[發明專利]一種化學鍍錫液及其制備方法、使用在審
| 申請號： | 202010735714.2 | 申請日： | 2020-07-28 |
| 公開（公告）號： | CN111705312A | 公開（公告）日： | 2020-09-25 |
| 發明（設計）人： | 張元正;張本漢 | 申請（專利權）人： | 信豐正天偉電子科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C18/52 | 分類號： | C23C18/52 |
| 代理公司： | 上海微策知識產權代理事務所(普通合伙) 31333 | 代理人： | 湯俊明 |
| 地址： | 341600 江西*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 鍍錫 及其 制備 方法 使用 | ||
1.一種化學鍍錫液，其特征在于，按照濃度包括：錫鹽5-25g/L，絡合劑70-80g/L，硫脲類物質100-120g/L，表面活性劑1-10g/L，還原劑40-70g/L，MZxOy1-6g/L，其中M為V、Nb、Zr、Na中的至少一種；Z為雜元素；x為0-2；y為3-5。
2.如權利要求1所述的化學鍍錫液，其特征在于，所述錫鹽選自甲基磺酸錫，鹽酸錫，硫酸錫，氟硼酸亞錫中的至少一種。
3.如權利要求1所述的化學鍍錫液，其特征在于，所述絡合劑包括檸檬酸、蘋果酸、枸櫞酸、酒石酸中的至少一種。
4.如權利要求1所述的化學鍍錫液，其特征在于，所述還原劑選自次磷酸鈉、氯化鈦、次磷酸銨、次磷酸鉀、硼氫化物、水合肼中的至少一種。
5.如權利要求1所述的化學鍍錫液，其特征在于，所述MZxOy，其中M為V、Na中的至少一種；Z為雜元素；x為0-2；y為3-5。
6.如權利要求1所述的化學鍍錫液，其特征在于，所述表面活性劑選自十六烷基三甲基溴化銨、十二烷基三甲基氯化銨、聚乙二醇、聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段共聚物中的至少一種。
7.如權利要求6所述的化學鍍錫液，其特征在于，所述聚氧乙烯聚氧丙烯嵌段共聚物的平均分子量為2000-2800。
8.如權利要求1所述的化學鍍錫液，其特征在于，所述化學鍍錫液還包括含極性基團的不飽和化合物16-20g/L。
9.一種如權利要求1-8任一項所述的化學鍍錫液的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：將各組分混合均勻即可。
10.一種如權利要求1-8任一項所述的化學鍍錫液的使用方法，其特征在于，所述化學鍍錫液的施鍍條件為40-45℃，時間為10-15min。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法，例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法，例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍，即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理
