[發(fā)明專利]一種多片對位曝光方法和系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010760905.4
• 申請日: 2020-07-31
• 公開（公告）號: CN111897189A
• 公開（公告）日: 2020-11-06
• 發(fā)明（設計）人: 梁珊;洪嘉樂
• 申請（專利權(quán)）人: 伯恩創(chuàng)盛技術(shù)研發(fā)（惠州）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明涉及半導體制造技術(shù)領(lǐng)域，提供一種多片對位曝光方法和系統(tǒng)，在產(chǎn)品曝光之前，實時地采集陣列基板上的產(chǎn)品和靶標的坐標生成位置坐標數(shù)據(jù)文件，并根據(jù)位置坐標數(shù)據(jù)文件修正預設曝光圖紙，得到實際曝光圖紙；還建立了包括主控模塊以及與其電性連接的曝光裝置、掃描裝置的多片曝光系統(tǒng)，充分利用主控模塊的計算功能，生成并根據(jù)位置坐標數(shù)據(jù)文件，對預設曝光圖紙上的每一個產(chǎn)品進行了細致且精確的位置修正，得到與陣列基板完全對應的實際曝光圖紙，從而能夠在同一時間對多片產(chǎn)品進行對位、曝光，不僅以幾何倍數(shù)地增大了曝光設備的產(chǎn)能，還大幅度地提高曝光設備的生產(chǎn)效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導體制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種多片對位曝光方法和系統(tǒng)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有的曝光方式大都是采用單個曝光裝置單片/一行/一列對位曝光，例如《曝光方法》（申請?zhí)枮镃N1421746A）中描述的技術(shù)手段“使用相互沿相反方向移動宅址掩模原版的原版臺……在掃描方向相對移動上述晶片和掩模原版進行掃描曝光，同時在與所述掃碼方向垂直的步進方向移動上述晶片臺……（權(quán)利要求1或5）”，主要為通過驅(qū)動晶片臺移動，依次序地對每一行的晶片進行掃描、曝光。雖然，這種曝光方法也能夠同時對一整行的產(chǎn)品進行同步的曝光處理，但是，依舊存在以下缺點：

①每次只能對一行產(chǎn)品對位曝光，不能同時對整個臺面上的產(chǎn)品進行對位曝光，導致設備產(chǎn)能不足，進而無法降低生產(chǎn)成本，使得產(chǎn)品價格居高不下；

②且由于設備平臺和曝光有效范圍都遠遠大于產(chǎn)品外形尺寸，但是每次只能曝光一行產(chǎn)品，不僅降低了晶片臺的空間利用率，還浪費了設備曝光能量，使得設備利用率極低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種多片對位曝光方法和系統(tǒng)，解決了現(xiàn)有曝光方法產(chǎn)能不足導致的審查成本激增、設備利用率極低的技術(shù)問題。

為解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種多片對位曝光方法，包括步驟：

S1、在基板上按陣列方式排布多片產(chǎn)品，并設置多個靶標，得到陣列基板；

S2、掃描所述陣列基板，生成包含每個所述靶標和每個所述產(chǎn)品的坐標的位置坐標數(shù)據(jù)文件；

S3、根據(jù)所述位置坐標數(shù)據(jù)文件，修正對應于所述陣列基板的預設曝光圖紙，得到實際曝光圖紙；

S4、根據(jù)所述實際曝光圖紙，對所述陣列基板上的多個所述產(chǎn)品進行對位曝光。

本基礎方案在產(chǎn)品曝光之前，實時采集陣列基板上的產(chǎn)品和靶標的坐標生成位置坐標數(shù)據(jù)文件，并根據(jù)位置坐標數(shù)據(jù)文件修正預設曝光圖紙，得到實際曝光圖紙，從而能夠在同一時間對多片產(chǎn)品進行對位、曝光，不僅以幾何倍數(shù)地增大了曝光設備的產(chǎn)能，還大幅度地提高曝光設備的生產(chǎn)效率。

在進一步的實施方案中，在所述步驟S2中，所述位置坐標數(shù)據(jù)文件為文本文檔，所述文本文檔顯示坐標的順序為：先所述靶標的順次坐標，后所述產(chǎn)品的順次坐標。

本方案將每個靶標的坐標、每個產(chǎn)品的坐標進行順次排列后，順次排列靶標和產(chǎn)品，使得位置坐標唯一，從而能夠流暢地調(diào)用位置坐標數(shù)據(jù)文件修正預設曝光圖紙，并在曝光時進行精準對位，避免對位不一致，保證曝光質(zhì)量。

在進一步的實施方案中，所述產(chǎn)品的順次坐標包括順序排布的多片產(chǎn)品的順次坐標，每片所述產(chǎn)品的順次坐標包括根據(jù)所述產(chǎn)品的外沿標記的多個順序排布的特征點坐標。

本方案以規(guī)律性的排布方式存儲產(chǎn)品的外沿標記的多個順序排布的特征點坐標，不僅提高了產(chǎn)品坐標數(shù)據(jù)的可讀性，還避免了因數(shù)據(jù)錯亂而導致的反復調(diào)整運算調(diào)用通道，通過統(tǒng)一規(guī)律的數(shù)據(jù)排布大幅度提高了設備運行計算速率。

在進一步的實施方案中，所述步驟S3具體包括步驟：