[發明專利]多次可編程存儲單元及存儲裝置有效
| 申請號: | 202010744694.5 | 申請日: | 2020-07-29 |
| 公開(公告)號: | CN111900172B | 公開(公告)日: | 2022-10-25 |
| 發明(設計)人: | 王煒槐;胡濤;陸陽 | 申請(專利權)人: | 杰華特微電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/11524 | 分類號: | H01L27/11524 |
| 代理公司: | 杭州鈐韜知識產權代理事務所(普通合伙) 33329 | 代理人: | 唐靈;趙杰香 |
| 地址: | 310030 浙江省杭州市西湖區三墩鎮*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 多次 可編程 存儲 單元 裝置 | ||
本發明提出了一種多次可編程存儲單元,包括:第一襯底;第一阱,配置于第一襯底上;第二阱,配置于第一阱上;第一電極區,配置于第二阱上;第二電極區,配置于第二阱上;第一柵極,配置于第二阱上,位于第一電極區、第二電極區之間;第三電極區,配置于第二阱上,包括第一子電極區及與其相耦接的第二子電極區,第一、第二子電極區的導電類型不同;第二柵極,配置于第二阱上,位于第二電極區、第二子電極區之間;第三阱,配置于第一阱上;第四電極區,配置于第三阱上,包括第三子電極區及與其相耦接的第四子電極區,第三、第四子電極區的導電類型不同;以及第三柵極,配置于第三阱上,位于第三子電極區、第四子電極區之間,耦接于第一柵極。
技術領域
本發明涉及半導體領域,更具體地,涉及一種多次可編程存儲單元及存儲裝置。
背景技術
MTP(多次可編程存儲單元)是集成電路中常用的技術。該項技術可實現在芯片出廠后的精度調整或客戶定制,并且可以作為芯片的存儲記憶模塊使用。其基本原理是通過捕獲或釋放存儲介質中的電荷,來調整器件的閾值電壓等參數,進而影響輸出的電流值。
現有技術中,雙層多晶硅柵存儲單元是最常用的技術手段。但由于雙層多晶硅結構需要增加掩膜板層數,增加了芯片的成本。
因此,提供一種多次可編程存儲單元及存儲裝置,以降低芯片成本,是本領域亟待解決的問題。
發明內容
有鑒于此,本發明提供了一種多次可編程存儲單元及存儲裝置,解決了現有技術中多次可編程存儲單元的尺寸及成本的技術問題。
一方面,本發明提出了一種多次可編程存儲單元,包括:
一第一襯底;
一第一阱,配置于所述第一襯底上;
一第二阱,配置于所述第一阱上;
一第一電極區,配置于所述第二阱上;
一第二電極區,配置于所述第二阱上;
一第一柵極,配置于所述第二阱上,位于所述第一電極區、所述第二電極區之間;
一第三電極區,配置于所述第二阱上,包括一第一子電極區、與所述第一子電極區相耦接的一第二子電極區,所述第一子電極區與所述第二子電極區的導電類型不同;
一第二柵極,配置于所述第二阱上,位于所述第二電極區、所述第二子電極區之間;
一第三阱,配置于所述第一阱上;
一第四電極區,配置于所述第三阱上,包括一第三子電極區、與所述第三子電極區相耦接的一第四子電極區,所述第三子電極區與所述第四子電極區的導電類型不同;以及
一第三柵極,配置于所述第三阱上,位于所述第三子電極區、所述第四子電極區之間,耦接于所述第一柵極,所述第三柵極與所述第三阱形成控制柵電容。
可選地,所述第三柵極的面積大于所述第一柵極的面積。
可選地,所述第三柵極的面積大于或等于所述第一柵極的面積的10倍。
可選地,所述第一阱為高壓阱。
可選地,所述多次可編程存儲單元包括:
所述第一襯底配置為P型襯底;
所述第一阱配置為高壓N型阱;
所述第二阱配置為P型阱;
所述第三阱配置為P型阱;
所述第一電極區、所述第二電極區配置為N型重摻雜;
所述第一子電極區配置為P型重摻雜、第二子電極區配置為N型重摻雜;以及
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





