[發(fā)明專利]一種電阻觸摸屏及其制作方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010723158.7
• 申請(qǐng)日: 2020-07-24
• 公開（公告）號(hào): CN111796722A
• 公開（公告）日: 2020-10-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳加國;徐尚;徐濤濤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 長沙市宇順顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G06F3/041
• 分類號(hào): G06F3/041;G06F3/045
• 代理公司: 北京輕創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11212
• 代理人: 姜展志

1.一種電阻觸摸屏，其特征在于：包括ITO導(dǎo)電基材，所述ITO導(dǎo)電基材上印刷有銀漿線路，在印刷有銀漿線路的ITO導(dǎo)電基材上通過激光鐳射對(duì)沒有被銀漿線路遮擋的ITO進(jìn)行圖形化形成電路，所述電路包括綁定區(qū)、功能DUMMY區(qū)和無功能DUMMY區(qū)；激光鐳射ITO形成鐳射線，所述綁定區(qū)和所述無功能DUMMY區(qū)通過激光鐳射形成有ITO塊，且所述綁定區(qū)中激光鐳射線的密度大于所述無功能DUMMY區(qū)中激光鐳射線的密度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻觸摸屏，其特征在于：激光鐳射形成電路時(shí)的鐳射寬度范圍為15～50um。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電阻觸摸屏，其特征在于：所述功能DUMMY區(qū)中設(shè)有隔開位置，所述隔開位置通過激光鐳射形成有隔離線路，形成隔離線路時(shí)激光鐳射的次數(shù)范圍為2～5次，且每次激光鐳射時(shí)的鐳射寬度范圍為10～40um。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的電阻觸摸屏，其特征在于：靠近所述銀漿線路的鐳射線與銀漿線路之間的距離大于30um，且大于一倍光斑。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的電阻觸摸屏，其特征在于：在所述無功能DUMMY區(qū)中，通過激光橫豎鐳射形成有多個(gè)ITO塊，所述無功能DUMMY區(qū)中的每個(gè)所述ITO塊的寬度范圍均為0.2～3mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的電阻觸摸屏，其特征在于：所述銀漿線路上設(shè)有引線端子，所述引線端子位于所述綁定區(qū)中，在所述綁定區(qū)中且位于非引線端子的位置上，通過激光橫豎鐳射形成有多個(gè)ITO塊，所述綁定區(qū)中的每個(gè)所述ITO塊的寬度均小于0.3mm。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的電阻觸摸屏，其特征在于：所述綁定區(qū)中設(shè)有多個(gè)相間設(shè)置的所述引線端子，在相鄰兩個(gè)所述引線端子之間，通過激光鐳射形成有激光鐳射密集區(qū)域，在所述激光鐳射密集區(qū)域中，相鄰兩條鐳射線之間的線距范圍為10～30um，所述激光鐳射密集區(qū)域的寬度大于0.5mm，所述激光鐳射密集區(qū)域的長度小于等于最短引線端子的長度。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的電阻觸摸屏，其特征在于：銀漿線路通過網(wǎng)版印刷在所述ITO導(dǎo)電基材上。

9.一種電阻觸摸屏的制作方法，其特征在于：包括以下步驟，

在ITO導(dǎo)電基材上印刷導(dǎo)電銀漿并固化，形成銀漿線路；

在印刷有銀漿線路的ITO導(dǎo)電基材上通過激光鐳射對(duì)沒有被銀漿線路遮擋的ITO進(jìn)行圖形化，形成綁定區(qū)、功能DUMMY區(qū)和無功能DUMMY區(qū)；

其中，激光鐳射ITO形成鐳射線，所述綁定區(qū)和所述無功能DUMMY區(qū)通過激光鐳射形成有ITO塊，且所述綁定區(qū)中激光鐳射線的密度大于所述無功能DUMMY區(qū)中激光鐳射線的密度。