[發明專利]一種電阻觸摸屏及其制作方法

在審

• 申請號: 202010723158.7
• 申請日: 2020-07-24
• 公開（公告）號: CN111796722A
• 公開（公告）日: 2020-10-20
• 發明（設計）人: 陳加國;徐尚;徐濤濤
• 申請（專利權）人: 長沙市宇順顯示技術有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;G06F3/045
• 代理公司: 北京輕創知識產權代理有限公司 11212
• 代理人: 姜展志

本發明涉及一種電阻觸摸屏及其制作方法，電阻觸摸屏包括ITO導電基材，所述ITO導電基材上印刷有銀漿線路，在印刷有銀漿線路的ITO導電基材上通過激光鐳射對沒有被銀漿線路遮擋的ITO進行圖形化形成電路，所述電路包括綁定區、功能DUMMY區和無功能DUMMY區；激光鐳射ITO形成鐳射線，所述綁定區和所述無功能DUMMY區通過激光鐳射形成有ITO塊，且所述綁定區中激光鐳射線的密度大于所述無功能DUMMY區中激光鐳射線的密度。本發明采用鐳射激光對ITO進行圖形化，具有加工簡單，不產生大量廢水、污水的優點，同時通過創新設計結構，使激光的走線既能提高效率，避免鐳射痕跡，又能更好保障功能效果，不易于短路，提升產品的可靠性，穩定性，經濟性。

技術領域

本發明涉及觸摸屏領域，具體涉及一種電阻觸摸屏及其制作方法。

背景技術

觸摸屏技術應用在一些工業和商業設備中，例如POS終端機等。觸摸屏技術在很大程度上方便了人機交互，觸摸屏本身又很堅固耐用,這些特點都讓觸摸屏技術有了很大的應用和發展。利用觸摸屏技術，用戶只要用手指點擊相應的觸控圖案，就可以解決過去繁雜的操作問題，極大的方便了用戶。電阻屏的上下層線路主要采用透明的ITO(銦錫氧化物)材料，制作觸摸屏時需要對ITO進行圖形化，目前常用的圖形化工藝是采用藥液蝕刻的方法，藥液蝕刻主要是酸性藥性將ITO腐蝕，再清洗形成線路，制作過程會會產生較多的污水需要處理，同時也要用到大量清水清洗清洗，不經濟，不環保。另一個圖形化的方法為激光鐳射ITO，但現有鐳射時需要將大量的ITO鐳射去掉，如果激光線密集走線，會嚴重影響鐳射效率，不經濟，也會產生鐳射痕跡影響產品外觀，如不密集走線容易產生產品短路問題，使產品有較大的質量風險和良率的損失。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種電阻觸摸屏及其制作方法，不使用酸性藥液對ITO進行圖形化，具有加工簡單，不產生大量廢水、污水的，采用創新的ITO圖形，使產品穩定、經濟、環保。

本發明解決上述技術問題的技術方案如下：一種電阻觸摸屏，包括ITO導電基材，所述ITO導電基材上印刷有銀漿線路，在印刷有銀漿線路的ITO導電基材上通過激光鐳射對沒有被銀漿線路遮擋的ITO進行圖形化形成電路，所述電路包括綁定區、功能DUMMY區和無功能DUMMY區；激光鐳射ITO形成鐳射線，所述綁定區和所述無功能DUMMY區通過激光鐳射形成有ITO塊，且所述綁定區中激光鐳射線的密度大于所述無功能DUMMY區中激光鐳射線的密度。

本發明的有益效果是：本發明采用鐳射激光對ITO進行圖形化，具有加工簡單，不產生大量廢水、污水的優點，同時通過創新設計結構，使激光的走線既能提高效率，避免鐳射痕跡，又能更好保障功能效果，不易于短路，提升產品的可靠性，穩定性，經濟性。

在上述技術方案的基礎上，本發明還可以做如下改進。

進一步，激光鐳射形成電路時的鐳射寬度范圍為15～50um。

進一步，所述功能DUMMY區中設有隔開位置，所述隔開位置通過激光鐳射形成有隔離線路，形成隔離線路時激光鐳射的次數范圍為2～5次，且每次激光鐳射時的鐳射寬度范圍為10～40um。

采用上述進一步方案的有益效果是：在功能DUMMY區需要鐳射隔開的位置，需要鐳射2～5次，每次的間距為10～40um，以確保ITO被鐳開而大大降低短路風險。

進一步，靠近所述銀漿線路的鐳射線與銀漿線路之間的距離大于30um，且大于一倍光斑。

進一步，在所述無功能DUMMY區中，通過激光橫豎鐳射形成有多個ITO塊，所述無功能DUMMY區中的每個所述ITO塊的寬度范圍均為0.2～3mm。

采用上述進一步方案的有益效果是：通過激光橫豎鐳射形成有多個ITO塊，避免綁定的各向異性導電膠中導電粒子短路。