[發明專利]存水裝置及廢氣處理系統

有效

• 申請號: 202010730709.2
• 申請日: 2020-07-27
• 公開（公告）號: CN113996130B
• 公開（公告）日: 2022-06-24
• 發明（設計）人: 侯小明星;林逸民
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: B01D47/06
• 分類號: B01D47/06;B01D35/027;B08B3/02
• 代理公司: 上海晨皓知識產權代理事務所(普通合伙) 31260
• 代理人: 成麗杰

本發明實施例提供一種存水裝置及廢氣處理系統，存水裝置包括：蓄水腔和進水口，所述進水口用于向所述蓄水腔內送入溶液，所述蓄水腔用于存蓄或排出所述溶液，所述蓄水腔內具有粘性物質；導桿和可沿所述導桿移動的浮動裝置，所述浮動裝置可隨所述蓄水腔內的水位變化移動，移動至所述導桿和所述浮動裝置之間的所述粘性物質可阻礙所述浮動裝置移動；水幕套殼，所述水幕套殼與所述進水口連接，所述水幕套殼用于分流部分由所述進水口送入的所述溶液，所述水幕套殼分流的溶液用于沖洗位于所述導桿和所述浮動裝置之間的所述粘性物質。本發明有利于在保證浮動裝置的正常運行的基礎上，降低存水裝置的用水需求。

技術領域

本發明實施例涉及廢氣處理領域，特別涉及一種存水裝置及廢氣處理系統。

背景技術

半導體爐管工藝中存在多步ALD-NIT制程，該類制程會產生大量氣體副產物。目前通常通過燃燒和冷卻處理該類氣體副產物，使其形成固體副產物存于廢氣處理系統中，并通過水溶液進行沖洗處理。而用于沖洗制程副產物的水溶液在經過處理之后送入存水裝置進行循環使用。當循環次數達到一定目標時，該類水溶液會直接排入到廠務端，并通過特殊處理進行排出。廢氣處理系統內存水裝置會補充新的水溶液。

由于燃燒不充分和處理不充分等原因，送入存水裝置的水溶液中通常包含有部分殘余的制程副產物，這部分制程副產物可能會影響存水裝置的正常運行，進而導致水循環失敗，甚至導致整個廢氣處理系統宕機。

發明內容

本發明實施例提供一種存水裝置及廢氣處理系統，有利于在保證浮動裝置正常運行的基礎上，降低存水裝置的用水需求。

為解決上述問題，本發明實施例提供一種存水裝置，包括：蓄水腔和進水口，所述進水口用于向所述蓄水腔內送入溶液，所述蓄水腔用于存蓄或排出所述溶液，所述蓄水腔內具有粘性物質；導桿和可沿所述導桿移動的浮動裝置，所述浮動裝置可隨所述蓄水腔內的水位變化移動，移動至所述導桿和所述浮動裝置之間的所述粘性物質可阻礙所述浮動裝置移動；水幕套殼，所述水幕套殼與所述進水口連通，所述水幕套殼用于分流部分由所述進水口送入的所述溶液，所述水幕套殼分流的溶液用于沖洗位于所述導桿和所述浮動裝置之間的所述粘性物質。

另外，所述存水裝置還包括第一區域和第二區域，所述水幕套殼包括第一套殼和第二套殼，所述第一套殼分流的溶液用于沖洗所述第一區域內的位于所述導桿和所述浮動裝置之間的所述粘性物質，所述第二套殼分流的溶液用于沖洗所述第二區域內的位于所述導桿和所述浮動裝置之間的所述粘性物質。通過設置多個套殼，縮小每一套殼所需沖洗的區域，保證每一套殼能夠有效沖洗指定區域，進而保證粘附于導桿上的粘性物質能夠被有效沖洗。

另外，所述蓄水腔具有低水位線和高水位線，所述第一區域包括所述高水位線，所述第二區域包括所述低水位線，所述浮動裝置包括第一浮動裝置和第二浮動裝置，所述第一浮動裝置在所述第一區域內移動，所述第二浮動裝置在所述第二區域內移動。設置位于不同區域的多個浮動裝置，有利于保證在水位下降速率或上升速度大于浮動裝置的移動速率時，浮動裝置與溶液水平面到達同一水平線的時間差較短，即任一時刻浮動裝置與溶液水平面的高度差較小，浮動裝置的位置狀態能夠有效反映水位情況。

另外，存水裝置還包括：警示模塊，所述警示模塊用于在所述浮動裝置處于所述低水位線或所述高水位線時，發出警示信息。

另外，從所述水幕套殼內流出的所述溶液沿重力方向流動。由于溶液能夠受重力下落，因此無需提供較大的溶液流量就能夠沖洗粘性物質，如此，在進水口的流量較小時，也能夠實現沖洗目的。

另外，所述水幕套殼套設于所述導桿與所述浮動裝置之間，所述浮動裝置沿所述水幕套殼移動，所述水幕套殼分流的溶液用于沖洗粘附于所述水幕套殼上的所述粘性物質。