[發(fā)明專利]一種研磨平臺的振動監(jiān)測系統(tǒng)及振動監(jiān)測方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010722645.1
• 申請日: 2020-07-24
• 公開（公告）號: CN113970370A
• 公開（公告）日: 2022-01-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 葉順成
• 申請（專利權(quán)）人: 泉芯集成電路制造（濟(jì)南）有限公司
• 主分類號: G01H17/00
• 分類號: G01H17/00
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 駱宗力

1.一種研磨平臺的振動監(jiān)測系統(tǒng)，其特征在于，用于監(jiān)測研磨平臺的皮帶，所述研磨平臺的振動監(jiān)測系統(tǒng)包括：

分別設(shè)置于所述皮帶的傳送面兩側(cè)的第一監(jiān)測模塊和第二監(jiān)測模塊；其中，

所述第一監(jiān)測模塊用于發(fā)送監(jiān)測信號，所述第二監(jiān)測模塊用于根據(jù)接收到的監(jiān)測信號監(jiān)測所述皮帶的異常狀態(tài)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的研磨平臺的振動監(jiān)測系統(tǒng)，其特征在于，所述第一監(jiān)測模塊的信號發(fā)送區(qū)域的長度大于所述皮帶的寬度；

所述第二監(jiān)測模塊的信號接收區(qū)域的長度大于所述皮帶的寬度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的研磨平臺的振動監(jiān)測系統(tǒng)，其特征在于，所述第一監(jiān)測模塊的信號發(fā)送區(qū)域在所述皮帶上的正投影完全覆蓋所述皮帶；

所述第二監(jiān)測模塊的信號接收區(qū)域在所述皮帶上的正投影完全覆蓋所述皮帶。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的研磨平臺的振動監(jiān)測系統(tǒng)，其特征在于，所述第一監(jiān)測模塊發(fā)送的監(jiān)測信號部分被所述皮帶遮擋，剩余部分被所述第二監(jiān)測模塊接收。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的研磨平臺的振動監(jiān)測系統(tǒng)，其特征在于，所述第二監(jiān)測模塊根據(jù)接收的所述監(jiān)測信號在所述信號接收區(qū)域上的分布，確定所述皮帶是否出現(xiàn)異常狀態(tài)，所述異常狀態(tài)包括位置異常和振動異常。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的研磨平臺的振動監(jiān)測系統(tǒng)，其特征在于，還包括：控制模塊；

所述第二監(jiān)測模塊還用于在確定所述皮帶出現(xiàn)異常狀態(tài)時(shí)，向所述控制模塊發(fā)送第一停止指令；

所述控制模塊，用于在接收到所述第一停止指令后，控制所述研磨平臺停止工作。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的研磨平臺的振動監(jiān)測系統(tǒng)，其特征在于，所述第一監(jiān)測模塊還用于接收所述皮帶反射的所述監(jiān)測信號，并根據(jù)所述皮帶反射的所述監(jiān)測信號判斷所述皮帶是否出現(xiàn)振動異常。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的研磨平臺的振動監(jiān)測系統(tǒng)，其特征在于，所述第一監(jiān)測模塊還用于在判斷所述皮帶出現(xiàn)振動異常時(shí)，向所述控制模塊發(fā)送第二停止指令；

所述控制模塊，還用于在接收到所述第二停止指令后，控制所述研磨平臺停止工作。

9.一種研磨平臺的振動監(jiān)測方法，其特征在于，用于監(jiān)測掩膜平臺的皮帶，所述研磨平臺的振動監(jiān)測方法包括：

在所述皮帶的傳送面一側(cè)，朝向所述皮帶發(fā)送監(jiān)測信號；

在所述皮帶的傳送面的另一側(cè)，接收所述監(jiān)測信號，并根據(jù)所述監(jiān)測信號監(jiān)測所述皮帶的異常狀態(tài)。