[發明專利]局部表面涂層缺陷修補工藝

在審

• 申請號: 202010691864.8
• 申請日: 2020-07-17
• 公開（公告）號: CN112239861A
• 公開（公告）日: 2021-01-19
• 發明（設計）人: J·麥洛阿;G·薩姆索尼茲;M·科恩布魯斯;S·金;B·科津斯基;J·克里斯滕森
• 申請（專利權）人: 羅伯特·博世有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 楊婧妍;王瑋

本發明涉及局部表面涂層缺陷修補工藝。一種生產涂層的方法。方法包括確定基體上的涂層的表面缺陷區域和表面缺陷的位置。方法還包括通過使用SALD反應器經由空間原子層沉積（SALD）基于表面缺陷的位置向表面缺陷區域施加校正涂層區域來選擇性地且局部地校正表面缺陷。

技術領域

本公開涉及局部表面涂層缺陷工藝，并且在某些實施例中，使用空間原子層沉積（SALD）進行局部表面涂層缺陷修補。

背景技術

基體可以被涂覆以產生基體的期望表面性能。這種表面性能的非限制性示例可以包括抗耐腐蝕性、電子傳導性、離子傳導性、絕緣性、電子表面鈍化、防結冰、防生物污染、自清潔和超疏水性。被涂覆基體可以在許多應用和行業中被使用。被涂覆基體的應用和行業的非限制性示例包括汽車、建筑和家用電器。汽車行業中的一種具體應用是在燃料電池的部件（包括雙極板（BPP））中使用的金屬的涂層。在許多應用中，期望完整、保形且無缺陷的涂層，這因為相對少量的涂層缺陷可以導致涂層無法實現其預期目的。

發明內容

根據一個實施例，公開了生產涂層的方法。方法包括確定基體上的涂層的表面缺陷區域和表面缺陷的位置。方法還包括通過使用SALD反應器經由空間原子層沉積（SALD）基于表面缺陷的位置向表面缺陷區域施加校正涂層區域來選擇性地且局部地校正表面缺陷。

根據另一實施例，公開了生產涂層的方法。方法包括確定在縱向方向上運動的基體上的涂層的表面缺陷區域和表面缺陷的位置。方法還包括通過在運動基體正在縱向方向上運動的同時使用SALD反應器經由空間原子層沉積（SALD）基于表面缺陷的位置向表面缺陷區域施加校正涂層區域來選擇性地且局部地校正表面缺陷。

根據又一實施例，公開了在基體上生產涂層的方法。方法包括確定在縱向方向上運動的基體上的第一材料的涂層的表面缺陷區域和表面缺陷的位置。方法還包括通過在運動基體正在縱向方向上運動的同時使用SALD反應器經由空間原子層沉積（SALD）基于表面缺陷的位置向表面缺陷區域施加第二材料的校正涂層來選擇性地且局部地校正表面缺陷。

附圖說明

圖1是根據一個實施例的內聯（inline）涂層系統的示意圖。

圖2是根據一個實施例的被涂覆基體的示意性俯視圖。

圖3是沿著圖2的線3-3截取的缺陷區域的橫截面圖。

圖4是作為圖1中所示的內聯涂層系統的一個組成部分的SALD系統的示意性立體圖。

圖5是圖4中所示的SALD系統的反應物腔室102的橫截面圖。

具體實施方式

在本文中描述了本公開的實施例。不過應該理解的是，公開的實施例僅僅是示例并且其它的實施例能夠采取各種且替代性形式。附圖不必按比例繪制的；一些特征可以被放大或最小化以示出特定部件的細節。因此，本文中描述的具體結構和功能細節不應被解釋為限制性的，而是僅僅作為用于教導本領域技術人員以各種方式應用實施例的代表性基礎。如本領域普通技術人員將理解的，參考任何一幅附圖圖示和描述的各種特征能夠與一個或多個其它附圖中的特征相組合來產生沒有被明確圖示或描述的實施例。所圖示特征的組合提供了典型應用的代表性實施例。不過對于特定的應用或實施方式，能夠期望與本公開的教導一致的特征的各種組合和修改。