[發明專利]一種涂膠顯影設備的噴嘴結構

在審

• 申請號: 202010761216.5
• 申請日: 2020-07-31
• 公開（公告）號: CN111905940A
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發明（設計）人: 吳永利
• 申請（專利權）人: 芯米（廈門）半導體設備有限公司
• 主分類號: B05B1/30
• 分類號: B05B1/30;B05B15/65;G03F7/16;G03F7/30
• 代理公司: 廈門仕誠聯合知識產權代理事務所(普通合伙) 35227
• 代理人: 吳圳添

本發明公開了一種涂膠顯影設備的噴嘴結構，包括連接管、密封片、噴頭和連接裝置，連接管右側設置有密封片，并且密封片右側與噴頭相連接，連接管左側設置有連接裝置，該涂膠顯影設備的噴嘴結構通過設置了連接裝置，連接時只需將連接環與外部設備進行連接，并由限位塊進行限位增加固定性即可，解決了現有噴嘴結構連接時穩定性較差的問題，通過設置了流量調節機構，使用轉動環帶動推動環轉動，使推塊推動轉動片轉動進行流量調節，解決了對于不同加工件需要的原料較少，流量過大容易出現浪費以及溢出的情況的問題。

技術領域

本發明涉及涂膠顯影設備相關領域，具體是一種涂膠顯影設備的噴嘴結構。

背景技術

在半導體生產領域，涂膠是在半導體晶片涂覆光刻膠的一種工藝，屬于光刻工序，與曝光，顯影系統共同構成整個半導體制造過程中最關鍵、重復次數最多的一道工藝過程，對于提高產品集成度和成品率有著重要影響；涂膠顯影設備是半導體芯片制程中必不可少的處理設備，涂膠顯影設備利用機械手實現晶圓在各系統間的傳輸和加工，與光刻機達成完美配合從而完成晶圓的光刻膠涂覆、固化、顯影等工藝過程。

涂膠顯影設備工作時需要使用噴嘴進行加工，但現有噴嘴結構連接時穩定性較差，并且對于不同加工件需要的原料較少，流量過大容易出現浪費以及溢出的情況。

發明內容

因此，為了解決上述不足，本發明在此提供一種涂膠顯影設備的噴嘴結構。

本發明是這樣實現的，構造一種涂膠顯影設備的噴嘴結構，該裝置包括連接管，所述連接管右側設置有密封片，并且密封片右側與噴頭相連接，所述連接管左側設置有連接裝置，所述連接裝置包括連接環、限位塊、流量調節機構和連接架，所述連接環與限位塊內側進行電弧焊，并且連接環右側設置有流量調節機構，所述連接架左側與連接環相連接。

優選的，所述流量調節機構包括安裝環、軸承、轉動片、轉軸、推動環、推塊、轉動環、防滑紋和密封圈，所述安裝環左側與連接環相連接，所述軸承嵌入于安裝環中部，所述轉動片左側通過轉軸與軸承轉動配合，所述推動環中部設置有推塊，并且推動環外圈與轉動環相連接，所述防滑紋開設于轉動環表面，所述密封圈右側與轉動環緊密粘附。

優選的，所述限位塊相互對稱設置有兩個，并且兩個限位塊形狀相同。

優選的，所述連接架右側外徑與連接管相同，并且連接架與連接管相互平行安裝。

優選的，所述轉動片設置有七片，并且七片轉動片形狀大小相同。

優選的，所述轉動環外徑與推動環相同，并且推動環與轉動環相互平行安裝。

優選的，防滑紋開設有兩條以上，并且每條防滑紋深度相同。

優選的，所述密封圈厚度為2mm，并且密封圈與轉動環平行安裝。

優選的，所述轉軸為不銹鋼材質。

優選的，所述流量調節機構的側面包括多個矩形平面，多個所述矩形平面兩兩相鄰以在所述流量調節機構側面形成多個凸角。

優選的，所述連接架包括一個連接圓環和四個連接曲軸；四個所述連接曲軸一端連接在所述連接架內側面，四個所述連接曲軸另一端連接在所述流量調節機構。

本發明具有如下優點：本發明通過改進在此提供一種涂膠顯影設備的噴嘴結構，與同類型設備相比，具有如下改進：

優點1：本發明所述的一種涂膠顯影設備的噴嘴結構，通過設置了連接裝置，連接時只需將連接環與外部設備進行連接，并由限位塊進行限位增加固定性即可，解決了現有噴嘴結構連接時穩定性較差的問題。

優點2：本發明所述的一種涂膠顯影設備的噴嘴結構，通過設置了流量調節機構，使用轉動環帶動推動環轉動，使推塊推動轉動片轉動進行流量調節，解決了對于不同加工件需要的原料較少，流量過大容易出現浪費以及溢出的情況的問題。