[發明專利]一種多平臺測向交叉定位優化方法有效
| 申請號: | 202010764296.X | 申請日: | 2020-08-02 |
| 公開(公告)號: | CN111999696B | 公開(公告)日: | 2023-07-04 |
| 發明(設計)人: | 應濤;向一波;張友兵;田威;康志勇;陳傳克;張若愚 | 申請(專利權)人: | 中國人民解放軍海軍工程大學 |
| 主分類號: | G01S5/00 | 分類號: | G01S5/00;G06F17/16 |
| 代理公司: | 武漢楚天專利事務所 42113 | 代理人: | 孔敏 |
| 地址: | 430033 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 平臺 測向 交叉 定位 優化 方法 | ||
本發明提供了一種多平臺測向交叉定位優化方法,包括如下步驟:步驟一、各平臺兩兩測向交叉定位,獲得目標粗略定位點的集合;步驟二、對目標粗略定位點數據進行預處理,求取幾何中心,作為目標的概略位置;步驟三、將目標概略位置,各觀測平臺測向數據、電子對抗偵察裝備測向誤差以及部署位置等信息作為輸入,進行兩兩測向交叉定位,計算GDOP誤差值并逐一比對,GDOP誤差值最小時,對應的兩站測向交叉定位輸出即為最優定位結果。本發明提出的方法充分考慮了各平臺裝備實際偵察測向能力、目標與各平臺的位置幾何關系等因素對測向交叉定位精度的影響,確保了測向交叉定位平臺選擇的最優化,提升了多平臺協同交叉定位的精度。
技術領域
本發明涉及電子對抗偵察技術領域,具體是一種多平臺測向交叉定位優化方法。
背景技術
隨著電子干擾技術、低空突防技術、隱身技術及反輻射導彈技術的不斷發展和大規模運用,傳統雷達系統的生存能力和作戰效能正面臨著日益嚴重的威脅。由于無源定位技術可以在自身不輻射信號的情況下獲取輻射源的位置信息,具有隱蔽性好、抗干擾能力強、作用距離遠等優點,受到了各國的重視。在復雜戰場環境中,高精度估計出目標輻射源的位置,有助于精準的態勢感知和干擾引導,將為指揮員決策和武器平臺打擊引導提供更好的情報保障能力。方位是目標輻射源較為穩定、可靠的信息,測向交叉定位是無源定位中運用最廣泛、研究時間最長的一種定位方法,一直是國內外學者研究的重點。根據雙站測向交叉定位誤差模型,雙站測向交叉定位的精度與平臺電子偵察裝備測向誤差、目標與各平臺的位置幾何關系等因素有關。在多平臺電子對抗偵察裝備對同一目標截獲測向的情況下,如何充分考慮測向交叉定位誤差因素,確保測向交叉定位平臺選擇的最優化、實現測向交叉定位的精準化,是急需研究解決的問題。
從國內外公開的文獻中,還沒有發現針對這一問題開展研究的報導。本發明提出了一種多平臺測向交叉定位優化方法,提升了多平臺協同交叉定位的精度,在軍事和民用領域具有重要的應用價值。
發明內容
本發明提供一種多平臺測向交叉定位優化方法,充分考慮了各平臺裝備實際偵察測向能力、目標與各平臺的位置幾何關系等因素對測向交叉定位精度的影響,確保了測向交叉定位平臺選擇的最優化,提升了多平臺協同交叉定位的精度。
一種多平臺測向交叉定位優化方法,包括如下步驟:
步驟一、至少有個觀測平臺對同一輻射源目標截獲測向,各平臺兩兩測向交叉定位,獲得個目標粗略定位點的集合,其中n為大于等于3整數;
步驟二、對步驟一獲得的個目標粗略定位點數據進行預處理,求取幾何中心,作為目標的概略位置;
步驟三:將步驟二得到的目標概略位置、各觀測平臺測向數據、電子對抗偵察裝備測向誤差以及部署位置作為輸入,進行兩兩測向交叉定位,計算GDOP誤差值并逐一比對,當GDOP誤差值最小時,對應的兩站測向交叉定位輸出即為最優定位結果。
進一步的,所述步驟三具體包括:
步驟3.1:計算GDOP誤差值:假設在一個二維空間中兩觀測平臺的部署位置分別為CX1(x1,y1)和CX2(x2,y2),兩觀測平臺對同一輻射源目標測向數據分別為θ1和θ2,且測向誤差服從均值為零,標準差分別為σ1和σ2且相對獨立的正態分布,目標概略位置為T(xτ,yτ),且目標概略位置與兩觀測平臺距離分別為R1和R2,其定位誤差dP如下式所示
其中測角誤差
可令
得到
dP=Hdθ
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