[發明專利]一種多片對位曝光方法和系統

在審

• 申請號: 202010760905.4
• 申請日: 2020-07-31
• 公開（公告）號: CN111897189A
• 公開（公告）日: 2020-11-06
• 發明（設計）人: 梁珊;洪嘉樂
• 申請（專利權）人: 伯恩創盛技術研發（惠州）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種多片對位曝光方法，其特征在于，包括步驟：

S1、在基板上按陣列方式排布多片產品，并設置多個靶標，得到陣列基板；

S2、掃描所述陣列基板，生成包含每個所述靶標和每個所述產品的坐標的位置坐標數據文件；

S3、根據所述位置坐標數據文件，修正對應于所述陣列基板的預設曝光圖紙，得到實際曝光圖紙；

S4、根據所述實際曝光圖紙，對所述陣列基板上的多個所述產品進行對位曝光。

2.如權利要求1所述的一種多片對位曝光方法，其特征在于，在所述步驟S2中，所述位置坐標數據文件為文本文檔，所述文本文檔顯示坐標的順序為：先所述靶標的順次坐標，后所述產品的順次坐標。

3.如權利要求2所述的一種多片對位曝光方法，其特征在于：所述產品的順次坐標包括順序排布的多片產品的順次坐標，每片所述產品的順次坐標包括根據所述產品的外沿標記的多個順序排布的特征點坐標。

4.如權利要求1所述的一種多片對位曝光方法，其特征在于，所述步驟S3具體包括步驟：

S31、計算所述預設曝光圖紙相對于所述位置坐標數據文件的產品中心偏移補償和產品角度偏移補償；

S32、按照所述產品中心偏移補償和產品角度偏移補償修正所述預設曝光圖紙后，得到實際曝光圖紙。

5.如權利要求2所述的一種多片對位曝光方法，其特征在于，所述步驟S4包括步驟：

S41、在所述陣列基板上涂布光阻并進行預烤；

S42、將所述實際曝光圖紙導入曝光裝置；

S43、所述曝光裝置按照所述實際曝光圖紙中的所述靶標進行對位；

S44、所述曝光裝置對預烤后的所述陣列基板上的所述產品進行曝光。

6.一種多片對位曝光系統，其特征在于：包括主控模塊以及與其電性連接的曝光裝置、掃描裝置；

所述掃描裝置用于掃描排布有多片產品且設置有多個靶標的陣列基板；；

所述主控模塊用于根據所述掃描裝置的掃描結果生成包含每個所述靶標和每個所述產品的坐標的位置坐標數據文件，還用于根據所述位置坐標數據文件，修正對應于所述陣列基板的預設曝光圖紙，得到實際曝光圖紙；

所述曝光裝置用于根據所述實際曝光圖紙，對所述陣列基板上的多個所述產品進行對位曝光。

7.如權利要求6所述的一種多片對位曝光系統，其特征在于，

所述位置坐標數據文件為文本文檔，包含每個所述靶標和每個所述產品的坐標，所述文本文檔顯示坐標的順序為：先所述靶標的順次坐標，后所述產品的順次坐標。

8.如權利要求7所述的一種多片對位曝光系統，其特征在于：所述產品的順次坐標包括順序排布的多片產品的順次坐標，每片所述產品的順次坐標包括根據所述產品的外沿標記的多個順序排布的特征點坐標。

9.如權利要求6所述的一種多片對位曝光系統，其特征在于：所述主控模塊包括圖像處理模塊、運算模塊和存儲模塊；

所述存儲模塊用于存儲預設曝光圖紙；

所述圖像處理模塊用于識別所述掃描裝置的輸出圖像，得到所述位置坐標數據文件；

所述運算模塊用于計算所述預設曝光圖紙相對于所述位置坐標數據文件的產品中心偏移補償和產品角度偏移補償，并修正所述預設曝光圖紙，進而得到實際曝光圖紙。

10.如權利要求6所述的一種多片對位曝光系統，其特征在于：

所述掃描裝置為高精度工業相機；

所述曝光裝置為單組曝光設備；

所述主控模塊為上位機。