均布光刻膠及光刻膠圖形的涂膠顯影設備的結構。本發明包括片盒站、工藝站和接口站，片盒站與工藝站通過卸/載料機器人傳送晶片，工藝站與接口站通過接口機器人傳送晶片，工藝站包括涂光刻膠站和顯影站，所述涂光刻膠站和顯影站與片盒站和接口站呈一字排列，站內的工藝處理模塊呈集束型分布，集束原點分別是用于站內傳片的工藝機器人CR和工藝機器人DR。本發明實現整機設備占地面積減小，工藝站內工藝模塊技術拓展性強，便于標準化模塊裝載及拆卸，使得不同功能的模塊搭配組合簡單，不同的生產工藝均可在此設備上實施。但其一個機械手的行程較遠，同一機械手在一定時間內搬運的晶圓數量少，導致效率較低。

因此，有必要提供一種新型的涂膠顯影設備以解決現有技術中存在的上述問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種涂膠顯影設備，減少機械手行程，提高效率。

為實現上述目的，本發明的所述涂膠顯影設備，包括：

載體塊；

接口塊；

第一工藝模塊，設置于所述載體塊和所述接口塊之間，且包括液體處理模塊以及設置于所述液體處理模塊相對兩側的第一熱處理模塊和第二熱處理模塊；

其中，所述第一熱處理模塊包括兩層層疊設置的第一熱處理單元，所述液體處理模塊包括四層層疊設置的液體處理單元，所述第二熱處理模塊包括兩層層疊設置的第二熱處理單元，且每一層所述第一熱處理單元和每一層所述第二熱處理單元均具有兩個相適配的機械手；

第二工藝模塊，設置于所述載體塊和所述接口塊之間，與所述第一工藝模塊的結構相同，且與所述第一工藝模塊對稱設置。