[發明專利]涂膠顯影設備

在審

• 申請號: 202010768884.0
• 申請日: 2020-08-03
• 公開（公告）號: CN111796492A
• 公開（公告）日: 2020-10-20
• 發明（設計）人: 洪旭東;陳興隆;張建
• 申請（專利權）人: 沈陽芯源微電子設備股份有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;G03F7/38;G03F7/40
• 代理公司: 上海恒銳佳知識產權代理事務所(普通合伙) 31286
• 代理人: 黃海霞

1.一種涂膠顯影設備，其特征在于，包括：

載體塊；

接口塊；

第一工藝模塊，設置于所述載體塊和所述接口塊之間，包括液體處理模塊以及設置于所述液體處理模塊相對兩側的第一熱處理模塊和第二熱處理模塊；

其中，所述第一熱處理模塊包括兩層層疊設置的第一熱處理單元，所述液體處理模塊包括四層層疊設置的液體處理單元，所述第二熱處理模塊包括兩層層疊設置的第二熱處理單元，且每一層所述第一熱處理單元和每一層所述第二熱處理單元均具有兩個相適配的機械手；

第二工藝模塊，設置于所述載體塊和所述接口塊之間，與所述第一工藝模塊的結構相同，且與所述第一工藝模塊對稱設置。

2.根據權利要求1所述的涂膠顯影設備，其特征在于，第一層第一熱處理單元包括依次層疊設置的第一光學膠涂布單元、第一增粘單元組、第一低溫加熱單元組、第二增粘單元組、第二低溫加熱單元組和第二光學膠涂布單元，所述第一增粘單元組和所述第二增粘單元組均包括一列層疊設置的增粘單元，所述第一低溫加熱單元組和所述第二低溫加熱單元組均包括一列層疊設置的低溫加熱單元。

3.根據權利要求2所述的涂膠顯影設備，其特征在于，第一層第一熱處理單元還包括第一冷卻單元組、第二冷卻單元組、第一緩存單元和第二緩存單元，所述第一冷卻單元組和所述第二冷卻單元組均包括一列層疊設置的冷卻單元，且所述第一冷卻單元組與所述第一光學膠涂布單元和所述第一增粘單元組并列設置，所述第二冷卻單元組與所述第二光學膠涂布單元和所述第二低溫加熱單元組并列設置，所述第一緩存單元和所述第一低溫加熱單元組并列設置，所述第二緩存單元和所述第二增粘單元組并列設置。

4.根據權利要求1所述的涂膠顯影設備，其特征在于，第二層第一熱處理單元包括依次設置的第三緩存單元、第三低溫加熱單元組、第一缺陷檢測單元、第四低溫加熱單元組、第二缺陷檢測單元和第四緩存單元，所述第三低溫加熱單元組和所述第四低溫加熱單元組均包括一列層疊設置的低溫加熱單元，且所述第三緩存單元與所述第三低溫加熱單元組層疊設置，所述第一缺陷檢測單元與所述第四低溫加熱單元組層疊設置，所述第二缺陷檢測單元與所述第四緩存單元層疊設置。

5.根據權利要求4所述的涂膠顯影設備，其特征在于，第二層第一熱處理單元還包括第三冷卻單元組、第四冷卻單元組、第五緩存單元和第六緩存單元，所述第三冷卻單元組和所述第四冷卻單元組均包括一列層疊設置的冷卻單元，所述第三冷卻單元組和所述第五緩存單元層疊設置，所述第五緩存單元與所述第一缺陷檢測單元并列設置，所述第六緩存單元和所述第四冷卻單元組層疊設置，且所述第六緩存單元和所述第四冷卻單元組均與所述第四低溫加熱單元組并列設置。

6.根據權利要求1所述的涂膠顯影設備，其特征在于，第一層液體處理單元包括依次設置的第一底層膠單元組和第二底層膠單元組，所述第一底層膠單元組包括并列設置的第一底層膠單元和第二底層膠單元，所述第二底層膠單元組包括并列設置的第三底層膠單元和所述第四底層膠單元。

7.根據權利要求6所述的涂膠顯影設備，其特征在于，第二層液體處理單元包括依次設置第一涂膠單元組和第二涂膠單元組，所述第一涂膠單元組和所述第二底層膠單元組層疊設置，所述第一涂膠單元組包括并列設置的第一涂膠單元和第二涂膠單元，所述第二涂膠單元組包括并列設置的第三涂膠單元和第四涂膠單元。

8.根據權利要求7所述的涂膠顯影設備，其特征在于，第三層液體處理單元包括依次設置的第一保護膜涂布單元組和第二保護膜涂布單元組，所述第一保護膜涂布單元組與所述第二涂膠單元組層疊設置，所述第一保護膜涂布單元組包括并列設置的第一保護膜涂布單元和第二保護膜涂布單元，所述第二保護膜涂布單元組包括并列設置的第三保護膜涂布單元和第四保護膜涂布單元。