[發明專利]一種化工反應釜的耐高溫底座裝置

在審

• 申請號: 202010765201.6
• 申請日: 2020-08-03
• 公開（公告）號: CN111921467A
• 公開（公告）日: 2020-11-13
• 發明（設計）人: 張磊
• 申請（專利權）人: 張磊
• 主分類號: B01J19/00
• 分類號: B01J19/00;F16M5/00;F16M7/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種化工反應釜的耐高溫底座裝置，包括底座(1)和釜殼體(2)，底座(1)上端連接有釜殼體(2)，其特征在于：所述底座(1)上環設有若干均勻分布的波浪管腔(3)，底座(1)上開設有環形管腔一(4)和環形管腔二(5),波浪管腔(3)設置于環形管腔一(4)和環形管腔二(5)之間，波浪管腔(3)一端和環形管腔一(4)連接，波浪管腔(3)的另一端的底座(1)上開設有支管腔(6),支管腔(6)一端和環形管腔二(5)連接，所述環形管腔二(5)一側的底座(1)上開設有排水管腔(7)，所述排水管腔(7)一端延伸到底座(1)外部，排水管腔(7)一側的底座(1)上嵌入有控制管(8),控制管(8)一端延伸到排水管腔(7)中，所述支管腔(6)一側設置有伸縮柱(9),伸縮柱(9)一端延伸到支管腔(6)中，支管腔(6)中設置有密封板(10)和密封環(11),支管腔(6)的一端端部固定連接有密封板(10),支管腔(6)上套有密封環(11)，所述伸縮柱(9)的另一端延伸到底座(1)上開設的圓板且中，且底座(1)圓板腔中設置有氣囊(12)、壓力板(13)和彈簧(22)，彈簧(22)套在伸縮柱(9)上，所述底座(1)的一側設置有外接管(14),外接管(14)固定嵌入到底座(1)中，所述外接管(14)一端和環形管腔一(4)連通，所述控制管(8)中設置有兩個控制裝置(15),控制管(8)的一端延伸到排水管腔(7)的內腔中，且控制管(8)的另一端延伸到底座(1)外部，控制管(8)端部連接有螺紋柱(16)，所述排水管腔(7)中設置有滑柱(17)、密封球(18)和密封筒(19)，所述密封球(18)的一端設置有密封筒(19),密封球(18)的另一端固定連接有滑柱(17),滑柱(17)一端延伸到控制管(8)中，所述控制裝置(15)包括定位板(20)和形變桶(21)，所述定位板(20)的一側固定連接有形變桶(21)。

2.根據權利要求1所述的一種化工反應釜的耐高溫底座裝置，其特征在于：所述密封環(11)為圓環狀且密封環(11)固定在支管腔(6)的內壁上，密封環(11)的一側設置有圓盤狀的密封板(10),伸縮柱(9)貫穿底座(1)上殼體上開設的通孔。

3.根據權利要求1所述的一種化工反應釜的耐高溫底座裝置，其特征在于：所述密封筒(19)形狀為圓筒且筒體一側底面中部開設有球面槽，密封筒(19)的球面槽和密封球(18)契合，密封筒(19)固定在排水管腔(7)的內壁上。

4.根據權利要求1所述的一種化工反應釜的耐高溫底座裝置，其特征在于：所述滑柱(17)形狀為圓柱且柱體活動套接在控制管(8)中，滑柱(17)一端從控制管(8)中凸出來，且滑柱(17)端部和密封球(18)固定連接，滑柱(17)側壁上固定環設有若干均勻分布的凸出滑塊，滑柱(17)上的凸出滑塊部分延伸到控制管(8)內壁上開設的滑槽中。

5.根據權利要求1所述的一種化工反應釜的耐高溫底座裝置，其特征在于：所述定位板(20)形狀為圓筒且筒體固定在控制管(8)的內壁上，形變桶(21)的形狀為波紋管狀且管體一端為圓板封堵，形變桶(21)的開口端和定位板(20)固定連接。

6.根據權利要求1所述的一種化工反應釜的耐高溫底座裝置，其特征在于：所述氣囊(12)形狀圓盤殼體狀，氣囊(12)的一側面和底座(1)上的圓板腔底面固定連接，氣囊(12)的另一側面固定連接有圓板狀的壓力板(13),彈簧(22)一端抵在壓力板(13)上。