[發明專利]光學裝置、投影光學系統、曝光裝置以及物品的制造方法

在審

• 申請號: 202010737423.7
• 申請日: 2020-07-28
• 公開（公告）號: CN112305872A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 西川原朋史;關美津留;矢田裕紀;遠藤淳生
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 程晨

1.一種光學裝置，其特征在于，具備：

第1光學元件及第2光學元件；

保持部，保持所述第1光學元件及所述第2光學元件；

氣體供給部，朝向設置于所述保持部的流路供給控制溫度后的氣體；以及

氣體排出部，排出由所述氣體供給部供給的氣體，

所述氣體排出部在所述第1光學元件和所述第2光學元件的排列方向上并排地配置。

2.根據權利要求1所述的光學裝置，其中，

所述氣體排出部包括從所述保持部的內部的空間對氣體進行排氣的排氣機構。

3.根據權利要求1所述的光學裝置，其中，

所述氣體排出部設置于入射到所述第1光學元件及所述第2光學元件的光路外。

4.根據權利要求1所述的光學裝置，還具有將所述保持部的內部的空間和外部的空間隔開的部件，

所述氣體排出部經由設置于所述部件的開口排出氣體。

5.根據權利要求1所述的光學裝置，其中，

所述保持部具有將所述保持部的內部的空間和外部的空間連通的開口，

與由所述氣體排出部排出氣體相對應地，經由設置于所述保持部的開口從所述保持部的外部的空間對內部的空間供給氣體。

6.根據權利要求5所述的光學裝置，其中，

由所述氣體排出部排出的氣體的流量比由所述氣體供給部供給的氣體的流量多。

7.根據權利要求6所述的光學裝置，其中，

從所述開口供給與由所述氣體排出部排出的氣體的流量和由所述氣體供給部供給的氣體的流量的差分相當的量的氣體。

8.根據權利要求1所述的光學裝置，其中，

所述氣體排出部排出通過所述第1光學元件與所述第2光學元件之間的空間后的氣體，該氣體是由所述氣體供給部供給的氣體。

9.根據權利要求1所述的光學裝置，其中，

所述第1光學元件是透鏡，所述第2光學元件是對透過所述第1光學元件后的光進行反射的反射鏡。

10.根據權利要求9所述的光學裝置，其中，

所述氣體排出部相對所述反射鏡配置于與所述透鏡相反的一側。

11.一種投影光學系統，具備第1凹反射面和第2凹反射面以及權利要求1至10中的任意一項所述的光學裝置，其中，

來自物體面的光按照所述第1凹反射面、所述光學裝置中包括的反射鏡的凸反射面、所述第2凹反射面的順序反射并在像面上成像。

12.一種曝光裝置，其特征在于，具有：

照明光學系統，用來自光源的光對掩模進行照明；以及

權利要求11所述的投影光學系統，將所述掩模的圖案的像投影到基板。

13.一種物品的制造方法，其特征在于，包括：

形成工序，使用權利要求12所述的曝光裝置在基板上形成圖案；以及

加工工序，對在所述形成工序中形成圖案后的所述基板進行加工，

根據在所述加工工序中加工后的所述基板來制造物品。