[發(fā)明專利]一種化工反應釜的耐高溫底座裝置

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• 申請日: 2020-08-03
• 公開（公告）號: CN111921467A
• 公開（公告）日: 2020-11-13
• 發(fā)明（設計）人: 張磊
• 申請（專利權）人: 張磊
• 主分類號: B01J19/00
• 分類號: B01J19/00;F16M5/00;F16M7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明涉及化工反應釜技術領域，具體為一種化工反應釜的耐高溫底座裝置，包括底座和釜殼體，底座上端連接有釜殼體，底座上環(huán)設有若干均勻分布的波浪管腔，底座上開設有環(huán)形管腔一和環(huán)形管腔二,波浪管腔設置于環(huán)形管腔一和環(huán)形管腔二之間，波浪管腔一端和環(huán)形管腔一連接，波浪管腔的另一端的底座上開設有支管腔,支管腔一端和環(huán)形管腔二連接，環(huán)形管腔二一側的底座上開設有排水管腔，本發(fā)明構造設計實現(xiàn)了底座殼體中進行水流的流動，水流流動帶走底座上的熱量，進而避免高溫對底座造成的影響，底座殼體上溫度過高時，底座中的水流通道自動暢通，實現(xiàn)自動化控制。

技術領域

本發(fā)明涉及化工反應釜技術領域，具體為一種化工反應釜的耐高溫底座裝置。

背景技術

現(xiàn)有技術中的化工反應釜上使用的底座，起到承托整個反應釜內腔中的物料作用，這樣底座具有一定的抗壓性能，此外反應釜中進行高溫環(huán)境的物料反應，如果底座長期承受高溫和高壓影響，勢必會降低底座的壽命。

如果能夠發(fā)明一種底座，具有自動降溫的功能，對底座進行適量的降溫，確保不會對反應釜內腔中的溫度造成明顯的影響，就能解決問題，為此我們提供了一種化工反應釜的耐高溫底座裝置。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的在于提供一種化工反應釜的耐高溫底座裝置，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術方案：一種化工反應釜的耐高溫底座裝置，包括底座和釜殼體，底座上端連接有釜殼體，所述底座上環(huán)設有若干均勻分布的波浪管腔，底座上開設有環(huán)形管腔一和環(huán)形管腔二,波浪管腔設置于環(huán)形管腔一和環(huán)形管腔二之間，波浪管腔一端和環(huán)形管腔一連接，波浪管腔的另一端的底座上開設有支管腔,支管腔一端和環(huán)形管腔二連接，所述環(huán)形管腔二一側的底座上開設有排水管腔，所述排水管腔一端延伸到底座外部，排水管腔一側的底座上嵌入有控制管,控制管一端延伸到排水管腔中，所述支管腔一側設置有伸縮柱,伸縮柱一端延伸到支管腔中，支管腔中設置有密封板和密封環(huán),支管腔的一端端部固定連接有密封板,支管腔上套有密封環(huán)，所述伸縮柱的另一端延伸到底座上開設的圓板且中，且底座圓板腔中設置有氣囊、壓力板和彈簧，彈簧套在伸縮柱上，所述底座的一側設置有外接管,外接管固定嵌入到底座中，所述外接管一端和環(huán)形管腔一連通，所述控制管中設置有兩個控制裝置,控制管的一端延伸到排水管腔的內腔中，且控制管的另一端延伸到底座外部，控制管端部連接有螺紋柱，所述排水管腔中設置有滑柱、密封球和密封筒，所述密封球的一端設置有密封筒,密封球的另一端固定連接有滑柱,滑柱一端延伸到控制管中，所述控制裝置包括定位板和形變桶，所述定位板的一側固定連接有形變桶。

優(yōu)選的，所述密封環(huán)為圓環(huán)狀且密封環(huán)固定在支管腔的內壁上，密封環(huán)的一側設置有圓盤狀的密封板,伸縮柱貫穿底座上殼體上開設的通孔。

優(yōu)選的，所述密封筒形狀為圓筒且筒體一側底面中部開設有球面槽，密封筒的球面槽和密封球契合，密封筒固定在排水管腔的內壁上。

優(yōu)選的，所述滑柱形狀為圓柱且柱體活動套接在控制管中，滑柱一端從控制管中凸出來，且滑柱端部和密封球固定連接，滑柱側壁上固定環(huán)設有若干均勻分布的凸出滑塊，滑柱上的凸出滑塊部分延伸到控制管內壁上開設的滑槽中。

優(yōu)選的，所述定位板形狀為圓筒且筒體固定在控制管的內壁上，形變桶的形狀為波紋管狀且管體一端為圓板封堵，形變桶的開口端和定位板固定連接。

優(yōu)選的，所述氣囊形狀圓盤殼體狀，氣囊的一側面和底座上的圓板腔底面固定連接，氣囊的另一側面固定連接有圓板狀的壓力板,彈簧一端抵在壓力板上。

與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的有益效果是：

1.本發(fā)明構造設計實現(xiàn)了底座殼體中進行水流的流動，水流流動帶走底座上的熱量，進而避免高溫對底座造成的影響，底座殼體上溫度過高時，底座中的水流通道自動暢通，實現(xiàn)自動化控制；