[發明專利]基于人臉軌跡的精神病患者的危險程度分析方法和系統

在審

• 申請號: 202010700797.1
• 申請日: 2020-07-20
• 公開（公告）號: CN111883254A
• 公開（公告）日: 2020-11-03
• 發明（設計）人: 范志建;李仁杰;吳俊;陳積銀;張翔;江文濤
• 申請（專利權）人: 羅普特科技集團股份有限公司;羅普特（廈門）系統集成有限公司
• 主分類號: G16H50/30
• 分類號: G16H50/30;G06K9/00
• 代理公司: 廈門福貝知識產權代理事務所(普通合伙) 35235
• 代理人: 陳遠洋

本發明給出了一種基于人臉軌跡的精神病患者的危險程度分析方法，其特征在于，包括：獲取精神病患者的基本信息，建立基礎模型分值；利用人臉識別引擎獲取與精神病患者的人臉特征相似度大于第一閾值的人臉軌跡集合，并記錄人臉軌跡集合中與精神病患者在同一抓拍設備上出現的人臉特征，獲取精神病患者的同行人員信息；基于人臉軌跡集合中的活動天數、同行人員信息、出現地點以及出現時間計算獲得精神病患者的人臉活動軌跡模型分值；綜合基礎模型分值和人臉活動軌跡模型分值獲得精神病患者的危險程度分值。利用該方法可以對精神病患者進行危險程度分析，便于對其進行監管。

技術領域

本發明涉及人臉識別的技術領域，尤其是基于人臉軌跡的精神病患者的危險程度分析方法和系統。

背景技術

隨著城市建設的發展，前端攝像頭幾乎無處不在，人臉識別技術也不斷完善，準確性大大的提升，人臉數據已經變成人員軌跡數據中的重要組成部分。為了加強對精神病患者的管控，結合人臉軌跡數據，做一些分析模型，解決對精神病患者管控難的問題。

目前大部分精神病患者都是在家療養，而且有些并沒有監護人照看，這就容易造成患者精神病復發。現階段缺少對在家療養的精神病患者的管控措施，對精神病患者的管控措施基本局限于定期安排一些工作人員上門訪查，這樣的措施嚴重耗費人力，而且效率過低，另外就是針對醫院的一些數據記錄進行分析，但也無法全面了解精神病患者的近況，對精神病患者的管控十分不利。

發明內容

為了解決現有技術中對精神病患者的管控難、難以全面了解精神病患者的近況的技術問題，本發明提出了基于人臉軌跡的精神病患者的危險程度分析方法和系統，結合人臉軌跡數據，做出一些分析模型，解決對精神病患者管控難的問題。

在一個方面，本發明提出了基于人臉軌跡的精神病患者的危險程度分析方法，包括以下步驟：

S1：獲取精神病患者的基本信息，建立基礎模型分值；

S2：利用人臉識別引擎獲取與精神病患者的人臉特征相似度大于第一閾值的人臉軌跡集合，并記錄人臉軌跡集合中與精神病患者在同一抓拍設備上出現的人臉特征，獲取精神病患者的同行人員信息；

S3：基于人臉軌跡集合中的活動天數、同行人員信息、出現地點以及出現時間計算獲得精神病患者的人臉活動軌跡模型分值；以及

S4：綜合基礎模型分值和人臉活動軌跡模型分值獲得精神病患者的危險程度分值。

優選的，步驟S1中的基礎模型分值的建立具體包括：

響應于精神病患者的性別為男性、年齡介于18-40歲之間、屬于重點管控人員或病情期間有暴力傾向，基礎模型分值增加。利用一些重點關注人群的條件限定來增加相應危險程度人員的分值，利于進行精神病患者的管控。

優選的，步驟S2中第一閾值設置為85％。憑借第一閾值的設置可以便于獲取出精神病患者的人臉軌跡。

進一步優選的，步驟S2中同行人員信息的具體計算方式如下：

對抓拍設備進行分組，對第一時間段內在同一抓拍設備獲取的人臉特征兩兩計算同行一次，下一時間段在相同抓拍設備獲取相同的同行人員信息覆蓋前一同行次數；

刪除人臉軌跡集合中預設時間段中同行次數僅有一次的記錄。

優選的，步驟S3中的人臉活動軌跡模型分值具體包括：

在預設時間段T1中，獲取人臉軌跡集合中的精神病患者的活動天數，人臉活動軌跡模型分值增加；

響應于人臉軌跡集合中的精神病患者的活動軌跡無同行人員，人臉活動軌跡模型分值增加；

響應于人臉軌跡集合中的精神病患者在人員密集地點出現的天數大于第一天數閾值，人臉活動軌跡模型分值增加；