[發明專利]工件架旋轉系統以及真空鍍膜設備

在審

• 申請號: 202010748608.8
• 申請日: 2020-07-29
• 公開（公告）號: CN111809160A
• 公開（公告）日: 2020-10-23
• 發明（設計）人: 李劉合;毛迎東;孫玉強;寇淑文
• 申請（專利權）人: 北航歌爾（濰坊）智能機器人有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287
• 代理人: 關向蘭

本發明公開一種工件架旋轉系統以及真空鍍膜設備，所述工件架旋轉系統包括安裝座、轉動組件和驅動系統，所述轉動組件設于所述安裝座，所述轉動組件包括用以固定待鍍膜工件的自轉盤，所述自轉盤可沿著其自轉軸可轉動設置，且所述自轉盤還可繞著一公轉軸轉動設置，所述驅動系統驅動連接于所述轉動組件，所述驅動系統驅動所述自轉盤繞著所述自轉軸和/或所述公轉軸轉動，以使得所述自轉盤具有單獨繞其自轉軸轉動的自轉行程、單獨繞公轉軸轉動的公轉行程、以及同時能夠繞自轉軸轉動和公轉軸轉動的組合轉動行程。本發明提供的技術方案能夠實現對工件進行自轉、公轉和自轉與公轉同時進行的組合轉動形式，以能夠對工件的多個表面進行鍍膜，以解決現有技術的缺陷。

技術領域

本發明涉及真空鍍膜加工技術領域，尤其是一種工件架旋轉系統以及真空鍍膜設備。

背景技術

現有的PVD(Physical Vapor Deposition的縮寫，中文意思是“物理氣相沉積”)鍍膜(通常稱之為真空鍍膜)中需要將工件放置在真空室中進行鍍膜，由于靶材固定，所以需要將工件進行旋轉，現有的工件的旋轉形式都采用單一的旋轉方式，故而，在一次鍍膜時，不能做到對工件的各個表面進行鍍膜，所以現有技術對于工件的多個表面進行鍍膜時，采用分多次進行鍍膜，操作比較麻煩。

發明內容

本發明的主要目的是提出一種工件架旋轉系統以及真空鍍膜設備，旨在能夠實現對工件進行自轉、公轉和自轉與公轉同時進行的組合轉動形式，以能夠對工件的多個表面進行鍍膜，以解決現有技術的缺陷。

為實現上述目的，本發明提出一種工件架旋轉系統，用在真空鍍膜設備上，其特征在于，所述工件架旋轉系統包括：

安裝座；

轉動組件，設于所述安裝座，所述轉動組件包括用以固定待鍍膜工件的自轉盤，所述自轉盤可沿著其自轉軸可轉動設置，且所述自轉盤還可繞著一公轉軸轉動設置；以及，

驅動系統，驅動連接于所述轉動組件，所述驅動系統驅動所述自轉盤繞著所述自轉軸和/或所述公轉軸轉動，以使得所述自轉盤具有單獨繞其自轉軸轉動的自轉行程、單獨繞公轉軸轉動的公轉行程、以及同時能夠繞自轉軸轉動和公轉軸轉動的組合轉動行程。

可選地，所述轉動組件還包括一公轉盤，所述公轉盤可轉動設置，所述公轉盤的轉軸為所述公轉軸；

所述自轉盤沿著其自轉動軸可轉動地設于所述公轉盤上，且可隨著所述公轉盤一同公轉；

所述驅動系統驅動連接于所述公轉盤和所述自轉盤，且可選擇性地驅動所述自轉盤自轉和/或所述公轉盤公轉。

可選地，所述驅動系統包括：

驅動裝置；以及，

傳動機構，傳動連接在所述驅動裝置與所述公轉盤和所述自轉盤之間，以將所述驅動裝置驅動轉化為所述公轉盤的公轉和/或所述自轉盤的自轉。

可選地，所述驅動裝置包括公共驅動裝置；

所述傳動機構包括傳動動連接在所述公共驅動裝置和所述公轉盤之間的公轉傳動機構、以及傳動連接在所述公共驅動裝置和所述自轉盤之間的自轉傳動機構；

其中，所述公轉傳動機構和所述自轉傳動機構均設置為可離合的傳動機構，以使得所述公共驅動裝置能夠選擇驅動所述自轉盤自轉和/或所述公轉盤公轉。

可選地，所述驅動裝置包括公轉驅動裝置和自轉驅動裝置；

所述傳動機構包括傳動連接在所述公轉驅動裝置和所述公轉盤之間的公轉傳動機構、以及傳動連接在所述自轉動驅動裝置和所述自轉盤之間的自轉傳動機構。

可選地，所述公轉驅動裝置和所述自轉驅動裝置均固定安裝于所述安裝座；