[發(fā)明專利]檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置及方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010763336.9
• 申請日: 2020-07-31
• 公開（公告）號: CN112051273A
• 公開（公告）日: 2020-12-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 金成昱;金帥炯;梁賢石;賀曉彬;楊濤;李俊峰;王文武
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院微電子研究所;真芯（北京）半導(dǎo)體有限責(zé)任公司
• 主分類號: G01N21/94
• 分類號: G01N21/94;G03F1/84;B08B5/02
• 代理公司: 北京辰權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11619
• 代理人: 何家鵬

本申請涉及一種檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置及方法。所述裝置包括：裝載單元，裝載單元包括用于保持光掩模的保持部；檢測單元，檢測單元用于檢測光掩模上的微塵；清理單元，清理單元用于對檢測到的微塵進(jìn)行清理。在應(yīng)用微塵清理裝置時(shí)，可以將待測的光掩模裝載于裝載單元，裝載后的光掩模保持在保持部上，之后可以啟動(dòng)檢測單元對光掩模上的微塵進(jìn)行檢測，待完成檢測后，可以通過清理單元對微塵進(jìn)行清理，從而去除光掩模上的微塵。利用本申請的微塵清理裝置能夠以連續(xù)的方式順次對光掩模實(shí)施微塵檢測和微塵清除的工作，使得微塵檢測和微塵清除兩項(xiàng)工作無縫銜接，由此，可以提高光掩模的微塵檢測及清理過程的整體效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請屬于半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置及方法。

背景技術(shù)

本部分提供的僅僅是與本公開相關(guān)的背景信息，其并不必然是現(xiàn)有技術(shù)。

隨著現(xiàn)代半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展，光刻技術(shù)在芯片制造工藝流程中的作用越來越重要。光刻技術(shù)主要是使用光刻機(jī)將光掩模(reticle)上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上，光掩模包含了整個(gè)硅片的芯片陣列。光刻工藝中使用的光掩模有很高的清潔度要求，微塵(particle)會(huì)在光刻工藝中投影到硅片上形成多余圖形，從而破壞芯片電路圖形，對產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。

為了避免上述問題，現(xiàn)有的光刻工藝中使用的光掩模在曝光前和曝光后，工作人員都會(huì)利用IRIS(Integrated Reticle Inspection System,光掩模綜合檢查系統(tǒng))或者光刻機(jī)對光掩模進(jìn)行微塵檢測。如果檢測出的微塵的數(shù)量超過允許值，則將光掩模從設(shè)備中取出，然后采用人工肉眼的方式在光掩模上找出微塵并去除。上述光掩模的微塵檢測及清理過程需要花費(fèi)較長的時(shí)間，效率低下。

發(fā)明內(nèi)容

本申請的目的是提供一種檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置，利用該裝置可以有效提高光掩模的微塵檢測以及清理過程的效率。該目的是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

本申請的第一方面提出了一種檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置，包括：裝載單元，所述裝載單元包括用于保持光掩模的保持部；檢測單元，所述檢測單元用于檢測所述玻璃面和所述膜面上的微塵；清理單元，所述清理單元用于對檢測到的所述微塵進(jìn)行清理。

根據(jù)本申請?zhí)岢龅臋z測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置，其包括裝載單元、檢測單元和清理單元，在具體應(yīng)用微塵清理裝置時(shí)，可以將待測的光掩模裝載于裝載單元，裝載后的光掩模保持在保持部上，之后可以啟動(dòng)檢測單元對光掩模上的微塵進(jìn)行檢測，待完成檢測后，可以通過清理單元對微塵進(jìn)行清理，從而去除光掩模上的微塵。利用本申請的微塵清理裝置能夠以連續(xù)的方式順次對光掩模實(shí)施微塵檢測和微塵清除的工作，使得微塵檢測和微塵清除兩項(xiàng)工作無縫銜接，由此，可以提高光掩模200的微塵檢測及清理過程的整體效率。另外，由于以清理單元對光掩模實(shí)施微塵清除代替了人工手動(dòng)清除微塵的方式，由此可以進(jìn)一步提高操作效率。

在本申請的一些實(shí)施例中，所述清理單元包括氮?dú)鈽尯陀糜诒３炙龅獨(dú)鈽尩倪\(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)具有沿第一方向的平移自由度，所述第一方向位于水平面內(nèi)。

在本申請的一些實(shí)施例中，所述氮?dú)鈽尩膰娚浞较蚺c所述光掩模所在平面的夾角為15°至30°。

在本申請的一些實(shí)施例中，所述清理單元包括吸氣嘴和用于保持所述吸氣嘴的運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述運(yùn)動(dòng)機(jī)構(gòu)具有沿第一方向的平移自由度。

在本申請的一些實(shí)施例中，所述裝載單元還包括機(jī)械臂，所述保持部連接在所述機(jī)械臂上，所述機(jī)械臂包括平移機(jī)構(gòu)和與所述平移機(jī)構(gòu)連接的第一支撐體，所述平移機(jī)構(gòu)用于使所述第一支撐體沿第二方向移動(dòng)，所述第二方向位于水平面內(nèi)且與所述第一方向相垂直。