[發明專利]光學裝置、投影光學系統、曝光裝置以及物品的制造方法

在審

• 申請號: 202010737423.7
• 申請日: 2020-07-28
• 公開（公告）號: CN112305872A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 西川原朋史;關美津留;矢田裕紀;遠藤淳生
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 程晨

本發明涉及光學裝置、投影光學系統、曝光裝置以及物品的制造方法。提供具備使到達光學元件的光被遮光的風險降低的氣體供給機構的光學裝置。該光學裝置具備：第1光學元件及第2光學元件；保持部，保持第1光學元件及第2光學元件；氣體供給部，朝向設置于保持部的流路供給控制溫度后的氣體；以及氣體排出部，排出由氣體供給部供給的氣體，在該光學裝置中，在第1光學元件和第2光學元件的排列方向上并排地配置氣體排出部。

技術領域

本發明涉及光學裝置、投影光學系統、曝光裝置以及物品的制造方法。

背景技術

已知在使用透鏡、反射鏡等光學元件的光學裝置中，由于光學元件、光路中的空間的溫度變化，可能對光學裝置的光學性能造成影響。這可能由于光學元件的面形狀的變化、光學元件的保持部中的熱變形、空氣的折射率變化而產生。

作為諸如上述的光學元件、光路中的空間的溫度變化的一個主要原因，可以舉出入射到光學元件的光。光在透過光學元件時、在光學元件中反射時，光的一部分被光學元件吸收，從而產生熱。產生的熱的一部分被傳遞到光學元件的保持部、光學元件的周圍的空間。特別地，在保持部的附近存在光路的情況下，伴隨保持部的溫度上升，發生自然對流，有時熱從保持部傳遞到包括光路的空間。由此，光路中的氣體的折射率變化，可能導致光學裝置的光學性能的降低。

為了抑制光學裝置中的光學性能的降低，已知對光學元件及其附近的空間進行冷卻的冷卻機構。日本特開2018-91919號公報公開了對2個光學元件之間的空間供給以及排出用于溫度調節的氣體的氣體供給機構。

在日本特開2018-91919號公報的氣體供給機構中，在2個光學元件的上下方向上配置有氣體供給機構，所以根據到達各光學元件的光的光路，存在光被氣體供給機構遮光的可能性。通過研究氣體供給機構的配置，能夠使到達光學元件的光被遮光的風險降低。

本發明的目的在于提供具備使到達光學元件的光被遮光的風險降低的氣體供給機構的光學裝置。

發明內容

本發明的光學裝置的特征在于，具備：第1光學元件及第2光學元件；保持部，保持所述第1光學元件及所述第2光學元件；氣體供給部，朝向設置于所述保持部的流路供給控制溫度后的氣體；以及氣體排出部，排出由所述氣體供給部供給的氣體，所述氣體排出部在所述第1光學元件和所述第2光學元件的排列方向上并排地配置。

附圖說明

圖1是示出曝光裝置的整體結構的概略圖。

圖2是示出實施例1的光學裝置的結構的圖。

圖3是從Y軸方向觀察光學裝置的圖。

圖4是示出實施例2的光學裝置的結構的圖。

圖5是示出實施例3的光學裝置的結構的圖。

圖6是示出作為比較例的光學裝置的結構的圖。

具體實施方式

以下參考附圖說明本發明的優選的實施方式。此外，在各圖中，對相同的部件附加相同的參考編號，省略重復的說明。

圖1是示出包括搭載有本發明的光學裝置的投影光學系統PO的曝光裝置1的結構的概略圖。曝光裝置1被用于作為半導體設備、液晶顯示設備等設備的制造工序的光刻工序。在曝光裝置1中，使用光強度強的曝光光L將掩模M的圖案投影到基板上的感光材料，所以曝光裝置1中包括的透鏡、反射鏡等光學元件由于吸收曝光光L而易于被加熱。

曝光裝置1包括照明光學系統IL、投影光學系統PO、能夠保持并移動掩模M的掩模載置臺MS以及能夠保持并移動基板W的基板載置臺WS。另外，曝光裝置1包括控制對基板W的曝光處理的控制部C，進行對基板上的抗蝕劑膜(感光劑)經由投影光學系統PO投影掩模M的圖案而形成潛像(潛像圖案)的曝光處理。