[發明專利]適于化學汽相沉積裝置擴散器的吹掃設備

在審

• 申請號: 202010738521.2
• 申請日: 2020-07-28
• 公開（公告）號: CN111854410A
• 公開（公告）日: 2020-10-30
• 發明（設計）人: 金衛明;朱傳兵;亓露;宋微;張翔
• 申請（專利權）人: 蕪湖通潮精密機械股份有限公司
• 主分類號: F26B21/00
• 分類號: F26B21/00
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107
• 代理人: 朱順利

本發明公開了一種適于化學汽相沉積裝置擴散器的吹掃設備，包括相對布置的兩個吹掃機器人，吹掃機器人包括用于對擴散器進行吹掃的噴嘴和用于控制噴嘴進行移動的位置調節裝置。本發明適于化學汽相沉積裝置擴散器的吹掃設備，可以提高擴散器的吹掃工作效率，并可以提高安全性和穩定性。

技術領域

本發明屬于CVD設備技術領域，具體地說，本發明涉及一種適于化學汽相沉積裝置擴散器的吹掃設備。

背景技術

CVD(Chemical Vapor Deposition)成膜工藝是整個IC產業和面板產業的基礎，直接決定半導體器件的性能和可靠性。在高溫下，將腔體抽至真空狀態(1torr)時，通入制程氣體，將高頻電源加在上電極板DIFF形成電場，形成等離子(整體呈電中性)，下部電極及加熱基座(又名Susceptor)提供溫度，等離子體通過吸附結合作用，在玻璃基板上形成薄膜。沉積在玻璃上的膜質是工藝重點管控的項目，影響因素居多，主要困擾膜的致密性及組分的是參數是基板溫度和氣體流量及分布。體流量及分布濃度是由DIFF來調控的。

在化學汽相沉積裝置中，特別是擴散器(Diffuser)，具有將氣體均勻擴散在玻璃面板上的擴散作用，同時還起到等離子體電極作用。擴散器的外形基本像板狀長方體(長寬比1.1左右)，上面均勻分布大量的孔結構，類似于蜂槽結構。以寬度方向中心為基準面，兩側具有同心錐形孔，整個結構表面上沉積有陽極氧化膜，在CVD鍍膜工序中，等離子氣氛苛刻，陽極膜可以有效的抵御環境對基體的刻蝕和腐蝕，避免電荷放電現象等。

目前，國內外有多家企業在對傳統面板的CVD裝置的擴散器進行再生，擴散器在陽極再生做完后，還需要進行高壓清洗、吹干、烘干等后道工序。其中清洗完之后的吹干，目前大多數工廠是人工手動吹掃，工作人員必須集中注意力，手持氣槍與擴散器保持一定距離(15-20mm)對準蜂槽孔進行吹掃。由于離擴散器較近，氣槍有反作用力，工作人員容易疲勞，而且大概率會造成擴散器的刮傷，同時生產效率不高。

發明內容

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本發明提供一種適于化學汽相沉積裝置擴散器的吹掃設備，目的是提高擴散器的吹掃工作效率。

為了實現上述目的，本發明采取的技術方案為：適于化學汽相沉積裝置擴散器的吹掃設備，包括相對布置的兩個吹掃機器人，吹掃機器人包括用于對擴散器進行吹掃的噴嘴和用于控制噴嘴進行移動的位置調節裝置。

所述位置調節裝置包括用于帶動所述噴嘴沿Z軸方向進行移動的Z軸執行機構、與Z軸執行機構連接且用于帶動Z軸執行機構沿Y軸方向進行移動的Y軸執行機構和與Y軸執行機構連接且用于帶動Y軸執行機構沿X軸方向進行移動的X軸執行機構，噴嘴設置于Z軸執行機構上，X軸方向、Y軸方向和Z軸方向相互垂直。

所述X軸執行機構包括X軸執行器、X軸滑軌、與所述Y軸執行機構連接且設置于X軸滑軌上的X軸齒條和與X軸執行器連接且與X軸齒條相嚙合的X軸齒輪，X軸齒條的長度方向與X軸方向相平行。

所述Y軸執行機構包括與所述X軸齒條連接的Y軸滑軌、Y軸執行器、與所述Z軸執行機構連接且設置于Y軸滑軌上的Y軸齒條和與Y軸執行器連接且與Y軸齒條相嚙合的Y軸齒輪，Y軸齒條的長度方向與Y軸方向相平行。

所述Y軸方向為豎直方向，所述Y軸執行器為伺服電機且Y軸執行器具有自鎖功能。

所述位置調節裝置還包括X軸負限位塊、X軸正限位塊和X軸零位感應開關，X軸負限位塊、X軸正限位塊和X軸零位感應開關處于與X軸方向相平行的同一直線上，所述Y軸滑軌位于X軸負限位塊和X軸零位感應開關之間。

所述位置調節裝置Y軸負限位塊、Y軸正限位塊和Y軸零位感應開關，Y軸負限位塊、Y軸正限位塊和Y軸零位感應開關處于與Y軸方向相平行的同一直線上，所述X軸滑軌位于Y軸負限位塊和Y軸零位感應開關之間。