[發(fā)明專利]用于保護(hù)在存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)的方法與對(duì)應(yīng)的集成電路在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010715662.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-07-23 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112307524A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | P·弗納拉;F·馬里內(nèi)特 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 意法半導(dǎo)體(魯塞)公司 |
| 主分類號(hào): | G06F21/79 | 分類號(hào): | G06F21/79;H01L23/00;H01L23/522 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 董莘 |
| 地址: | 法國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 保護(hù) 存儲(chǔ)器 存儲(chǔ) 數(shù)據(jù) 方法 對(duì)應(yīng) 集成電路 | ||
本公開(kāi)的實(shí)施例涉及用于保護(hù)在存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)的方法與對(duì)應(yīng)的集成電路。一種集成電路存儲(chǔ)器,包括:狀態(tài)晶體管,具有浮置柵極,該狀態(tài)晶體管存儲(chǔ)相應(yīng)數(shù)據(jù)值。一種器件,用于保護(hù)在存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的數(shù)據(jù),包括電容性結(jié)構(gòu),該電容性結(jié)構(gòu)具有耦合到狀態(tài)晶體管的浮置柵極的第一導(dǎo)電體、介電體、以及耦合到接地端子的第二導(dǎo)電體。介電體被配置為,如果水溶液與介電體接觸,則電耦合浮置柵極和接地端子,以便修改在浮置柵極上的電荷,并且丟失對(duì)應(yīng)數(shù)據(jù),否則電隔離浮置柵極和接地端子。
本申請(qǐng)要求于2019年7月24日提交的法國(guó)專利申請(qǐng)第1908376號(hào)的優(yōu)先權(quán)權(quán)益,該申請(qǐng)的全部?jī)?nèi)容在通過(guò)法律可允許的最大范圍內(nèi),通過(guò)引用的方式并入本文。
技術(shù)領(lǐng)域
各個(gè)實(shí)施例及其實(shí)現(xiàn)方式涉及保護(hù)在集成電路存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的數(shù)據(jù),尤其是涉及防止逆向工程。
背景技術(shù)
逆向工程技術(shù)可以使得能夠重構(gòu)集成電路的整個(gè)物理結(jié)構(gòu),并且還能夠恢復(fù)在集成電路的非易失性存儲(chǔ)器內(nèi)包含的數(shù)據(jù),特別是秘密數(shù)據(jù)。
例如,如果數(shù)據(jù)構(gòu)成用于分析集成電路的操作的關(guān)鍵元素,或者如果數(shù)據(jù)包含加密密鑰/解密密鑰、標(biāo)識(shí)信息或認(rèn)證信息,或者出于任何其他原因,則數(shù)據(jù)必須被保密。
從非易失性存儲(chǔ)器中恢復(fù)數(shù)據(jù)通常包括納米探測(cè)技術(shù)、無(wú)源電壓對(duì)比(PVC)技術(shù)、或電子束感應(yīng)電流(EBIC)技術(shù)。
這些技術(shù)需要經(jīng)由前面來(lái)訪問(wèn)集成電路的逆向分析部分,以便使探針通常與集成電路的逆向分析部分接觸,或者經(jīng)由后面訪問(wèn)集成電路的逆向分析部分,以便訪問(wèn)存儲(chǔ)器單元的浮置柵極。
常規(guī)地,前面是集成電路的半導(dǎo)體襯底的面,在該面上形成了晶體管,并且通常在其頂部上找到互連部分(通常由“線路后段(Back End of Line)”的首字母縮寫B(tài)EOL指示)。
后面是與襯底的前面相對(duì)的面。
為了獲得對(duì)集成電路的逆向分析部分的訪問(wèn),集成電路通常以機(jī)械方式、通過(guò)使用聚焦離子束(FIB)、或通過(guò)等離子體燒蝕進(jìn)行加工。
前面的機(jī)械加工或化學(xué)機(jī)械加工尤其允許逐級(jí)延遲互連部分,以便重構(gòu)互連。機(jī)械加工通常包括用水、或潛在地用在水溶液中的化合物潤(rùn)滑的機(jī)械拋光。在后面上,這種技術(shù)允許減薄電路。
通過(guò)聚焦離子束FIB進(jìn)行加工,允許實(shí)現(xiàn)納米蝕刻,例如以便經(jīng)由后面到達(dá)浮置柵極附近,以便例如通過(guò)PVC或EBIC觀察浮置柵極的電行為,并且由此推斷出所存儲(chǔ)的信息。經(jīng)由前面,F(xiàn)IB技術(shù)還允許訪問(wèn)互連層級(jí)。
如果集成電路沒(méi)有加電、或如果集成電路的功能被破壞,則用于檢測(cè)逆向工程的傳統(tǒng)器件針對(duì)檢測(cè)上述方法無(wú)效。
因此,期望的是,改善用于保護(hù)在集成電路存儲(chǔ)器內(nèi)存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)、并且防止所有類型的攻擊的技術(shù)。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)一方面,提供了用于保護(hù)在集成電路的存儲(chǔ)器中存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)的方法,包括:制造存儲(chǔ)器,包括:制造至少一個(gè)狀態(tài)晶體管,至少一個(gè)晶體管包括浮置柵極;以及將相應(yīng)數(shù)據(jù)值寫入到每個(gè)狀態(tài)晶體管中,包括:將表示數(shù)據(jù)的電荷存儲(chǔ)在狀態(tài)晶體管的浮置柵極中;制造保護(hù)器件,包括:針對(duì)至少一個(gè)狀態(tài)晶體管,形成至少一個(gè)電容性結(jié)構(gòu),至少一個(gè)電容性結(jié)構(gòu)包括耦合到狀態(tài)晶體管的浮置柵極的第一導(dǎo)電體、介電體、以及耦合到接地端子的第二導(dǎo)電體,其中介電體被配置為,如果水溶液與介電體接觸,則電耦合浮置柵極和接地端子,以便修改在浮置柵極上的電荷、并且丟失對(duì)應(yīng)數(shù)據(jù),否則用于電隔離浮置柵極和接地端子。
換句話說(shuō),存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的狀態(tài)晶體管連接到電容性結(jié)構(gòu),該電容性結(jié)構(gòu)起著天線的作用,其目的是在逆向工程的情況下丟失存儲(chǔ)的信息。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于意法半導(dǎo)體(魯塞)公司,未經(jīng)意法半導(dǎo)體(魯塞)公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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G06F 電數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)處理
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G06F21-02 .通過(guò)保護(hù)計(jì)算機(jī)的特定內(nèi)部部件
G06F21-04 .通過(guò)保護(hù)特定的外圍設(shè)備,如鍵盤或顯示器
G06F21-06 .通過(guò)感知越權(quán)操作或外圍侵?jǐn)_
G06F21-20 .通過(guò)限制訪問(wèn)計(jì)算機(jī)系統(tǒng)或計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)中的節(jié)點(diǎn)
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