[發明專利]一種基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器在審
| 申請號： | 202010710544.2 | 申請日： | 2020-07-22 |
| 公開（公告）號： | CN112030134A | 公開（公告）日： | 2020-12-04 |
| 發明（設計）人： | 孫耀明;彭曉華;陳壽;王鑫;李彥灼;劉曉東;江俊靈;肖艷蘋 | 申請（專利權）人： | 深圳市八六三新材料技術有限責任公司 |
| 主分類號： | C23C16/40 | 分類號： | C23C16/40;C23C16/511;C23C14/06;C23C14/10;C23C14/30;C23C14/35;C23C28/04 |
| 代理公司： | 深圳市君勝知識產權代理事務所(普通合伙) 44268 | 代理人： | 劉芙蓉;謝松 |
| 地址： | 518117 廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基于 微波 等離子體 化學 沉積 阻隔 容器 | ||
1.一種基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器，其特征在于，所述基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器的一端設置有開口；
所述基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器包括：透明容器壁，設置在所述透明容器壁內壁上采用微波等離子化學氣相沉積的納米阻隔層、設置在所述透明容器壁外壁上采用物理氣相沉積的第一介質層、設置在所述第一介質層上表面采用物理氣相沉積的第二介質層，其中，所述第二介質層的折射率低于所述第一介質層的折射率；
所述納米阻隔層、透明容器壁、第一介質層和第二介質層組成光學干涉膜，呈現出顏色。
2.根據權利要求1所述的基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器，其特征在于，所述透明容器壁為聚酯透明容器壁、聚丙烯透明容器壁、聚甲基丙烯酸甲酯透明容器壁中的一種。
3.根據權利要求1所述的基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器，其特征在于，所述納米阻隔層為氧化鋯納米阻隔層，氧化鈦納米阻隔層，氧化鉭納米阻隔層中的一種。
4.根據權利要求1所述的基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器，其特征在于，所述第一介質層為氧化鋯介質層，氧化鈦介質層，氧化鉭介質層，氧化鉿介質層中的一種。
5.根據權利要求1所述的基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器，其特征在于，所述第二介質層為氧化硅介質層，氟化鎂介質層中的一種。
6.根據權利要求1所述的基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器，其特征在于，所述納米阻隔層的厚度為20～120nm。
7.根據權利要求1所述的基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器，其特征在于，所述第一介質層的厚度為20～120nm。
8.根據權利要求1所述的基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器，其特征在于，所述第二介質層的厚度為30～200nm。
9.根據權利要求1所述的基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器，其特征在于，所述微波等離子化學氣相沉積中采用的沉積溫度為90～120℃。
10.根據權利要求1所述的基于微波等離子體化學氣相沉積的阻隔容器，其特征在于，所述物理氣相沉積為磁控濺射沉積、電子束蒸發沉積中的一種。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
