[發明專利]大型觸控感應圖案的制造方法在審
| 申請號: | 202010724506.2 | 申請日: | 2020-07-24 |
| 公開(公告)號: | CN113970978A | 公開(公告)日: | 2022-01-25 |
| 發明(設計)人: | 白志強;林孟癸;劉榮漢 | 申請(專利權)人: | 洋華光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/041 | 分類號: | G06F3/041;G06F3/042;H01L21/027 |
| 代理公司: | 北京匯澤知識產權代理有限公司 11228 | 代理人: | 關宇辰 |
| 地址: | 中國臺灣桃園市觀*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 大型 感應 圖案 制造 方法 | ||
1.一種大型觸控感應圖案的制造方法,其特征在于,包含以下步驟:
將一擬制作的大型觸控感應圖案劃分設置成多個分圖,多個所述分圖包括一第一分圖及多個接序分圖,并依多個所述分圖分別制作成具有相映圖案的多個光罩,且在多個所述分圖的邊緣部位包含有交疊圖案部分;
提供一具有導電層的基材;
在所述導電層上設置一感光阻劑層,所述感光阻劑層對紫外光具有光敏性;
第一曝光工藝,使用一第一光罩對所述感光阻劑層進行曝光,所述第一光罩具有第一分圖模及多個靶標圖模,所述第一分圖模的圖案相映于所述大型觸控感應圖案的所述第一分圖,使用紫外光通過所述第一光罩對所述感光阻劑層照射,將所述第一光罩上的圖案轉移到所述感光阻劑層上,以形成一曝光分圖及多個靶標;
接序曝光工藝,以波長范圍620nm~750nm的光源照明所述感光阻劑層的多個所述靶標進行定位操作,將所述感光阻劑層上的曝光分圖與一接序光罩之間定位之后,使用所述接序光罩對所述感光阻劑層進行曝光,所述接序光罩具有一接序分圖模及多個靶標圖模,所述接序分圖模的圖案相映于所述大型觸控感應圖案的多個所述接序分圖之一,使用紫外光通過所述接序光罩對所述感光阻劑層照射,將所述接序光罩上的圖案轉移到所述感光阻劑層上,以形成一接序的曝光分圖及多個靶標,接序的所述曝光分圖與原有的在所述感光阻劑層上的曝光分圖彼此相鄰地連接在一起;
重復地實施所述接序曝光工藝,以在所述感光阻劑層上形成多個接序并接的曝光分圖,直到并接組成一個整體曝光圖案為止,所述整體曝光圖案與所述大型觸控感應圖案呈相映圖案;
對所述感光阻劑層進行顯影工藝,以在所述導電層上面形成具有所述整體曝光圖案的固化光阻材料層;以及
對所述導電層進行蝕刻工藝,以在所述基材的導電層形成所述大型觸控感應圖案。
2.如權利要求1所述的大型觸控感應圖案的制造方法,其特征在于,所述交疊圖案部分的寬度尺寸在0.1 mm以下。
3.如權利要求1所述的大型觸控感應圖案的制造方法,其特征在于,在所述感光阻劑層中還包含有變色劑,以促使所述感光阻劑層在曝照紫外光時由無色變為有色。
4.如權利要求3所述的大型觸控感應圖案的制造方法,其特征在于,所述變色劑材料選自于退色結晶紫、二苯胺、三苯胺或二芐基苯胺。
5.如權利要求1所述的大型觸控感應圖案的制造方法,其特征在于,多個所述靶標被設置在所述曝光分圖范圍的外側,且各個所述靶標彼此之間呈盡量遠離地設置。
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