[發明專利]界面錯配度計算方法及裝置

在審

• 申請號: 202010724765.5
• 申請日: 2020-07-24
• 公開（公告）號: CN112001062A
• 公開（公告）日: 2020-11-27
• 發明（設計）人: 張志波;溫麗濤
• 申請（專利權）人: 廣東省材料與加工研究所
• 主分類號: G06F30/20
• 分類號: G06F30/20
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郭浩輝;麥小嬋

本發明提供一種界面錯配度計算方法及裝置，該方法包括：建立兩相晶體結構模型；根據兩相晶體結構模型選取兩相晶面；根據兩相晶面選取兩相晶向；根據兩相晶向獲取兩相對應晶向原子間距和兩相對應晶向原子夾角；根據兩相對應晶向原子間距和兩相對應晶向原子夾角，計算界面錯配度。本發明通過選取兩相晶體的晶面和晶向，獲取對應晶向原子間距和對應晶向原子夾角，計算界面錯配度，從而判斷界面關系。

技術領域

本發明涉及材料結構表征及建模計算領域，尤其涉及一種界面錯配度計算方法及裝置。

背景技術

界面是不同原子陣列的結合處，廣泛存在于金屬合金、復合材料、膜材料等，界面關系都對材料加工、性能和應用服役都有著重要影響，可以通過調控界面結構獲取性能優異的材料，但界面結構表征量化存在諸多問題。界面錯配度作為最基礎的界面結構參數，現有的量化表征方法需要判斷出基底相與形核相，較為復雜且應用場景局限在凝固過程，更為嚴重的是相同的界面結構其量化值卻不一定是唯一的。因此，實現任一界面結構的界面錯配度準確表征，并且使對任一界面結構其界面錯配度值具有唯一性，成為目前需要解決的技術問題。

發明內容

本發明提供一種界面錯配度計算方法及裝置，用于解決現有技術計算復雜且應用場景局限，針對某一具體界面晶體結構，其界面錯配度卻不一定是唯一的，無法準確量化表征界面結構，從而影響材料界面結構表征。

第一方面，本發明提供一種界面錯配度計算方法，包括：

建立兩相晶體結構模型；

根據兩相晶體結構模型選取兩相晶面；

根據兩相晶面選取兩相晶向；

根據兩相晶向獲取兩相對應晶向原子間距和兩相對應晶向原子夾角；

根據兩相對應晶向原子間距和兩相對應晶向原子夾角，計算界面錯配度。

可選地，兩相包括基底相和形核相。

可選地，根據界面錯配度和預設閾值，獲取界面關系。

可選地，兩相對應晶向原子夾角為銳角。

可選地，根據兩相對應晶向原子間距，計算對角邊晶向錯配度；根據兩相對應晶向原子間距和兩相對應晶向原子夾角，計算兩邊晶向錯配度；根據對角邊晶向錯配度和兩邊晶向錯配度，計算界面錯配度。

可選地，根據兩相對應晶向原子間距，計算兩相兩邊晶向原子間距；根據兩相對應晶向原子夾角，計算兩相兩邊晶向原子夾角；根據兩相兩邊晶向原子間距和兩相兩邊晶向原子夾角，計算兩邊晶向錯配度。

可選地，根據對角邊晶向錯配度和兩邊晶向錯配度，計算對角邊晶向錯配度和兩邊晶向錯配度的平均值；根據對角邊晶向錯配度和兩邊晶向錯配度的平均值，計算界面錯配度。

可選地，根據界面錯配度獲取界面錯配度與過冷度的關系。

另一方面，本發明提供一種界面錯配度計算裝置，包括：

建立模塊，用于建立兩相晶體結構模型；

晶面模塊，用于根據兩相晶體結構模型選取兩相晶面；

晶向模塊，用于根據兩相晶面選取兩相晶向；

獲取模塊，用于根據兩相晶向獲取兩相對應晶向原子間距和兩相對應晶向原子夾角；

計算模塊，用于根據兩相對應晶向原子間距和兩相對應晶向原子夾角，計算界面錯配度。