[發(fā)明專利]雙極晶體管位移損傷敏感部位的檢測(cè)方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010735169.7 | 申請(qǐng)日: | 2020-07-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111766496B | 公開(公告)日: | 2022-11-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李興冀;楊劍群;應(yīng)濤;呂鋼;董善亮 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01R31/26 | 分類號(hào): | G01R31/26 |
| 代理公司: | 北京隆源天恒知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11473 | 代理人: | 胡天人 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 雙極晶體管 位移 損傷 敏感部位 檢測(cè) 方法 | ||
本發(fā)明提供一種雙極晶體管位移損傷敏感部位的檢測(cè)方法,包括以下步驟:選擇輻照源,針對(duì)待測(cè)雙極晶體管開展輻照試驗(yàn);將輻照后的雙極晶體管安裝到深能級(jí)瞬態(tài)譜儀的測(cè)試臺(tái)上,設(shè)置測(cè)試參數(shù);選擇至少2個(gè)不同的偏置電壓,測(cè)試雙極晶體管獲取深能級(jí)瞬態(tài)譜;根據(jù)不同的偏置電壓下深能級(jí)瞬態(tài)譜中的信號(hào)峰變化,判定缺陷信號(hào)的類型;根據(jù)缺陷信號(hào)類型的判定結(jié)果,判定雙極晶體管的位移損傷敏感區(qū)。本發(fā)明檢測(cè)方法基于深能級(jí)瞬態(tài)譜分析,能夠快速判斷和評(píng)估雙極晶體管位移損傷的敏感區(qū),有利于推進(jìn)輻射環(huán)境下雙極器件性能退化等效性問題和抗輻射加固技術(shù)的研究。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及電子器件檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,具體而言,涉及一種雙極晶體管位移損傷敏感部位的檢測(cè)方法。
背景技術(shù)
在輻射環(huán)境下工作的雙極晶體管將受到各種粒子作用,產(chǎn)生位移損傷,雙極晶體管由介電材料、半導(dǎo)體材料、導(dǎo)體材料及其界面組成。位移效應(yīng)會(huì)在雙極晶體管中產(chǎn)生大量的間隙原子—空位對(duì),這些間隙原子—空位對(duì)將同時(shí)產(chǎn)生于介電材料、半導(dǎo)體材料、導(dǎo)體材料及其界面,并且在產(chǎn)生的同時(shí)可以自由輸運(yùn),在輸運(yùn)過程中通過自身交互作用或與周圍雜質(zhì)作用形成穩(wěn)定缺陷,進(jìn)而影響器件的性能和可靠性。
不同類型的器件對(duì)位移損傷的敏感程度不同,位移損傷條件下晶體管的損傷敏感部位也不同,且不同部位的缺陷對(duì)器件性能退化程度的影響不同。因此快速評(píng)估雙極晶體管的位移損傷敏感部位無論對(duì)器件的抗輻射加固,還是對(duì)輻射環(huán)境效應(yīng)的地面等效評(píng)價(jià)都至關(guān)重要,也是目前亟待解決的問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的問題是如何快速評(píng)估雙極晶體管的位移損傷敏感部位。
為解決上述問題,本發(fā)明提供一種雙極晶體管位移損傷敏感部位的檢測(cè)方法,包括以下步驟:
S100、選擇輻照源,針對(duì)待測(cè)雙極晶體管開展輻照試驗(yàn);
S200、將輻照后的雙極晶體管安裝到深能級(jí)瞬態(tài)譜儀的測(cè)試臺(tái)上,設(shè)置測(cè)試參數(shù);
S300、選擇至少2個(gè)不同的偏置電壓,測(cè)試雙極晶體管獲取深能級(jí)瞬態(tài)譜;
S400、根據(jù)不同的偏置電壓下深能級(jí)瞬態(tài)譜中的信號(hào)峰變化,判定缺陷信號(hào)的類型;
S500、根據(jù)缺陷信號(hào)類型的判定結(jié)果,判定雙極晶體管的位移損傷敏感區(qū)。
可選地,所述步驟S400具體包括:
若信號(hào)峰位置不隨偏置電壓發(fā)生改變,峰高發(fā)生改變,則判定該缺陷為位移缺陷;
若信號(hào)峰位置不隨偏置電壓發(fā)生改變,峰高不變,則判定該缺陷為固有缺陷;
若信號(hào)峰位置隨偏置電壓的改變而發(fā)生改變,則判定該缺陷為界面態(tài)缺陷。
可選地,所述步驟S500具體包括:
若缺陷信號(hào)僅有位移缺陷信號(hào),則判定雙極晶體管的位移損傷敏感區(qū)為中性基區(qū)β3;
若缺陷信號(hào)僅有界面態(tài)信號(hào),則判定雙極晶體管的位移損傷敏感區(qū)為發(fā)射結(jié)表面β1和中性基區(qū)表面β2;
若缺陷信號(hào)同時(shí)包含位移缺陷信號(hào)和界面態(tài)信號(hào),則判定雙極晶體管的位移損傷敏感區(qū)為發(fā)射結(jié)表面β1、中性基區(qū)表面β2和中性基區(qū)β3。
可選地,所述步驟S100中,輻照源為光子或中子。
可選地,所述步驟S100中,輻照源為帶電粒子。
可選地,所述步驟S100具體包括:
選擇帶電粒子作為輻照源;
采用蒙特卡羅方法計(jì)算帶電粒子在雙極晶體管中的入射深度,保證入射深度大于雙極晶體管的氧化層厚度;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于哈爾濱工業(yè)大學(xué),未經(jīng)哈爾濱工業(yè)大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010735169.7/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01R 測(cè)量電變量;測(cè)量磁變量
G01R31-00 電性能的測(cè)試裝置;電故障的探測(cè)裝置;以所進(jìn)行的測(cè)試在其他位置未提供為特征的電測(cè)試裝置
G01R31-01 .對(duì)相似的物品依次進(jìn)行測(cè)試,例如在成批生產(chǎn)中的“過端—不過端”測(cè)試;測(cè)試對(duì)象多點(diǎn)通過測(cè)試站
G01R31-02 .對(duì)電設(shè)備、線路或元件進(jìn)行短路、斷路、泄漏或不正確連接的測(cè)試
G01R31-08 .探測(cè)電纜、傳輸線或網(wǎng)絡(luò)中的故障
G01R31-12 .測(cè)試介電強(qiáng)度或擊穿電壓
G01R31-24 .放電管的測(cè)試





