[發(fā)明專利]檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置及方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010763336.9
• 申請日: 2020-07-31
• 公開（公告）號: CN112051273A
• 公開（公告）日: 2020-12-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 金成昱;金帥炯;梁賢石;賀曉彬;楊濤;李俊峰;王文武
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院微電子研究所;真芯（北京）半導(dǎo)體有限責(zé)任公司
• 主分類號: G01N21/94
• 分類號: G01N21/94;G03F1/84;B08B5/02
• 代理公司: 北京辰權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11619
• 代理人: 何家鵬

1.一種檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置，其特征在于，所述裝置包括：

裝載單元，所述裝載單元包括用于保持光掩模的保持部；

檢測單元，所述檢測單元用于檢測所述玻璃面和所述膜面上的微塵；

清理單元，所述清理單元用于對檢測到的所述微塵進(jìn)行清理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置，其特征在于，所述清理單元包括氮?dú)鈽尯陀糜诒３炙龅獨(dú)鈽尩倪\(yùn)動機(jī)構(gòu)，所述運(yùn)動機(jī)構(gòu)具有沿第一方向的平移自由度，所述第一方向位于水平面內(nèi)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置，其特征在于，所述氮?dú)鈽尩膰娚浞较蚺c所述光掩模所在平面的夾角為15°至30°。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置，其特征在于，所述清理單元包括吸氣嘴和用于保持所述吸氣嘴的運(yùn)動機(jī)構(gòu)，所述運(yùn)動機(jī)構(gòu)具有沿第一方向的平移自由度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置，其特征在于，所述裝載單元還包括機(jī)械臂，所述保持部連接在所述機(jī)械臂上，所述機(jī)械臂包括平移機(jī)構(gòu)和與所述平移機(jī)構(gòu)連接的第一支撐體，所述平移機(jī)構(gòu)用于使所述第一支撐體沿第二方向移動，所述第二方向位于水平面內(nèi)且與所述第一方向相垂直。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置，其特征在于，所述機(jī)械臂還包括翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和第二支撐體，所述保持部與所述第二支撐體連接，所述第一支撐體和所述第二支撐體之間通過所述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)連接，所述翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)能夠帶動所述第二支撐體翻轉(zhuǎn)至少180°。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置，其特征在于，所述檢測單元包括：

第一照射源，配置為提供照射束以照射所述光掩模的玻璃面；

第一檢測器，配置為攔截來自于照射所述玻璃面所產(chǎn)生的散射光并將照射區(qū)域的圖像進(jìn)行投影；

接收器，配置為接收被所述第一檢測器投影的圖像。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置，其特征在于，所述檢測單元還包括：

第二照射源，配置為提供照射束以照射所述光掩模的膜面；

第二檢測器，配置為攔截來自于照射所述膜面所產(chǎn)生的散射光并將照射區(qū)域的圖像進(jìn)行投影；

所述接收器還配置為接收被所述第二檢測器投影的圖像。

9.根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置，其特征在于，所述微塵清理裝置還包括控制器，所述控制器配置為根據(jù)所述接收器所接收的圖像對微塵進(jìn)行識別并計算所述微塵所處的坐標(biāo)。

10.一種檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的方法，基于根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的檢測及清理光掩模的玻璃面及膜面上的微塵的裝置而實(shí)施，其特征在于，所述方法包括：

將光掩模安置于所述裝載單元；

通過所述檢測單元檢測光掩模上的微塵；

通過所述清理單元對檢測到的所述微塵進(jìn)行清理。