[發(fā)明專利]一種研磨平臺(tái)的振動(dòng)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)及振動(dòng)監(jiān)測(cè)方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010722645.1
• 申請(qǐng)日: 2020-07-24
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN113970370A
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 葉順成
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 泉芯集成電路制造（濟(jì)南）有限公司
• 主分類號(hào): G01H17/00
• 分類號(hào): G01H17/00
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 駱宗力

本申請(qǐng)公開(kāi)了一種研磨平臺(tái)的振動(dòng)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)及振動(dòng)監(jiān)測(cè)方法，其中，所述研磨平臺(tái)的振動(dòng)檢測(cè)系統(tǒng)在皮帶的傳送面兩側(cè)分別設(shè)置第一監(jiān)測(cè)模塊和第二監(jiān)測(cè)模塊，并利用第一監(jiān)測(cè)模塊向所述皮帶的傳送面發(fā)送監(jiān)測(cè)信號(hào)，利用所述第二監(jiān)測(cè)模塊接收除被所述皮帶遮擋的監(jiān)測(cè)信號(hào)外剩余的監(jiān)測(cè)信號(hào)，并根據(jù)接收到的監(jiān)測(cè)信號(hào)監(jiān)測(cè)所述皮帶的異常狀態(tài)，實(shí)現(xiàn)對(duì)研磨平臺(tái)的工作狀態(tài)的監(jiān)測(cè)，為判斷研磨平臺(tái)的工作狀態(tài)是否異常奠定了基礎(chǔ)，解決了現(xiàn)有技術(shù)中由于皮帶的異常振動(dòng)而導(dǎo)致研磨平臺(tái)對(duì)晶圓的異常研磨的問(wèn)題，避免了因此問(wèn)題而導(dǎo)致的晶圓破損或晶圓制程不良。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說(shuō)，涉及一種研磨平臺(tái)的振動(dòng)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)及振動(dòng)監(jiān)測(cè)方法。

背景技術(shù)

在芯片制造及晶圓加工過(guò)程中，化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical MechanicalPolishing，CMP)是獲得無(wú)劃痕、平坦和無(wú)雜質(zhì)玷污表面的重要步驟，該步驟也可稱為研磨步驟。

在現(xiàn)有的研磨平臺(tái)工作過(guò)程中，可能會(huì)由于傳動(dòng)系統(tǒng)的異常振動(dòng)而導(dǎo)致研磨平臺(tái)對(duì)晶圓的異常研磨，從而導(dǎo)致晶圓破損或晶圓制程不良。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N研磨平臺(tái)的振動(dòng)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)及振動(dòng)監(jiān)測(cè)方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中由于傳動(dòng)系統(tǒng)的異常振動(dòng)而導(dǎo)致掩膜平臺(tái)對(duì)晶圓的異常研磨的問(wèn)題。

為實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了如下技術(shù)方案：

一種研磨平臺(tái)的振動(dòng)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)，用于監(jiān)測(cè)研磨平臺(tái)的皮帶，所述研磨平臺(tái)的振動(dòng)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)包括：

分別設(shè)置于所述皮帶的傳送面兩側(cè)的第一監(jiān)測(cè)模塊和第二監(jiān)測(cè)模塊；其中，

所述第一監(jiān)測(cè)模塊用于發(fā)送監(jiān)測(cè)信號(hào)，所述第二監(jiān)測(cè)模塊用于根據(jù)接收到的監(jiān)測(cè)信號(hào)監(jiān)測(cè)所述皮帶的異常狀態(tài)。

可選的，所述第一監(jiān)測(cè)模塊的信號(hào)發(fā)送區(qū)域的長(zhǎng)度大于所述皮帶的寬度；

所述第二監(jiān)測(cè)模塊的信號(hào)接收區(qū)域的長(zhǎng)度大于所述皮帶的寬度。

可選的，所述第一監(jiān)測(cè)模塊的信號(hào)發(fā)送區(qū)域在所述皮帶上的正投影完全覆蓋所述皮帶；

所述第二監(jiān)測(cè)模塊的信號(hào)接收區(qū)域在所述皮帶上的正投影完全覆蓋所述皮帶。

可選的，所述第一監(jiān)測(cè)模塊發(fā)送的監(jiān)測(cè)信號(hào)部分被所述皮帶遮擋，剩余部分被所述第二監(jiān)測(cè)模塊接收。

可選的，所述第二監(jiān)測(cè)模塊根據(jù)接收的所述監(jiān)測(cè)信號(hào)在所述信號(hào)接收區(qū)域上的分布，確定所述皮帶是否出現(xiàn)異常狀態(tài)，所述異常狀態(tài)包括位置異常和振動(dòng)異常。

可選的，還包括：控制模塊；

所述第二監(jiān)測(cè)模塊還用于在確定所述皮帶出現(xiàn)異常狀態(tài)時(shí)，向所述控制模塊發(fā)送第一停止指令；

所述控制模塊，用于在接收到所述第一停止指令后，控制所述研磨平臺(tái)停止工作。

可選的，所述第一監(jiān)測(cè)模塊還用于接收所述皮帶反射的所述監(jiān)測(cè)信號(hào)，并根據(jù)所述皮帶反射的所述監(jiān)測(cè)信號(hào)判斷所述皮帶是否出現(xiàn)振動(dòng)異常。

可選的，所述第一監(jiān)測(cè)模塊還用于在判斷所述皮帶出現(xiàn)振動(dòng)異常時(shí)，向所述控制模塊發(fā)送第二停止指令；

所述控制模塊，還用于在接收到所述第二停止指令后，控制所述研磨平臺(tái)停止工作。

一種研磨平臺(tái)的振動(dòng)監(jiān)測(cè)方法，用于監(jiān)測(cè)掩膜平臺(tái)的皮帶，所述研磨平臺(tái)的振動(dòng)監(jiān)測(cè)方法包括：

在所述皮帶的傳送面一側(cè)，朝向所述皮帶發(fā)送監(jiān)測(cè)信號(hào)；

在所述皮帶的傳送面的另一側(cè)，接收所述監(jiān)測(cè)信號(hào)，并根據(jù)所述監(jiān)測(cè)信號(hào)監(jiān)測(cè)所述皮帶的異常狀態(tài)。